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公开(公告)号：KR1020150004326A
公开(公告)日：2015-01-12
申请号：KR1020147026466
申请日：2013-04-01
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67161 , B25J11/0095 , H01J37/32091 , H01J37/32899 , H01L21/67126 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67703 , H01L21/67733 , H01L21/67736
Abstract: 복수의 처리 챔버를 구비하는 경우에 있어서, 작업 스페이스를 포함한 기판 처리 장치의 배치 스페이스를 유효 이용할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 제 1 처리 챔버, 제 2 처리 챔버, 반송 챔버, 프레임 구조체 및 승강부를 구비한다. 제 1 처리 챔버 및 제 2 처리 챔버는 본체부 및 덮개부를 구비하고, 처리 공간을 내부에 형성한다. 반송 챔버는 제 1 처리 챔버 및 제 2 처리 챔버와 접속되고, 기판을 반송하기 위한 반송 기구가 수용되어 있다. 프레임 구조체는 한쌍의 지주부, 및 한쌍의 지주부의 정부에 지지된 비임부를 구비한다. 승강부는 비임부에 수평 방향으로 이동 가능하게 장착되고, 덮개부를 수직 방향으로 이동시킨다. 비임부는 제 1 처리 챔버, 제 2 처리 챔버 및 반송 챔버의 상방을 횡단해서 연장한다.
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公开(公告)号：KR1020170110025A
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：KR1020170033677
申请日：2017-03-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 고이와신고
IPC: H01L21/67 , H01L21/324 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6833 , H01J37/32192 , H01J37/32697 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01J2237/32 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/6831
Abstract: 처리장치는, 정전척 및냉각대를갖는재치대를구비한다. 정전척과냉각대의사이에는, 복수의전열공간이마련되어있다. 복수의전열공간은, 정전척의중심축선에대하여동심형상으로마련되어있고, 서로분리되어있다. 처리장치는, 배관계를더 구비한다. 배관계는, 복수의전열공간의각각을, 칠러유닛, 전열가스의소스, 및배기장치에선택적으로접속하도록구성되어있다.
Abstract translation: 处理装置具有带静电卡盘和冷却台的工作台。 在静电吸盘和冷却台之间设有多个传热空间。 多个传热空间相对于静电吸盘的中心轴线同心地设置，并且彼此分离。 处理设备还包括管道系统。 管道系统构造成选择性地将多个传热空间中的每一个连接到冷却器单元，传热气体源和排气装置。
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