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公开(公告)号：KR1020060054137A
公开(公告)日：2006-05-22
申请号：KR1020050104040
申请日：2005-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32642 , H01L21/67069
Abstract: 처리용기내의 탑재대에 탑재된 기판의 표면에 대해 플라즈마에 의해 에칭을 행하는 플라즈마 에칭 장치에 있어서, 기판의 주위를 둘러싸도록 포커스링이 설치된다. 포커스링은, 그 표면의 내측 부근에 있어서, 에칭처리시의 반응생성물이 포착되지 않을 정도로 평균표면조도 Ra가 작게 마무리가공된 제 1 영역을 갖고, 제 1 영역보다도 외측에는, 반응생성물이 포착될 정도로 평균표면조도 Ra가 크게 마무리가공된 제 2 영역을 갖는다. 제 1 영역 및 제 2 영역의 경계는, 포커스링을 플라즈마에칭장치에 조립하고, 기판에 대하여 플라즈마에 의해 에칭을 행한 때에 소모의 정도가 다른 부위보다 상대적으로 크게 변하는 부위이다.
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公开(公告)号：KR1020150004326A
公开(公告)日：2015-01-12
申请号：KR1020147026466
申请日：2013-04-01
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67161 , B25J11/0095 , H01J37/32091 , H01J37/32899 , H01L21/67126 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67703 , H01L21/67733 , H01L21/67736
Abstract: 복수의 처리 챔버를 구비하는 경우에 있어서, 작업 스페이스를 포함한 기판 처리 장치의 배치 스페이스를 유효 이용할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 제 1 처리 챔버, 제 2 처리 챔버, 반송 챔버, 프레임 구조체 및 승강부를 구비한다. 제 1 처리 챔버 및 제 2 처리 챔버는 본체부 및 덮개부를 구비하고, 처리 공간을 내부에 형성한다. 반송 챔버는 제 1 처리 챔버 및 제 2 처리 챔버와 접속되고, 기판을 반송하기 위한 반송 기구가 수용되어 있다. 프레임 구조체는 한쌍의 지주부, 및 한쌍의 지주부의 정부에 지지된 비임부를 구비한다. 승강부는 비임부에 수평 방향으로 이동 가능하게 장착되고, 덮개부를 수직 방향으로 이동시킨다. 비임부는 제 1 처리 챔버, 제 2 처리 챔버 및 반송 챔버의 상방을 횡단해서 연장한다.
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公开(公告)号：KR100686763B1
公开(公告)日：2007-02-26
申请号：KR1020050104040
申请日：2005-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
Abstract: 처리용기내의 탑재대에 탑재된 기판의 표면에 대해 플라즈마에 의해 에칭을 행하는 플라즈마 에칭 장치에 있어서, 기판의 주위를 둘러싸도록 포커스링이 설치된다. 포커스링은, 그 표면의 내측 부근에 있어서, 에칭처리시의 반응생성물이 포착되지 않을 정도로 평균표면조도 Ra가 작게 마무리가공된 제 1 영역을 갖고, 제 1 영역보다도 외측에는, 반응생성물이 포착될 정도로 평균표면조도 Ra가 크게 마무리가공된 제 2 영역을 갖는다. 제 1 영역 및 제 2 영역의 경계는, 포커스링을 플라즈마에칭장치에 조립하고, 기판에 대하여 플라즈마에 의해 에칭을 행한 때에 소모의 정도가 다른 부위보다 상대적으로 크게 변하는 부위이다.
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