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公开(公告)号：KR1020150004326A
公开(公告)日：2015-01-12
申请号：KR1020147026466
申请日：2013-04-01
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67161 , B25J11/0095 , H01J37/32091 , H01J37/32899 , H01L21/67126 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67703 , H01L21/67733 , H01L21/67736
Abstract: 복수의 처리 챔버를 구비하는 경우에 있어서, 작업 스페이스를 포함한 기판 처리 장치의 배치 스페이스를 유효 이용할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 제 1 처리 챔버, 제 2 처리 챔버, 반송 챔버, 프레임 구조체 및 승강부를 구비한다. 제 1 처리 챔버 및 제 2 처리 챔버는 본체부 및 덮개부를 구비하고, 처리 공간을 내부에 형성한다. 반송 챔버는 제 1 처리 챔버 및 제 2 처리 챔버와 접속되고, 기판을 반송하기 위한 반송 기구가 수용되어 있다. 프레임 구조체는 한쌍의 지주부, 및 한쌍의 지주부의 정부에 지지된 비임부를 구비한다. 승강부는 비임부에 수평 방향으로 이동 가능하게 장착되고, 덮개부를 수직 방향으로 이동시킨다. 비임부는 제 1 처리 챔버, 제 2 처리 챔버 및 반송 챔버의 상방을 횡단해서 연장한다.
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