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公开(公告)号：KR101704059B1
公开(公告)日：2017-02-07
申请号：KR1020110125773
申请日：2011-11-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 기판의면내에서균일성높게패턴을형성할수 있는현상장치를제공하는것이다. 표면에레지스트가도포되고, 노광된후의기판을수평으로보유지지하는기판보유지지부와, 상기기판의표면에현상액을공급하고, 상기레지스트를현상하기위한현상액공급부와, 기판상에있어서미리설정되어있는특정영역에, 현상액을가열하여현상액과레지스트의반응의정도를높이기위해, 기판재료의파장흡수영역을포함하는복사광을조사하는복사광조사부와, 기판의표면에세정액을공급하여현상액을제거하는세정액공급부를구비하도록현상장치를구성한다.
Abstract translation: 要解决的问题：提供能够以高均匀性在基板表面内形成图案的显影装置。解决方案：显影装置包括：用于水平保持其表面已被涂覆的基板的基板保持单元 与抗蚀剂和暴露; 显影液供给单元，用于将显影液供给到所述基板的表面并显影所述抗蚀剂; 辐射光照射单元，其对包含基板的材料的波长吸收区域的辐射光照射在基板上的预定的某一区域，以便加热显影溶液并增强显影液和抗蚀剂之间的反应程度; 以及用于将清洗液供给到基板的表面以除去显影液的清洗液供给单元。
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公开(公告)号：KR1020080033107A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：KR1020070102432
申请日：2007-10-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G03F7/70625 , G03F7/70525 , H01L22/20
Abstract: A substrate measuring method, a program, a computer-readable recording medium storing the program thereon, and a substrate processing system are provided to prevent piling up of substrates waiting to be measured, since a first substrate measurement in a successive lot of two successive lots can be made right after the completion of the substrate processing. A substrate measuring method for measuring processing states of a plurality of substrates, that have been successively transferred from a plurality of lots(L1-L4) comprising a plurality of substrates, the method is characterized by that the substrate measurement is performed in each lot, and the substrate measurement of two successive substrates is performed such that the measurement of the last substrate in a previous lot is completed at the time of completion of the processing of a substrate for first substrate measurement in a subsequent lot.
Abstract translation: 提供了基板测量方法，程序，存储程序的计算机可读记录介质和基板处理系统，以防止等待测量的基板堆积，因为连续两批连续批次中的第一基板测量 可以在基板加工完成后立即进行。 一种用于测量从包括多个基板的多个批次（L1-L4）连续转移的多个基板的处理状态的基板测量方法，其特征在于，在每个批次中进行基板测量， 并且执行两个连续衬底的衬底测量，使得在完成对后续批次中的第一衬底测量的衬底的处理完成时，先前批次中的最后一个衬底的测量完成。
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公开(公告)号：KR1020120059413A
公开(公告)日：2012-06-08
申请号：KR1020110125773
申请日：2011-11-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G03F7/3021 , G03F7/0025 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/3057 , H01L21/6715
Abstract: PURPOSE: A developing apparatus, a developing method, and memory media are provided to increase the reactivity of developing liquid and resist in a specific region of a substrate. CONSTITUTION: A developing apparatus includes a substrate loading and supporting part(11), a developing liquid supplying part, a radiation light irradiating part, and a washing liquid supplying part(71). Resist is applied on the surface of the substrate loading and supporting part. The substrate loading and supporting part horizontally loads and supports a substrate after exposure. The developing liquid supplying part supplies developing liquid to the surface of the substrate. The developing liquid supplying part develops the resist. The developing liquid on the specific region of the substrate is heated to improve the reactivity of the developing liquid to the resist by irradiating radiation light with a substrate material wavelength absorbing region. The washing liquid supplying part supplies washing liquid to the surface of the substrate to eliminate the developing liquid.
Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质，以增加显影液和基板的特定区域中的抗蚀剂的反应性。 构成：显影装置包括基板装载和支撑部分（11），显影液体供应部分，辐射光照射部分和洗涤液体供应部分（71）。 抗蚀剂施加在基板装载和支撑部件的表面上。 衬底加载和支撑部分在曝光后水平地负载并支撑衬底。 显影液供给部将显影液供给到基板的表面。 显影液供给部显影抗蚀剂。 通过用基板材料波长吸收区域照射辐射光，加热基板的特定区域上的显影液，以提高显影液对抗蚀剂的反应性。 洗涤液供给部将清洗液供给到基板的表面，以除去显影液。
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公开(公告)号：KR101016542B1
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：KR1020070102432
申请日：2007-10-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G03F7/70625 , G03F7/70525 , H01L22/20
Abstract: 본 발명의 과제는 제품 웨이퍼의 처리량을 저하시키지 않고 제품 웨이퍼의 측정을 행하는 것이다.
도포 현상 처리 시스템에 있어서, 복수의 로트(L
1 내지 L
4 )의 웨이퍼(W)를 연속적으로 처리하고, 그 처리가 종료된 웨이퍼(W) 중 일부의 웨이퍼(W)의 선폭 측정을 행한다. 각 로트(L
1 내지 L
4 )마다 선폭 측정이 행해지고, 앞뒤로 연속되는 뒤의 로트의 최초의 선폭 측정(S2)을 행하는 웨이퍼의 웨이퍼 처리(S1)의 종료 시에 앞의 로트의 최후의 선폭 측정이 종료되어 있도록 앞뒤의 각 로트(L
1 내지 L
4 )의 선폭 측정을 행한다. 예를 들어, 뒤의 로트(L
2 )의 최초의 선폭 측정(S2)을 행하는 웨이퍼(W
2-1 )의 웨이퍼 처리(S1)의 종료 시에, 앞의 로트(L
1 )의 최후의 선폭 측정[웨이퍼(W
1-6 )의 선폭 측정]이 종료되어 있도록 앞뒤의 로트(L
1 , L
2 )의 선폭 측정이 행해진다.
웨이퍼, 로트, 도포 현상 처리 시스템, 폭 측정 장치, 카세트
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