公开(公告)号：KR1020150117227A

公开(公告)日：2015-10-19

申请号：KR1020150050226

申请日：2015-04-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카바히로유키 ,  니시즈카데츠야 ,  마츠모토나오키 ,  아이타미치타카 ,  미나카와다카시 ,  다카하시가즈키 ,  요시카와준 ,  후쿠도메모토시 ,  미하라나오키 ,  곤도히로유키

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/3222

Abstract: [과제] 피처리체상에서의가스의체류를억제하는플라즈마처리장치를제공한다. [해결수단] 플라즈마처리장치는, 처리용기, 배치대, 중앙도입부및 주변도입부를갖고있다. 중앙도입부는, 배치대의상측에설치되어있으며, 배치대의중심을지나는축선을따라서상기배치대를향해가스를도입한다. 주변도입부는, 높이방향에서, 중앙도입부와배치대의상면의사이에설치되어있다. 또한, 주변도입부는측벽을따라서형성되어있다. 주변도입부는, 축선에대하여둘레방향으로배열된복수의가스토출구를제공하고있다. 주변도입부의복수의가스토출구는, 축선에근접함에따라서배치대로부터멀어지도록뻗어있다.

Abstract translation: [主题]提供一种等离子体处理装置，其抑制加工对象上的气体停留。 [等离子体处理装置]包括处理容器，排列台，中央导入部以及周围的引导部。 中心引导部分安装在排列台的上部，并将气体沿着与排列台的中心相交的轴线与排列台一起引入。 周围引导部分在高度方向上安装在中心引入部分和布置台的上部之间。 此外，周围的引入部分与侧壁一起形成。 周围引入部分沿着轴线的周向设置多个排气孔。 随着排气孔越靠近轴线，周围导入部分的气体排放孔越靠近布置台。