公开(公告)号：KR1020150117227A

公开(公告)日：2015-10-19

申请号：KR1020150050226

申请日：2015-04-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카바히로유키 ,  니시즈카데츠야 ,  마츠모토나오키 ,  아이타미치타카 ,  미나카와다카시 ,  다카하시가즈키 ,  요시카와준 ,  후쿠도메모토시 ,  미하라나오키 ,  곤도히로유키

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/3222

Abstract: [과제] 피처리체상에서의가스의체류를억제하는플라즈마처리장치를제공한다. [해결수단] 플라즈마처리장치는, 처리용기, 배치대, 중앙도입부및 주변도입부를갖고있다. 중앙도입부는, 배치대의상측에설치되어있으며, 배치대의중심을지나는축선을따라서상기배치대를향해가스를도입한다. 주변도입부는, 높이방향에서, 중앙도입부와배치대의상면의사이에설치되어있다. 또한, 주변도입부는측벽을따라서형성되어있다. 주변도입부는, 축선에대하여둘레방향으로배열된복수의가스토출구를제공하고있다. 주변도입부의복수의가스토출구는, 축선에근접함에따라서배치대로부터멀어지도록뻗어있다.

Abstract translation: [主题]提供一种等离子体处理装置，其抑制加工对象上的气体停留。 [等离子体处理装置]包括处理容器，排列台，中央导入部以及周围的引导部。 中心引导部分安装在排列台的上部，并将气体沿着与排列台的中心相交的轴线与排列台一起引入。 周围引导部分在高度方向上安装在中心引入部分和布置台的上部之间。 此外，周围的引入部分与侧壁一起形成。 周围引入部分沿着轴线的周向设置多个排气孔。 随着排气孔越靠近轴线，周围导入部分的气体排放孔越靠近布置台。

公开(公告)号：KR102094576B1

公开(公告)日：2020-03-27

申请号：KR1020160073739

申请日：2016-06-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시카와준 ,  후쿠도메모토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H01L21/205

公开(公告)号：KR1020160147669A

公开(公告)日：2016-12-23

申请号：KR1020160073739

申请日：2016-06-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시카와준 ,  후쿠도메모토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/4584 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32779 ,  H01J2237/3323 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/205 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68764 ,  H01L22/12

Abstract: 본발명은, 회전테이블상의복수의기판에대하여동시에성막처리등의처리를행하는경우, 회전테이블의회전중심과웨이퍼중심을연결하는직경방향의웨이퍼양단부와센터에서처리를균일하게행하는것을목적으로한다. 처리용기내에서복수의웨이퍼(W∼W)를회전테이블(14) 상에배치하고, 축선(P)을중심으로하여회전테이블(14)을회전시키면서웨이퍼(W∼W)에성막처리를행한다. 회전테이블(14) 상에배치된웨이퍼(W∼W) 사이의간극에, 더미의피처리체(OD, ID)를배치한다.

Abstract translation: 公开了一种基板处理方法，包括：将多个基板放置在处理容器中的旋转台上; 并且在旋转所述旋转台的同时对所述基板进行处理。 虚拟工件设置在放置在转台上的基板之间的间隙中。

公开(公告)号：KR1020160143546A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：KR1020160068630

申请日：2016-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아이타미치타카 ,  요시카와준 ,  후쿠도메모토시

IPC: H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J37/32238 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32467 ,  H05H1/46

Abstract: 본발명은, 처리용기의측벽과, 상기측벽에의해지지되는유전체창사이의방전을억제하는것을목적으로한다. 유전체창은, 처리용기의측벽의상단부에형성된지지면또는측벽의상단부에배치되는도전체부재에형성된지지면에의해지지되고, 또한, 처리공간에대향하지않는비대향부를갖는다. 비대향부의표면에는, 마이크로파가반사되어얻어지는정재파의절의위치를고정시키는복수의코너부가형성된다. 측벽의지지면또는도전체부재의지지면과, 측벽또는도전체부재의처리공간과대향하는내면에의해형성되는코너부인측벽코너부로부터, 복수의코너부중 적어도하나의코너부까지의거리는, 정재파의다른절의위치를측벽코너부의위치에중첩시키는거리이다.

Abstract translation: 公开了一种等离子体处理装置，包括：处理容器，其包括底部和侧壁并限定处理空间; 产生微波的微波发生器; 以及附着在处理容器的侧壁上的电介质窗。 电介质窗口由形成在侧壁的上端部中的支撑表面或形成在设置在侧壁的上端部的导体构件中的支撑表面支撑，并且包括不面向加工的不面对部分 空间。 角部分形成在不面对部分的表面上以固定驻波节点的位置。 从侧壁角部到多个角部中的至少一个的距离是驻波的另一个节点的位置与侧壁角部的位置重叠的距离。