公开(公告)号：KR102065192B1

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：KR1020130113946

申请日：2013-09-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시다유이치 ,  나이토우료우이치로우 ,  후루쇼도시노부

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

公开(公告)号：KR102091984B1

公开(公告)日：2020-03-20

申请号：KR1020190161628

申请日：2019-12-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시다유이치 ,  나이토우료우이치로우 ,  후루쇼도시노부

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  B01D19/00 ,  B05C11/10 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08

公开(公告)号：KR1020140045879A

公开(公告)日：2014-04-17

申请号：KR1020130113946

申请日：2013-09-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시다유이치 ,  나이토우료우이치로우 ,  후루쇼도시노부

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B01D36/001 ,  B01D19/0036 ,  B01D37/046 ,  B01D2201/202 ,  B01D2201/204 ,  B01D2221/14 ,  C02F1/20 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/03 ,  F04B53/20 ,  G03C2001/7437 ,  H01L21/02008 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  H01L21/0273

Abstract: The present invention provides a technique for reducing treating fluid consumed for removing bubbles from a filter part and reducing driving time when the filter part is attached to a treating fluid supply path. The present invention performs the process of filling the treating fluid in the filter part; the process of forming the inside of the filter part into a first pressure atmosphere, which is negative pressure, for removing the bubbles from the filter part; then, the process of boosting the inside of the filter part; then, the process of controlling the treating fluid to through flow the filter part from a first side with the second side of the filter part being in a second pressure atmosphere higher than the first pressure atmosphere; and the process of performing fluid treatment by supplying the treating fluid through flew the filter part to an object through a nozzle. The bubbles can be removed rapidly through above processes. [Reference numerals] (1) Resist applying device; (10) Control part; (2) Resist supplying source; (25) pump; (3) Filter part; (4) Voltage reducing part; (AA) Drain path; (BB) Air; (CC) Exhaust; (DD) Air supply; (EE) Air discharge

Abstract translation: 本发明提供了一种减少处理从过滤器部分除去气泡所消耗的流体并减少当过滤器部件附接到处理流体供给路径时的驱动时间的技术。 本发明执行在过滤器部分中填充处理流体的过程; 将过滤器部分的内部形成为用于从过滤器部分除去气泡的作为负压的第一压力气氛的过程; 然后，对过滤器部件内部进行升压的过程; 则处理流体的控制过程使过滤器部分从第一侧与过滤器部分的第二侧通过，处于高于第一压力气氛的第二压力气氛中; 以及通过将处理流体通过喷嘴将过滤器部件飞过物体而进行流体处理的过程。 气泡可以通过上述方法快速去除。 （附图标记）（1）抗蚀剂涂布装置; （10）控制部分; （2）抗蚀剂供应源; （25）泵; （3）过滤器部件; （4）降压部分; （AA）排水路径; （BB）空气; （CC）排气; （DD）供气; （EE）排气

公开(公告)号：KR102126591B1

公开(公告)日：2020-06-24

申请号：KR1020140062387

申请日：2014-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오코우치아츠시 ,  요시하라고우스케 ,  이치노미야히로시 ,  니시하타히로시 ,  나이토우료우이치로우

IPC: H01L21/67

公开(公告)号：KR1020140139969A

公开(公告)日：2014-12-08

申请号：KR1020140062387

申请日：2014-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오코우치아츠시 ,  요시하라고우스케 ,  이치노미야히로시 ,  니시하타히로시 ,  나이토우료우이치로우

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명의 기판 세정 장치는, 기판을 회전시키면서 기판의 중심부에 세정액 및 가스를 순차 토출하고, 이들을 토출하는 노즐을 기판의 둘레 가장자리측으로 이동시킨 후, 제1 세정액 노즐의 이동 궤적으로부터 벗어나는 위치에 설정된 제2 세정액 노즐로 세정액의 토출을 전환하며, 세정액의 토출 및 가스의 토출을 행하면서 양 노즐을 기판의 둘레 가장자리측을 향해 이동시키고, 제2 세정액 노즐의 토출 위치로부터 기판의 중심부까지의 거리와, 가스 노즐의 토출 위치로부터 기판의 중심부까지의 거리의 차가 서서히 작아지도록 각 노즐이 이동한다.

Abstract translation: 根据本发明的基板清洗装置在旋转基板的同时在基板的中心连续地排出清洁溶液和气体，将清洗液的排放切换到第二清洗溶液喷嘴，该第二清洗溶液喷嘴从第一 将排出清洗液和气体的喷嘴喷出后的清洗液喷嘴移动到基板的周缘部，同时在清洗液和气体排出的同时将两个喷嘴移动到基板的周缘，并使各喷嘴逐渐减小 在从第二清洗溶液喷嘴的排出位置到基板的中心的距离与从气体喷嘴的排放位置到基板中心的距离之间。