公开(公告)号：KR1019930011177A

公开(公告)日：1993-06-23

申请号：KR1019920021338

申请日：1992-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구보데라마사오 ,  나루시마마사키 ,  오자와마사히토 ,  구마가이히로미 ,  요네나가도미히로 ,  다나카수미

IPC: H01L21/68

Abstract: 처리용기 내에 설치한 재치수단상에 재치된 피처리체를 가열처리하는 장치로서, 피처리체의 처리면의 뒷면에 대향하여 배설된 여러 개의 램프와, 이 여러 개의 램프를 원통형상으로 배열하여 재치한 회로체와, 이 회전체를 회전구동하는 구동원과, 로 되는 것을 특징으로 하는 처리장치에 관한 것이다. 또, 가스 공급관으로 부터 처리가스를 처리용기내에 구획하여 형성된 가스실에 이끌리어 이 가스실의 출구에서 상기 처리가스를 상기 처리용기내에 설치한 재치수단상에 재치된 피처리제를 향하여 불어서 표면처리하는 장치로서, 상기 가스실내에 각각 다수개의 통기구멍을 형성한 여러 개의 간막이판을 처리가스 흐름방향으로 소정의 간격을 두고 배설한 것을 특징으로하는 처리장치에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR100216740B1

公开(公告)日：1999-09-01

申请号：KR1019920021338

申请日：1992-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구보데라마사오 ,  나루시마마사키 ,  오자와마사히토 ,  구마가이히로미 ,  요네나가도미히로 ,  다나카수미

IPC: H01L21/68

CPC classification number: C23C16/45512 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/481 ,  C30B25/105 ,  C30B31/20 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67115

Abstract: 처리용기 내에 설치한 재치수단상에 재치된 피처리체를 가열처리하는 장치로서, 피처리체의 처리면의 뒷면에 대향하여 배설된 여러 개의 램프와, 이 여러개의 램프를 원통형상으로 배열하여 재치한 회전체와, 이 회전체를 회전구동하는 구동원과, 로 되는 것을 특징으로 하는 처리장치에 관한 것이다. 또, 가스공급관으로부터 처리가스를 처리용기내에 구획하여 형성된 가스실에 이끌리어 이 가스실의 출구에서 상기 처리가스를 상기 처리용기내에 설치한 재치수단상에 대치된 피처리체를 향하여 불어서 표면처리하는 장치로서, 상기 가스실내에 각각 다수 개의 통기구멍을 형성한 여러 개의 간막이판을 처리가스 흐름방향으로 소정의 간격을 두고 배설한 것을 특징으로 하는 처리장치에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020140017431A

公开(公告)日：2014-02-11

申请号：KR1020130085903

申请日：2013-07-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토노부히코 ,  기타가와준이치 ,  다나카수미 ,  오사다유키

IPC: H01L21/268

CPC classification number: H05B6/6402 ,  H05B6/6491 ,  H05B6/806

Abstract: The task of the present invention is to provide a microwave irradiation apparatus capable of performing mass production stability and high reproducibility of a process. The microwave irradiation apparatus of the present invention comprises: a processing container (1) for accommodating a substrate (W); a support member (23) for supporting the substrate (W) inside the processing container (1); a microwave introduction apparatus (3) for introducing microwaves inside the processing container (1) by generating the microwaves; a microwave introduction port (10) for introducing the microwaves generated in the microwave introduction apparatus (3) into the processing container (1); an electric field sensor (85) for measuring an electric field formed by the microwaves introduced inside the processing container (1); and a control unit (9) for controlling the power of the microwaves introduced in the processing container (1) through the microwave introduction port (10) from the microwave introduction apparatus (3) based on the electric field measured in the electric field sensor (85). [Reference numerals] (24) Rotation driving part; (25) Elevation driving part; (31) Magnetron; (34) Circulator; (35) Detector; (36) Tuner; (37) Dummy load; (40) High voltage power part; (54) Gas supply device; (72) Exhaustion device; (84) Temperature measuring part; (86) Electric field measuring part; (9) Control part

Abstract translation: 本发明的任务是提供能够进行批量生产稳定性和高再现性的微波照射装置。 本发明的微波照射装置包括：容纳基板（W）的处理容器（1） 用于在处理容器（1）内部支撑衬底（W）的支撑构件（23）; 用于通过产生微波将微波引入处理容器（1）内的微波引入装置（3）; 用于将在微波引入装置（3）中产生的微波引入处理容器（1）的微波引入口（10）; 用于测量由在所述处理容器（1）内部引入的微波形成的电场的电场传感器（85）。 以及控制单元（9），用于基于在电场传感器中测量的电场来控制从微波引入装置（3）通过微波引入口（10）引入处理容器（1）的微波的功率 85）。 （附图标记）（24）旋转驱动部; （25）海拔驱动部分; （31）磁控管; （34）循环器 （35）检测器; （36）调谐器; （37）虚拟负载; （40）高压电源部件; （54）供气装置; （72）排气装置; （84）温度测量部件; （86）电场测量部分; （9）控制部分