公开(公告)号：KR1020120120911A

公开(公告)日：2012-11-02

申请号：KR1020120043187

申请日：2012-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모야마카즈키 ,  이시바시키요타카 ,  모리타오사무 ,  다니카와타케히로 ,  마츠모토나오키 ,  미하라나오키 ,  요시카와와타루

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/3244

Abstract: PURPOSE: A plasma processing apparatus is provided to efficiently suppress plasma in an injector by narrowing the width of the narrowest part of a through hole of a slit type than a debye length. CONSTITUTION: A processing container(12) forms a processing space for processing a substrate(W). A stage(14) is installed in the processing container. A microwave generator(30) includes a waveguide(32) and a mode converter(34). An antenna(18) includes a dielectric plate(18a) and a slot plate(18b). A dielectric member(16) faces the stage in an axial direction. [Reference numerals] (AA,BB) Gas

Abstract translation: 目的：提供一种等离子体处理装置，通过使狭缝型通孔的最窄部分的宽度比德拜长度变窄来有效地抑制喷射器中的等离子体。 构成：处理容器（12）形成用于处理衬底（W）的处理空间。 工作台（14）安装在处理容器中。 微波发生器（30）包括波导（32）和模式转换器（34）。 天线（18）包括电介质板（18a）和槽板（18b）。 电介质构件（16）在轴向方向上面对台阶。 （附图标记）（AA，BB）气体

公开(公告)号：KR101362914B1

公开(公告)日：2014-02-14

申请号：KR1020120073543

申请日：2012-07-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토나오키 ,  요시카와와타루 ,  요시카와쥰 ,  모야마카즈키 ,  이시바시키요타카 ,  모리타오사무 ,  다니카와타케히로

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32238

Abstract: 기판 표면 처리량의 면내 균일성도 개선할 수 있는 안테나, 유전체창, 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법을 제공한다. 이 안테나는 유전체창(16)과, 유전체창(16)의 일방면에 설치된 슬롯판(20)을 구비하고 있다. 유전체창(16)의 타방면은, 환상의 제 1 오목부로 둘러싸인 평탄면(146)과, 평탄면(146)의 중심 위치를 둘러싸도록, 평탄면(146) 내에 형성된 복수의 제 2 오목부(153)를 가지고 있다. 상기 슬롯판의 주 표면과 수직인 방향에서 봤을 경우, 슬롯판(20)에서의 각각의 슬롯(133) 내에 각각의 제 2 오목부(153)의 중심 위치가 중첩되어 위치하고 있다.

公开(公告)号：KR101304408B1

公开(公告)日：2013-09-05

申请号：KR1020120043187

申请日：2012-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모야마카즈키 ,  이시바시키요타카 ,  모리타오사무 ,  다니카와타케히로 ,  마츠모토나오키 ,  미하라나오키 ,  요시카와와타루

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/3244

Abstract: 플라즈마 처리 장치는, 처리 용기, 스테이지, 유전체 부재, 마이크로파를 도입하는 수단, 인젝터 및 전계 차폐부를 구비하고 있다. 처리 용기는 그 내부에 처리 공간을 구획하여 형성한다. 스테이지는 처리 용기 내에 설치되어 있다. 유전체 부재는 스테이지에 대면하도록 설치되어 있다. 마이크로파를 도입하는 수단은, 유전체 부재를 개재하여 처리 공간 내에 마이크로파를 도입한다. 인젝터는 유전체제이며, 하나 이상의 관통홀을 가진다. 인젝터는, 예를 들면 벌크 유전체 재료로 구성된다. 이 인젝터는 하나 이상의 관통홀을 가지고, 유전체 부재의 내부에 배치된다. 인젝터는, 유전체 부재에 형성된 관통홀과 함께 처리 공간으로 처리 가스를 공급하기 위한 경로를 구획하여 형성한다. 전계 차폐부는 인젝터의 주위를 덮는다.

公开(公告)号：KR1020130006351A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：KR1020120073543

申请日：2012-07-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토나오키 ,  요시카와와타루 ,  요시카와쥰 ,  모야마카즈키 ,  이시바시키요타카 ,  모리타오사무 ,  다니카와타케히로

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32238

Abstract: PURPOSE: An antenna, a dielectric window, a plasma treatment device and a plasma treatment method are provided to modify a protection layer by detecting the energy line like energy beam from the protection layer. CONSTITUTION: An antenna comprises a dielectric window(16), and a slot plate(20) installed at one direction of the dielectric window. Another side of the dielectric window comprises a planation surface surrounded a first depressed portion of illusion. Another side of the dielectric window comprises several second depressed portion formed inside a planation surface to surround center location of the planation surface. Each center location of a second depressed portion is overlapped inside several slots at the slot plate in the vertical direction of the main surface of the slot plate. [Reference numerals] (10) Exhaust device; (100) Gas supply source; (AA) Other element; (BB) Controller; (CC) Power supply

Abstract translation: 目的：提供天线，电介质窗，等离子体处理装置和等离子体处理方法，通过检测来自保护层的能量束的能量线来修改保护层。 构成：天线包括电介质窗（16）和安装在电介质窗的一个方向上的槽板（20）。 电介质窗口的另一侧包括围绕着错觉的第一凹陷部分的平面表面。 电介质窗口的另一侧包括形成在平面表面内部以围绕平面表面的中心位置的多个第二凹陷部分。 第二凹陷部的每个中心位置在槽板的主表面的垂直方向上在槽板的多个槽内重叠。 （附图标记）（10）排气装置; （100）气源; （AA）其他要素; （BB）控制器; （CC）电源