公开(公告)号：KR100467914B1

公开(公告)日：2005-01-24

申请号：KR1019990031338

申请日：1999-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오모리쯔타에 ,  사카이미쯔히로 ,  타나카시노부

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: G03F7/30 ,  Y10T156/1928

Abstract: When an edge processing head is scanned in one direction, the discharge of a rinse solution from a rinse solution discharge nozzle at the front in a carrying direction is stopped, a developing solution is discharged from a developing solution discharge nozzle, and a rinse solution is discharged from a rinse solution discharge nozzle at the rear in the carrying direction. Specifically, with a developing solution being discharged to a glass substrate, the discharge of a rinse solution immediately follows the discharge of the developing solution. Thus, the edge processing of the substrate can be performed with minimal increases in the number of processes and in installation.

Abstract translation: 当沿一个方向扫描边缘处理头时，停止从运送方向前方的清洗液排出喷嘴排出清洗液，从显影液排出喷嘴排出显影液，清洗液为 从运送方向后方的冲洗液排出喷嘴排出。 具体而言，在将显影液排出到玻璃基板的情况下，在显影液排出之后立即排出清洗液。 因此，可以在最小程度增加处理和安装的情况下执行基板的边缘处理。

公开(公告)号：KR1020020072202A

公开(公告)日：2002-09-14

申请号：KR1020020011973

申请日：2002-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다키미오 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A treating apparatus is provided to reduce the foot print without lowering the throughput of the device or causing constitutional problem and to have a high flexibility in treatment. CONSTITUTION: A treating device(100) performs a series of treatment, including a plurality of liquid treatment on a substrate(G) to be treated. The device(100) is provided with a plurality of liquid treatment units(21,23,24) which perform liquid treatment on the substrate(G) while the substrate(G) is transferred in a nearly horizontal state and a plurality of heat treatment unit sections(26,27,28) in which a plurality of heat treatment units which perform heat treatment following the liquid treatment is collected. The liquid treatment units(21,23,24) are arranged in the treating order, so that the transfer line for the substrate(G) is formed in two parallel transfer lines A and B. Between the lines A and B, a space section(40) is formed and a substrate-holding and moving member(41), which receives and delivers the substrate(G) from and to the lines A and B, and moves by holding the substrate(G) which is provided movably in the space(40).

Abstract translation: 目的：提供一种处理装置以减少脚印，而不降低装置的通过量或引起结构问题，并具有较高的治疗灵活性。 构成：处理装置（100）进行一系列处理，包括在待处理的基板（G）上的多个液体处理。 设备（100）设置有多个液体处理单元（21,23,24），其在基板（G）以几乎水平状态传送的同时对基板（G）进行液体处理，并且多个热处理 收集在液体处理后进行热处理的多个热处理单元的单元部（26,27,28）。 液体处理单元（21,23,24）按照处理顺序排列，使得基板（G）的传输线形成在两条平行的传输线A和B中。在线A和B之间，空间部分 （40），以及基板保持和移动部件（41），其从线A和B接收并输送基板（G），并且通过保持可移动地设置在基板（G）中的基板 空间（40）。

公开(公告)号：KR100873099B1

公开(公告)日：2008-12-09

申请号：KR1020020011973

申请日：2002-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다키미오 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 처리장치에 관한 것으로서, 피처리기판(G)에 대해서 복수의 액처리를 포함하는 일련의 처리를 실행하는 처리장치(100)는 피처리기판(G)이 대략 수평으로 반송되면서 액처리가 실행되는 복수의 액처리유니트(21, 23, 24)와 복수의 액처리에 부수되는 열적처리를 실행하는 복수의 열적처리유니트가 집약된 복수의 열적처리 유니트 섹션(26, 27, 28)을 구비한다. 복수의 액처리유니트(21, 23, 24)는 처리순으로, 피처리기판의 반송라인이 평행한 2열의 반송라인(A, B)등과 같이 배치되며, 상기 반송라인(A, B)의 사이에는 공간부(40)가 형성되어 있다. 상기 공간부(40)를 이동가능하게 반송라인(A, B)과의 사이에서 피처리기판(G)이 인도되면 보지되는 기판 보지·이동부재(41)가 설치되는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种处理装置和处理装置（100），用于在待处理的基板（G）上执行包括多个液体处理的一系列处理， 以及多个热处理单元部分（26,27,28），其中多个用于执行热处理的液体处理单元（21,23,24）和多个热处理单元 和。 多个液体处理单元（21，23，24）的中的顺序被处理，被布置诸如传输线平行于所述两行搬送基板的线（A，B），所述输送线（A，B） 形成空间部分40。 提供了一种技术，其中提供了当衬底G在空间部分40和传输线A或B之间传输时被保持的衬底保持和移动部件41。

公开(公告)号：KR100588110B1

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：KR1019980033631

申请日：1998-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아나이노리유키 ,  오모리쯔타에 ,  타키자와마사아키 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990023710A

公开(公告)日：1999-03-25

申请号：KR1019980033631

申请日：1998-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아나이노리유키 ,  오모리쯔타에 ,  타키자와마사아키 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR100609766B1

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：KR1019990030744

申请日：1999-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타카모리히데유키 ,  타테야마키요히사 ,  미조사키켄고 ,  아나이노리유키 ,  사카이미쯔히로 ,  타나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67034

Abstract: 레지스트액의 도포 직후, 기판이 실질적으로 비가열방식에 의해 건조된다. 구체적인 예를 들면, 샤워헤드로부터 나오는 불활성가스가 기판에 부딛혀짐으로써, 기판에 도포된 레지스트액이 건조되는 것이다. 이에 의해 레지스트액의 막두께 불균일 및 회로패턴의 선폭(線幅) 변동의 지표라고 할 수 있는 전사(傳寫)를 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR100508575B1

公开(公告)日：2005-10-21

申请号：KR1019970048207

申请日：1997-09-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쯔히로 ,  쯔가모또다게시 ,  혼다요이찌 ,  야마구찌기요미쯔 ,  모또다기미오 ,  마쯔다요시다가 ,  사다데쯔야 ,  다테야마기요히사 ,  사또후미오

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 물체가 처리되는 경우 외부로 유동하거나 외부로 비산하는 처리액을 회수하기 위한 용기와, 세정액을 상기 용기내로 공급함으로써 용기의 내부 벽 표면을 세정하기 위한 세정 수단과, 용기의 내부 벽 표면이 세정 수단에 의해 세정되는 경우 용기로부터 배출된 액체를 회수하고, 회수된 액체를 세정 수단으로 공급하기 위한 순환 시스템을 포함하는 처리 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019980079954A

公开(公告)日：1998-11-25

申请号：KR1019980007398

申请日：1998-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다테쯔야 ,  우치히라노리오 ,  사카이미쯔히로 ,  야마쿠치키요미쯔

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 처리장치에 관한 것으로서, 특히 기판에 발생되는 대전량을 제어하여 대전으로 인한 정전기 장해 및 반송수단과의 사이에서 발생되는 방전노이즈 장해를 방지함으로써, LCD기판의 현상장치, 레지스트 도포장치, 상기 LCD기판이외의 반도체 웨이퍼 및 CD 등의 처리장치에도 응용할 수 있는 처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 반송수단에 의해 반송되는 기판을 진공흡착에 의해 밀착지지하는 보지수단을 구성하는 재치부의 재질을 합성수지재 부재로 하고, 상기의 기판과 보지수단에 전하제거용 유체로써 이온화한 기체, 순수, 또는 이소프로필알코올 등의 휘발성유체를 공급하여 상기 기판의 대전을 제어함으로써, 상기의 기판이 대전되어 그 표면에 형성되는 디바이스가 정전파괴되는 등의 정전기 방해를 방지할 수 있는 효과가 있다. 또한, 상기의 기판과 반송수단사이에서 발생되는 방전현상에 의한 노이즈가 반송수단의 제어계에 끼치는 장해를 방지할 수 있으며, 상기 보지수단에 대전한 전하를 제거할 수 있기 때문에, 연속사용시에도 상기와 같은 동일한 효과를 얻을 수 있는 처리장치를 제시하고 있다.

公开(公告)号：KR100562839B1

公开(公告)日：2006-03-23

申请号：KR1019990052754

申请日：1999-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼다요이치 ,  시모무라유지 ,  타나카시노부 ,  아라키신이치로 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 기판(G)에 레지스트를 도포하기 위한 레지스트도포 유니트(22a)와, 레지스트가 도포된 기판을 비가열상태에서 건조하는 건조처리 유니트(22b)와, 도포유니트(2a)로 기판을 반입하기 위한 기판반입포트(81)와, 처리종료 후의 기판을 장치 밖으로 반출하기 위한 기판반출포트(82)와, 기판을 레지스트도포 유니에서 건조처리 유니트로 반송하고, 또한 기판반출포트에서 반출가능한 위치로 반송하는 유니트간 반송기구(41, 42)와 주반송장치(18)가 기판반출위치(85)에 오는 타이밍에 따라서 유니트간 반송기구에 의한 기판반송을 제어하는 콘트롤러(91, 93)를 가짐으로써, 2이상의 일련의 처리를 제어하여 이들 처리를 기판에 악영향을 미치지 않으면서 고 쓰루우풋으로 연속적으로 수행할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 本发明是一种抗蚀剂涂敷单元（22A），以及烘干处理单元（22B），和一个涂层单元通过将抗蚀剂施加到基板（G）的装置，以抵抗干燥的在开放条件下的比对涂覆的基材进行约 用于将基板搬运到基板处理装置2a的基板搬入口81，用于将处理后的基板搬运到装置外部的基板搬出口82， 控制器，其控制由交叉部输送机构根据所述单元之间的定时来输出端口出来的位置传送机构（41，42）和所述主传送装置18中，基板搬出位置（85），所述衬底传送在返回到（ 由此可以控制两个或更多个的一系列过程，并且这些过程可以高通量地连续进行而不会不利地影响基板 这是呈现。

公开(公告)号：KR1020000012023A

公开(公告)日：2000-02-25

申请号：KR1019990030744

申请日：1999-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타카모리히데유키 ,  타테야마키요히사 ,  미조사키켄고 ,  아나이노리유키 ,  사카이미쯔히로 ,  타나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67034

Abstract: PURPOSE: A method for forming a predetermined layer on a surface of a substrate is provided to prevent layer thickness irregularity of resist solution and formation of a lithography on the substrate by heating the substrate in a substantial unheated state after coating the resist solution. CONSTITUTION: A coating solution is coated on the surface of the substrate and is dried under a first decompression circumstance. A dry processing of the substrate is performed utilizing an unheated method under a second decompression circumstance. In set temperature, the second decompression circumstance is lower than the first decompression circumstance. After the dry processing of the substrate, a heating dry processing thereof is performed.

Abstract translation: 目的：提供一种用于在基板表面上形成预定层的方法，以在涂覆抗蚀剂溶液之后，通过在基本上未加热的状态下加热基板来防止抗蚀剂溶液的层厚度不均匀和在基板上形成光刻。 构成：将涂层溶液涂覆在基材的表面上，并在第一减压环境下干燥。 在第二减压环境下利用未加热方法进行基板的干法处理。 在设定温度下，第二减压环境低于第一减压环境。 在基板的干燥处理之后，进行其加热干燥处理。