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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101065982B1
公开(公告)日：2011-09-19
申请号：KR1020040100285
申请日：2004-12-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 기체의 사용량의 증가를 억제하면서 기판의 측단부근의 영역중의 반송방향의 후단부근의 영역(각부)에 부착하는 처리액을 제거할 수 있는 기판처리장치 및 해당 기판처리장치에 사용되는 노즐을 제공한다.
레지스트도포현상처리장치의 건조처리장치는, 에어 나이프 노즐{73A(73B)}이 기판(G)의 반송방향에 대하여 비스듬하게 설치되고, 일끝단부(E)에 절결부(73c)가 형성된다. 제 2 분출구(73v)의 제 2 폭이 제 1 분출구(73u)의 제 1 폭보다 커지도록 설정되어 있다. 이 때문에, 제 2 분출구(73v)로부터 분출된 유량이 많은 에어를 제 1 영역(H1)에 걸쳐 분출할 수 있다. 따라서, 에어의 사용량의 증가를 억제하면서 각부(J)에 부착하는 처리액을 흘러가게 하는 것은 아니라 단시간에 확산하여 제거할 수가 있다.-
公开(公告)号：KR1020160018363A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：KR1020150105839
申请日：2015-07-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은조기에불량을검출하여효율적으로제조라인을개선시키는것을과제로한다. 실시형태에따른검사장치는, 조사부와, 촬상부와, 제어부를구비한다. 조사부는, 직렬로배열된복수의발광소자를가지고, 이러한발광소자로부터주면상에적어도유기 EL층에있어서의발광층이형성된기판을향하여자외광을조사한다. 촬상부는자외광의조사를받은기판을미리정해진촬상영역에있어서촬상한다. 제어부는촬상부에의해촬상된촬상화상에기초하여기판의불량을검출시킨다.
Abstract translation: 本发明的目的是通过早期检测错误来有效地改善生产线。 根据实施例的测试装置包括测试部分和成像部分以及控制部分。 测试部分具有串联布置的发光元件，并将紫外线照射到在发光元件的主表面上的至少一个有机EL层中具有发光层的基板。 成像部件在预定的成像区域中照射照射有紫外线的基板。 控制部基于由摄像部拍摄的图像来检测基板的误差。
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公开(公告)号：KR1020050053506A
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：KR1020040100285
申请日：2004-12-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B5/00 , G02F1/1303 , G02F2001/1316 , G03F7/36 , H01L21/6715
Abstract: 기체의 사용량의 증가를 억제하면서 기판의 측단부근의 영역중의 반송방향의 후단부근의 영역(각부)에 부착하는 처리액을 제거할 수 있는 기판처리장치 및 해당 기판처리장치에 사용되는 노즐을 제공한다.
레지스트도포현상처리장치의 건조처리장치는, 에어 나이프 노즐{73A(73B)}이 기판(G)의 반송방향에 대하여 비스듬하게 설치되고, 일끝단부(E)에 절결부(73c)가 형성된다. 제 2 분출구(73v)의 제 2 폭이 제 1 분출구(73u)의 제 1 폭보다 커지도록 설정되어 있다. 이 때문에, 제 2 분출구(73v)로부터 분출된 유량이 많은 에어를 제 1 영역(H1)에 걸쳐 분출할 수 있다. 따라서, 에어의 사용량의 증가를 억제하면서 각부(J)에 부착하는 처리액을 흘러가게 하는 것은 아니라 단시간에 확산하여 제거할 수가 있다.Abstract translation: 要解决的问题：提供一种基板处理装置，通过该基板处理装置，将处理液粘附到基板输送方向上的基板的后缘（角部）的周边区域的周边区域 可以在抑制气体的使用增加的同时去除基板，并且提供在基板处理装置中使用的喷嘴。 解决方案：抗蚀剂施加/显影装置的干燥单元构成为使得相对于基板G输送方向倾斜设置气刀喷嘴73A（73B），在一个边缘部E形成切口部73c 并且气刀喷嘴的第二喷射口73v的第二宽度被设定为大于第一喷射口73u的第一宽度。 结果，高流量空气可以从第二喷射口73v喷射到第一区域H1上。 因此，粘附在角部J上的处理液在短时间内可以被扩散/除去，而不会被冲走，同时抑制空气的使用增加。 版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI
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公开(公告)号：KR100944594B1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：KR1020030033943
申请日：2003-05-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 현상액의 소비량을 억제할 수 있는 동시에, 선폭을 균일하게 할 수 있는 현상처리방법 및 그 장치를 제공하는 것이다.
회전되는 사각형상의 LCD 기판(G) 표면의 중심부에 순수(純水)공급노즐(40)로부터 순수를 공급하여, 순수의 박막을 형성하고, 회전됨과 동시에, 순수의 박막이 형성된 LCD 기판(G) 표면의 중심부에 현상액 공급노즐(42)로부터 현상액을 공급하여, 현상액의 박막을 형성한다. 이어서, 현상액의 박막이 형성된 LCD 기판(G) 표면의 일끝단으로부터 다른 끝단을 향하여 현상액 공급노즐로부터 띠형상으로 현상액을 공급하여 현상처리한 후, 현상처리후의 LCD 기판(G) 표면에 린스액 공급노즐로부터 린스액을 공급하여 세정한다. 이에 따라 현상액의 소비량을 억제할 수 있는 동시에, 선폭을 균일하게 할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020030093111A
公开(公告)日：2003-12-06
申请号：KR1020030033943
申请日：2003-05-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 현상액의 소비량을 억제할 수 있는 동시에, 선폭을 균일하게 할 수 있는 현상처리방법 및 그 장치를 제공하는 것이다.
회전되는 사각형상의 LCD 기판(G) 표면의 중심부에 순수(純水)공급노즐(40)로부터 순수를 공급하여, 순수의 박막을 형성하고, 회전됨과 동시에, 순수의 박막이 형성된 LCD 기판(G) 표면의 중심부에 현상액 공급노즐(42)로부터 현상액을 공급하여, 현상액의 박막을 형성한다. 이어서, 현상액의 박막이 형성된 LCD 기판(G) 표면의 일끝단으로부터 다른 끝단을 향하여 현상액 공급노즐로부터 띠형상으로 현상액을 공급하여 현상처리한 후, 현상처리후의 LCD 기판(G) 표면에 린스액 공급노즐로부터 린스액을 공급하여 세정한다. 이에 따라 현상액의 소비량을 억제할 수 있는 동시에, 선폭을 균일하게 할 수 있다.
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