公开(公告)号：KR102244353B1

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：KR1020200178706

申请日：2020-12-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와시타신야 ,  스즈키아유타 ,  신도다카히로 ,  뎀포가즈키 ,  마츠도다츠오 ,  모리타야스시 ,  기쿠치다카미치 ,  모리야츠요시

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455

Abstract: (과제) 동일한성막장치에있어서성막되는박막의막질을다양하게제어할수 있는기술을제공한다. (해결수단) 본개시의성막장치는, 진공배기가능한처리용기와, 하부전극과, 상부전극과, 가스공급부와, 전압인가부와, 전환부를구비한다. 하부전극에는, 처리용기내에서피처리기판이탑재된다. 상부전극은, 처리용기내에서하부전극에대향하여배치된다. 가스공급부는, 상부전극과하부전극의사이의처리공간에서플라즈마화하는성막원료가스를처리공간에공급한다. 전압인가부는, 고주파전원및 직류전원을갖고, 고주파전원및 직류전원중 적어도한쪽으로부터출력되는전압을상부전극에인가한다. 전환부는, 상부전극에인가되는전압을, 고주파전원으로부터출력되는고주파전압과, 직류전원으로부터출력되는직류전압과, 고주파전압에직류전압이중첩된중첩전압에서전환한다.

公开(公告)号：KR102202347B1

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：KR1020190069236

申请日：2019-06-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와시타신야 ,  스즈키아유타 ,  신도다카히로 ,  뎀포가즈키 ,  마츠도다츠오 ,  모리타야스시 ,  기쿠치다카미치 ,  모리야츠요시

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455

Abstract: (과제) 동일한성막장치에있어서성막되는박막의막질을다양하게제어할수 있는기술을제공한다. (해결수단) 본개시의성막장치는, 진공배기가능한처리용기와, 하부전극과, 상부전극과, 가스공급부와, 전압인가부와, 전환부를구비한다. 하부전극에는, 처리용기내에서피처리기판이탑재된다. 상부전극은, 처리용기내에서하부전극에대향하여배치된다. 가스공급부는, 상부전극과하부전극의사이의처리공간에서플라즈마화하는성막원료가스를처리공간에공급한다. 전압인가부는, 고주파전원및 직류전원을갖고, 고주파전원및 직류전원중 적어도한쪽으로부터출력되는전압을상부전극에인가한다. 전환부는, 상부전극에인가되는전압을, 고주파전원으로부터출력되는고주파전압과, 직류전원으로부터출력되는직류전압과, 고주파전압에직류전압이중첩된중첩전압에서전환한다.

公开(公告)号：KR1020200144531A

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：KR1020200178706

申请日：2020-12-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와시타신야 ,  스즈키아유타 ,  신도다카히로 ,  뎀포가즈키 ,  마츠도다츠오 ,  모리타야스시 ,  기쿠치다카미치 ,  모리야츠요시

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455

Abstract: (과제) 동일한성막장치에있어서성막되는박막의막질을다양하게제어할수 있는기술을제공한다. (해결수단) 본개시의성막장치는, 진공배기가능한처리용기와, 하부전극과, 상부전극과, 가스공급부와, 전압인가부와, 전환부를구비한다. 하부전극에는, 처리용기내에서피처리기판이탑재된다. 상부전극은, 처리용기내에서하부전극에대향하여배치된다. 가스공급부는, 상부전극과하부전극의사이의처리공간에서플라즈마화하는성막원료가스를처리공간에공급한다. 전압인가부는, 고주파전원및 직류전원을갖고, 고주파전원및 직류전원중 적어도한쪽으로부터출력되는전압을상부전극에인가한다. 전환부는, 상부전극에인가되는전압을, 고주파전원으로부터출력되는고주파전압과, 직류전원으로부터출력되는직류전압과, 고주파전압에직류전압이중첩된중첩전압에서전환한다.