公开(公告)号：KR102046226B1

公开(公告)日：2019-11-18

申请号：KR1020170166360

申请日：2017-12-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스즈키아유타 ,  야마모토고우스케 ,  마츠자키가즈요시 ,  가가야무네히토 ,  모리야츠요시 ,  미츠나리다다시 ,  구보아츠시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  C23C16/455

公开(公告)号：KR101439717B1

公开(公告)日：2014-09-12

申请号：KR1020127021262

申请日：2011-01-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스즈키아유타 ,  강송윤 ,  모리야츠요시 ,  데라사와노부토시 ,  오카베요시아키

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: C23C16/4404 ,  B29C59/14 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/32136 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/68757 ,  Y10S156/915

Abstract: 처리 용기 내에 기판을 반입해서 탑재대에 탑재하는 공정과, 적어도 표면부의 주성분이 기판의 피에칭막의 주성분과 동일한 재질인 링 부재를 기판을 둘러싸도록 배치한 상태에서, 기판에 대향하는 가스 공급부로부터 처리 가스를 샤워 형상으로 토출함과 아울러, 처리 가스를 플라즈마화해서 피에칭막을 에칭하는 공정과, 상기 처리 용기 내를 배기로를 거쳐서 진공 배기하는 공정을 포함하도록, 에칭을 실행한다. 이것에 의해, 기판의 둘레 가장자리 부근에서의 플라즈마의 활성종 분포의 불균일함을 억제한다.

公开(公告)号：KR102244353B1

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：KR1020200178706

申请日：2020-12-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와시타신야 ,  스즈키아유타 ,  신도다카히로 ,  뎀포가즈키 ,  마츠도다츠오 ,  모리타야스시 ,  기쿠치다카미치 ,  모리야츠요시

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455

Abstract: (과제) 동일한성막장치에있어서성막되는박막의막질을다양하게제어할수 있는기술을제공한다. (해결수단) 본개시의성막장치는, 진공배기가능한처리용기와, 하부전극과, 상부전극과, 가스공급부와, 전압인가부와, 전환부를구비한다. 하부전극에는, 처리용기내에서피처리기판이탑재된다. 상부전극은, 처리용기내에서하부전극에대향하여배치된다. 가스공급부는, 상부전극과하부전극의사이의처리공간에서플라즈마화하는성막원료가스를처리공간에공급한다. 전압인가부는, 고주파전원및 직류전원을갖고, 고주파전원및 직류전원중 적어도한쪽으로부터출력되는전압을상부전극에인가한다. 전환부는, 상부전극에인가되는전압을, 고주파전원으로부터출력되는고주파전압과, 직류전원으로부터출력되는직류전압과, 고주파전압에직류전압이중첩된중첩전압에서전환한다.

公开(公告)号：KR1020120107514A

公开(公告)日：2012-10-02

申请号：KR1020127021262

申请日：2011-01-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스즈키아유타 ,  강송윤 ,  모리야츠요시 ,  데라사와노부토시 ,  오카베요시아키

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: C23C16/4404 ,  B29C59/14 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/32136 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/68757 ,  Y10S156/915

Abstract: 처리 용기 내에 기판을 반입해서 탑재대에 탑재하는 공정과, 적어도 표면부의 주성분이 기판의 피에칭막의 주성분과 동일한 재질인 링 부재를 기판을 둘러싸도록 배치한 상태에서, 기판에 대향하는 가스 공급부로부터 처리 가스를 샤워 형상으로 토출함과 아울러, 처리 가스를 플라즈마화해서 피에칭막을 에칭하는 공정과, 상기 처리 용기 내를 배기로를 거쳐서 진공 배기하는 공정을 포함하도록, 에칭을 실행한다. 이것에 의해, 기판의 둘레 가장자리 부근에서의 플라즈마의 활성종 분포의 불균일함을 억제한다.

公开(公告)号：KR1020120074198A

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：KR1020110109178

申请日：2011-10-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  스즈키아유타 ,  사와다이쿠오 ,  신도나오키 ,  요네다마사타케 ,  오오야가즈히로

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: An apparatus and method for processing a liquid, and a recording medium for performing a program thereof are provided to reducing process time by preventing treatment solution from remaining on a substrate. CONSTITUTION: A substrate holding unit(40) holds a substrate. A treatment solution supply unit(70) supplies treatment solution to the substrate held by the substrate holding unit. A rinsing liquid supply unit(80) supplies rising liquid to the substrate. A light emitting element(112) emits light to a surface of the substrate. A control unit(200) controls the substrate holding unit, the treatment solution apply unit, the rinsing liquid supply unit and the light emitting unit.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理液体的装置和方法以及用于执行其程序的记录介质，以通过防止处理溶液残留在基板上来缩短处理时间。 构成：基板保持单元（40）保持基板。 处理溶液供给单元（70）将处理液供给到由基板保持单元保持的基板。 冲洗液供给单元（80）将上升的液体供给到基板。 发光元件（112）向衬底的表面发光。 控制单元（200）控制基板保持单元，处理溶液施加单元，冲洗液体供应单元和发光单元。

公开(公告)号：KR102202347B1

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：KR1020190069236

申请日：2019-06-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와시타신야 ,  스즈키아유타 ,  신도다카히로 ,  뎀포가즈키 ,  마츠도다츠오 ,  모리타야스시 ,  기쿠치다카미치 ,  모리야츠요시

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455

Abstract: (과제) 동일한성막장치에있어서성막되는박막의막질을다양하게제어할수 있는기술을제공한다. (해결수단) 본개시의성막장치는, 진공배기가능한처리용기와, 하부전극과, 상부전극과, 가스공급부와, 전압인가부와, 전환부를구비한다. 하부전극에는, 처리용기내에서피처리기판이탑재된다. 상부전극은, 처리용기내에서하부전극에대향하여배치된다. 가스공급부는, 상부전극과하부전극의사이의처리공간에서플라즈마화하는성막원료가스를처리공간에공급한다. 전압인가부는, 고주파전원및 직류전원을갖고, 고주파전원및 직류전원중 적어도한쪽으로부터출력되는전압을상부전극에인가한다. 전환부는, 상부전극에인가되는전압을, 고주파전원으로부터출력되는고주파전압과, 직류전원으로부터출력되는직류전압과, 고주파전압에직류전압이중첩된중첩전압에서전환한다.

公开(公告)号：KR1020200144531A

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：KR1020200178706

申请日：2020-12-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와시타신야 ,  스즈키아유타 ,  신도다카히로 ,  뎀포가즈키 ,  마츠도다츠오 ,  모리타야스시 ,  기쿠치다카미치 ,  모리야츠요시

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455

Abstract: (과제) 동일한성막장치에있어서성막되는박막의막질을다양하게제어할수 있는기술을제공한다. (해결수단) 본개시의성막장치는, 진공배기가능한처리용기와, 하부전극과, 상부전극과, 가스공급부와, 전압인가부와, 전환부를구비한다. 하부전극에는, 처리용기내에서피처리기판이탑재된다. 상부전극은, 처리용기내에서하부전극에대향하여배치된다. 가스공급부는, 상부전극과하부전극의사이의처리공간에서플라즈마화하는성막원료가스를처리공간에공급한다. 전압인가부는, 고주파전원및 직류전원을갖고, 고주파전원및 직류전원중 적어도한쪽으로부터출력되는전압을상부전극에인가한다. 전환부는, 상부전극에인가되는전압을, 고주파전원으로부터출력되는고주파전압과, 직류전원으로부터출력되는직류전압과, 고주파전압에직류전압이중첩된중첩전압에서전환한다.

公开(公告)号：KR101580707B1

公开(公告)日：2015-12-28

申请号：KR1020110109178

申请日：2011-10-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  스즈키아유타 ,  사와다이쿠오 ,  신도나오키 ,  요네다마사타케 ,  오오야가즈히로

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은처리액에의해처리한후, 기판을린스처리할때에, 처리액이기판에잔류하는것을방지할수 있어, 처리시간을단축할수 있는액 처리방법및 액처리장치를제공하는것을목적으로한다. 기판을처리액에의해처리하는본 발명의액 처리장치(10)는, 기판을유지하는기판유지부(30, 40)와, 기판유지부(30, 40)에유지되어있는기판에처리액을공급하는처리액공급부(70)와, 기판에린스액을공급하는린스액공급부(80)와, 기판만이흡수하는파장영역의광을발광하고, 발광한광을기판에조사하는발광소자(112)를갖는다.