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公开(公告)号：KR1020160117206A
公开(公告)日：2016-10-10
申请号：KR1020160033950
申请日：2016-03-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G01F19/005 , G01N21/8806 , G01N2015/1481
Abstract: 잉크젯방식에의해토출된액적의체적을정확하게측정한다. 측정기판(S) 상의액적(L)의상방에, 링형상광원(17)의중심축과카메라(11)의광축이일치하여액적(L)의정점을지나고, 또한, 링형상광원(17)의직경방향과측정기판(S)의표면이평행이되도록링 형상광원(17)과카메라(11)를배치하고, 링형상광원(17)을점등시킨상태로카메라(11)에의해액적(L)을촬영한화상에기초하여링 형상광원(17)으로부터액적(L)에조사된광의반사광의둘레의반경(x)을구하고, 측정기판(S)의하측으로부터액적(L)을향해광을조사한상태로카메라(11)에의해액적(L)을촬영한화상에기초하여액적(L)의반경(A)을구하고, 반경(x)과반경(A)을이용하여액적(L)의체적을산출한다.
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR1020170045163A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：KR1020170047124
申请日：2017-04-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의건조처리방법은, 건조장치의처리용기내에서, 기판의표면에도포된유기재료막중의용매를휘발시켜제거하는건조처리공정과, 상기건조처리공정의종료후에상기기판을상기처리용기로부터반출한후, 상기처리용기내에잔류한상기용매중에포함되는유기화합물을저분자량의화합물로분해하여상기처리용기내로부터배출시키는리프레쉬공정을구비한다. 상기리프레쉬공정은, 상기처리용기내를대기압으로부터상기용매의증기압인제 1 압력까지감압배기하는단계와, 상기처리용기내가상기제 1 압력으로있는상태에서, 상기처리용기내로의자외선의조사를개시하는단계와, 상기처리용기내를상기제 1 압력보다낮은제 2 압력까지감압하는단계와, 상기처리용기내를상기제 2 압력까지감압하는도중에, 상기자외선의조사를종료하는단계를포함하고, 상기제 1 압력이 0.001 ~ 10 Pa의범위내이다.
Abstract translation: 本发明的干燥处理方法中，在干燥装置的处理容器后的基板，通过有机材料薄膜的溶剂的蒸发除去的干燥处理步骤中施加到基底的表面上，干燥处理步骤结束时，在处理容器 并且将残留在处理容器内的残留溶剂中含有的有机化合物减压成低分子量化合物，并从处理容器内排出分解的有机化合物。 所述刷新步骤包括抽真空由大气压到西班牙的溶剂的第一压力的蒸汽压力的处理容器内部的步骤，而所述处理室我到第一压力，以启动紫外光的照射到处理室 步骤和，处理容器内的减压步骤以比第一压力低的第二压力，所述处理容器的内部，同时在减压下于第二压力，并且以结束紫外线的照射的步骤，所述 第一压力在0.001至10Pa的范围内。
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公开(公告)号：KR1020140143331A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：KR1020140067837
申请日：2014-06-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L51/56 , H01L21/67034
Abstract: Solvent residues remaining in a processing vessel of a drying apparatus that dries an organic material film on a substrate can be efficiently removed in a short time. The drying apparatus (100) includes a processing vessel (1) capable of vacuum exhausting, a mounting board (3) as a support member to support a substrate (S) in the processing vessel (1), an ultraviolet ray irradiating device (5) radiating ultraviolet rays to the inside of the processing vessel (1), and a controller (6). The ultraviolet ray irradiating device (5) functions as a solvent decomposition means that breaks down an organic compound included in the solvent residues remaining in the processing vessel (1) into low molecular weight compounds after a substrate (S), that has completed the drying process, is discharged from the processing vessel (1).
Abstract translation: 可以在短时间内有效地除去留在基板上的有机材料膜干燥装置的处理容器中的溶剂残留物。 干燥装置（100）包括能够进行真空排气的处理容器（1），作为用于支撑处理容器（1）中的基板（S）的支撑部件的安装基板（3），紫外线照射装置 ）向处理容器（1）的内部辐射紫外线，以及控制器（6）。 紫外线照射装置（5）起溶剂分解手段的作用，其将残留在处理容器（1）中的溶剂残余物中的有机化合物分解成已经完成干燥的基材（S）之后的低分子量化合物 处理从处理容器（1）排出。
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公开(公告)号：KR1020130041950A
公开(公告)日：2013-04-25
申请号：KR1020137004029
申请日：2011-07-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67028 , H01L21/67173 , H01L21/67253 , H01L51/5206 , H01L51/56
Abstract: 기판 처리 장치에서 세정용의 세정실을 설치하지 않고, 단시간에 효율적으로 기판 표면을 균일하게 세정할 수 있어, 기판 처리의 스루풋 향상을 도모하는 것이 가능한 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 반입용의 반입실과, 기판에 성막 처리를 행하는 성막실과, 상기 반입실과 상기 성막실의 사이에서 기판을 반송시키는 기판 반송 기구를 가지는 반송실을 구비하는 기판 처리 장치로서, 상기 반입실과 상기 반송실은 인접한 상태로 접속되고, 상기 반입실 또는 상기 반송실 중 어느 일방의 외부에는, 기판의 반송 경로 상에 광을 조사하는 광 조사 기구와, 상기 광 조사 기구로부터 조사되는 광의 조사량 및 조사 강도를 제어하는 제어부가 설치되고, 상기 광 조사 기구가 설치된 상기 반입실 또는 상기 반송실에는 상기 광 조사 기구로부터 조사된 광을 투과시키는 투과창이 설치되고, 상기 광 조사 기구로부터 기판에 조사되는 광은 기판에 대하여 상대적으로 이동하면서 조사되는 기판 처리 장치가 제공된다.
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