公开(公告)号：KR101663005B1

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：KR1020157004615

申请日：2013-06-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나루시마마사키 ,  하야시데루유키 ,  시모후미오 ,  고이즈미겐지로

IPC: H01L51/00 ,  H01L51/56 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L51/0026 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742

Abstract: 베이크처리시스템(100)은, 외부의잉크젯인쇄장치(IJ)(200)에의해기판(S) 상에형성된유기재료막에대하여, 대기압이하의압력에서소성을행하는진공베이크장치(VB)(1)와, 진공베이크장치(VB)(1)에기판(S)을반송하는반송장치(11)와, 반송장치(11)를수용하는진공배기가능한반송실(TR)(10)과, 대기압상태와진공상태를전환가능하게구성된로드록장치(LL)(20)와, 잉크젯인쇄장치(IJ)(200)와로드록장치(LL)(20)의사이의기판반송경로에배치되어기판(S)의전달을행하는반송장치(31)를구비하고있다.

公开(公告)号：KR100561703B1

公开(公告)日：2006-03-17

申请号：KR1019990049533

申请日：1999-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  노무라마사후미 ,  오오타요시하루 ,  아라키신이치로 ,  야마키이쿠오 ,  시모후미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 본 발명은 처리시스템에 관한 것으로, 상기 처리시스템은, 반송로와, 상기 반송로를 따라 제 1 영역에 배치되어 피처리체에 대하여 진공계의 처리를 실시하는 복수의 제 1 처리부와, 상기 반송로를 따라 제 2 영역에 배치되어 피처리체에 대하여 대기계의 처리를 실시하는 복수의 제 2 처리부와, 반송로상을 이동할 수 있게 배치되어 제 1 및 제 2 처리부와의 사이에서 피처리체의 인수·인도를 수행하는 반송장치로 구성됨으로써, 대기계의 영역과 진공계의 영역 사이에서 피처리체를 원활하게 주고받을 수 있는 처리시스템을 제공하는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种处理系统，并作为是，输送处理系统中，多个第一处理单元的，根据所述发送回进行真空系统处理相对于所述对象的第一区域的地方进行处理，中相应的传输 取决于采集从多个所述第二部分的主题的和，并且被布置成能够移动到所述输送路径的第一和设置在经受到待机系统的处理相对于所述对象的第二区域将被处理＆middot的第二处理部的; 提出了一种用于提供能够在机器的区域和真空系统的区域之间平稳地传送待处理对象的处理系统的技术。

公开(公告)号：KR1020150038252A

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：KR1020157004615

申请日：2013-06-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나루시마마사키 ,  하야시데루유키 ,  시모후미오 ,  고이즈미겐지로

IPC: H01L51/00 ,  H01L51/56 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L51/0026 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/56

Abstract: 베이크처리시스템(100)은, 외부의잉크젯인쇄장치(IJ)(200)에의해기판(S) 상에형성된유기재료막에대하여, 대기압이하의압력에서소성을행하는진공베이크장치(VB)(1)와, 진공베이크장치(VB)(1)에기판(S)을반송하는반송장치(11)와, 반송장치(11)를수용하는진공배기가능한반송실(TR)(10)과, 대기압상태와진공상태를전환가능하게구성된로드록장치(LL)(20)와, 잉크젯인쇄장치(IJ)(200)와로드록장치(LL)(20)의사이의기판반송경로에배치되어기판(S)의전달을행하는반송장치(31)를구비하고있다.

公开(公告)号：KR1020000035354A

公开(公告)日：2000-06-26

申请号：KR1019990049533

申请日：1999-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  노무라마사후미 ,  오오타요시하루 ,  아라키신이치로 ,  야마키이쿠오 ,  시모후미오

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A process system is provided to reciprocate the processed between a region of a waiting stage and a region of a vacuum stage. CONSTITUTION: A process system comprises a plurality of guided units(11) each of which a main body(13), a base member(14), and upper and lower substrate support member(15a,15b). The main body(13) is able to be shifted along a guided path, and the base member(14) is able to execute an up and down shifting and a rotation shifting to the main body(13). The upper and lower substrate support member(15a,15b) are able to shift along a horizontal direction on the base member(14) independently. A center portion of the base member(14) and the main body(13) are connected by a connection portion(16). A glass substrate is guided by the up and down shifting and the rotation shifting of the base member(14) and by the horizontal shifting of the upper and lower substrate support member(15a,15b).

Abstract translation: 目的：提供一种处理系统，用于在等待阶段的区域和真空级的区域之间往复运动。 构成：处理系统包括多个引导单元（11），每个引导单元（11）分别具有主体（13），基座构件（14）以及上下基板支撑构件（15a，15b）。 主体（13）能够沿着导引路径移动，并且基部构件（14）能够执行上下移动和向主体（13）的移动。 上下基板支撑构件（15a，15b）能够独立地沿着基部构件（14）上的水平方向移动。 基部构件（14）和主体（13）的中心部分通过连接部分（16）连接。 玻璃基板通过上下移动和基部构件（14）的旋转移动以及上下基板支撑构件（15a，15b）的水平移动而被引导。

公开(公告)号：KR1020160117206A

公开(公告)日：2016-10-10

申请号：KR1020160033950

申请日：2016-03-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오시마키요미 ,  하야시테루유키 ,  시모후미오

IPC: G01F19/00 ,  G01N21/88 ,  G01N15/14

CPC classification number: G01F19/005 ,  G01N21/8806 ,  G01N2015/1481

Abstract: 잉크젯방식에의해토출된액적의체적을정확하게측정한다. 측정기판(S) 상의액적(L)의상방에, 링형상광원(17)의중심축과카메라(11)의광축이일치하여액적(L)의정점을지나고, 또한, 링형상광원(17)의직경방향과측정기판(S)의표면이평행이되도록링 형상광원(17)과카메라(11)를배치하고, 링형상광원(17)을점등시킨상태로카메라(11)에의해액적(L)을촬영한화상에기초하여링 형상광원(17)으로부터액적(L)에조사된광의반사광의둘레의반경(x)을구하고, 측정기판(S)의하측으로부터액적(L)을향해광을조사한상태로카메라(11)에의해액적(L)을촬영한화상에기초하여액적(L)의반경(A)을구하고, 반경(x)과반경(A)을이용하여액적(L)의체적을산출한다.

公开(公告)号：KR101230997B1

公开(公告)日：2013-02-07

申请号：KR1020117010850

申请日：2009-11-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠바야시신지 ,  카와카미사토루 ,  토베야스히로 ,  니시무라마사루 ,  야기야스시 ,  하야시테루유키 ,  오노유지 ,  시모후미오

IPC: H01L51/56 ,  B65G49/06 ,  H01L21/677 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/56 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6723

Abstract: 트랜스퍼 모듈의 측면에 접속되는 각종 처리 장치의 사이의 간격을 넓힐 수 있어, 메인터넌스성이 뛰어나고, 스루풋의 악화를 회피하여 충분한 생산성을 확보 가능한 기판 처리 시스템을 제공한다. 기판 상에 예를 들면 유기층을 포함하는 복수의 층을 적층하여 유기 EL 소자를 제조하는 기판 처리 시스템으로서, 진공 배기되는 1 또는 2 이상의 트랜스퍼 모듈에 의해 직선 형상의 반송 경로가 구성되고, 트랜스퍼 모듈의 내부에는, 처리 장치에 대하여 기판을 반입출시키는 복수의 반입출 에어리어와, 이들 사이에 배치된 1 또는 2 이상의 스톡 에어리어가 반송 경로를 따라 교호로 직렬로 배치되며, 트랜스퍼 모듈의 측면에는, 반입출 에어리어와 대향하는 위치에서 처리 장치가 접속되어 있다.

公开(公告)号：KR1020110084923A

公开(公告)日：2011-07-26

申请号：KR1020117010850

申请日：2009-11-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠바야시신지 ,  카와카미사토루 ,  토베야스히로 ,  니시무라마사루 ,  야기야스시 ,  하야시테루유키 ,  오노유지 ,  시모후미오

IPC: H01L51/56 ,  B65G49/06 ,  H01L21/677 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/56 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6723 ,  B65G49/061 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67739 ,  H01L21/67745 ,  H05B33/10

Abstract: 트랜스퍼 모듈의 측면에 접속되는 각종 처리 장치의 사이의 간격을 넓힐 수 있어, 메인터넌스성이 뛰어나고, 스루풋의 악화를 회피하여 충분한 생산성을 확보 가능한 기판 처리 시스템을 제공한다. 기판 상에 예를 들면 유기층을 포함하는 복수의 층을 적층하여 유기 EL 소자를 제조하는 기판 처리 시스템으로서, 진공 배기되는 1 또는 2 이상의 트랜스퍼 모듈에 의해 직선 형상의 반송 경로가 구성되고, 트랜스퍼 모듈의 내부에는, 처리 장치에 대하여 기판을 반입출시키는 복수의 반입출 에어리어와, 이들 사이에 배치된 1 또는 2 이상의 스톡 에어리어가 반송 경로를 따라 교호로 직렬로 배치되며, 트랜스퍼 모듈의 측면에는, 반입출 에어리어와 대향하는 위치에서 처리 장치가 접속되어 있다.