公开(公告)号：KR101998894B1

公开(公告)日：2019-07-10

申请号：KR1020140017654

申请日：2014-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오쿠보다카히로 ,  도츠카세이야

IPC: H01L21/027

公开(公告)号：KR101542704B1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：KR1020147004500

申请日：2011-03-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로 ,  요시하라고우스케 ,  야마모토유스케 ,  호닉슈테펜

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B05D1/02 ,  B01D29/56 ,  B01D35/02 ,  B05C9/06 ,  B05C11/10 ,  F17D1/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  Y10T137/794

Abstract: 본발명의약액공급시스템은, 약액을저류하는제1 용기및 제2 용기와, 제1 용기와제2 용기를연결하는제1 배관에설치되고, 제1 용기에저류된약액을제2 용기로흘려보내는제1 펌프와, 제1 배관에설치되고, 제1 용기로부터제2 용기를향하여제1 배관내를흐르는약액을여과하는제1 필터와, 제1 용기와제2 용기를연결하는제2 배관과, 제2 배관에설치되고, 제2 용기에저류된약액을제1 용기로흘려보내는제2 펌프를구비한다.

公开(公告)号：KR1020110074657A

公开(公告)日：2011-07-01

申请号：KR1020100108072

申请日：2010-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마츠네나가 ,  하야시신이치 ,  후지모토아키히로 ,  오오쿠보다카히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: B05C5/0237 ,  B05C5/0225 ,  B05C13/02 ,  G03F7/162 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A chemical liquid supply nozzle and a chemical liquid supply method are provided to suppress a drying effect of a chemical liquid by using a low cost. CONSTITUTION: A nozzle body(51) is connected to a front end part of a flow path member for transferring a chemical liquid. A chemical liquid flow path(52) is installed at the nozzle body. The chemical liquid flow path is used for circulating the chemical liquid supplied from the flow path member. A cutoff valve(62) is installed at the chemical liquid flow path. The cutoff valve is used for closing or opening the chemical liquid flow path.

Abstract translation: 目的：提供化学液体供应喷嘴和化学液体供应方法，以便通过低成本抑制化学液体的干燥效果。 构成：喷嘴体（51）连接到用于输送药液的流路部件的前端部。 化学液体流动路径（52）安装在喷嘴体上。 化学液体流动路径用于循环从流路构件供应的化学液体。 截止阀（62）安装在药液流路上。 截止阀用于关闭或打开化学液体流动路径。

公开(公告)号：KR1020140109258A

公开(公告)日：2014-09-15

申请号：KR1020140017654

申请日：2014-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오쿠보다카히로 ,  도츠카세이야

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274

Abstract: An objective of the present invention to prevent a liquid from falling down from a nozzle when discharging a processing solution of a liquid supply source from the nozzle stops in order to supply the processing solution to a processed object from the nozzle. A first liquid supply passage (3A) and a second liquid supply passage (3B) are connected perpendicular to each other between a liquid supply source (2) and the nozzle (24) in a liquid pressure adjustment chamber (8) provided therein with a liquid pressure adjustment valve (31B). The first liquid supply passage (3A) is disposed opposite to an upstream end of the second liquid supply passage (3B) based on a diaphragm of the liquid pressure adjustment valve (31B). Furthermore, after the discharge of the processing solution is terminated, liquid pressure in the liquid supply passage (3) is reduced once. Next, when the liquid pressure starts to be increased, a diaphragm (6) of a liquid pressure adjustment valve (31B) is retreated.

Abstract translation: 从喷嘴排出液体供给源的处理液时，本发明的目的是防止液体从喷嘴掉下来，以便从喷嘴向加工对象供给处理液。 第一液体供应通道（3A）和第二液体供应通道（3B）在设置有液体供应通道（3A）和液体供应通道（3B）的液体压力调节室（8）中在液体供应源（2）和喷嘴（24） 液压调节阀（31B）。 第一液体供给通道（3A）基于液压调节阀（31B）的隔膜与第二液体供应通道（3B）的上游端相对设置。 此外，在处理液的排出终止后，液体供给通道（3）中的液体压力减少一次。 接下来，当液压开始增加时，液压调节阀（31B）的隔膜（6）退回。

公开(公告)号：KR1020130057984A

公开(公告)日：2013-06-03

申请号：KR1020127027167

申请日：2011-03-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로 ,  요시하라고우스케 ,  야마모토유스케 ,  호닉슈테펜

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  B01D35/26

CPC classification number: B05D1/02 ,  B01D29/56 ,  B01D35/02 ,  B05C9/06 ,  B05C11/10 ,  F17D1/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  Y10T137/794 ,  B01D35/26 ,  B05C11/1002 ,  H01L21/0274

Abstract: 본 발명의 약액 공급 시스템은, 약액을 저류하는 제1 용기 및 제2 용기와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제1 배관에 설치되고, 제1 용기에 저류된 약액을 제2 용기로 흘려보내는 제1 펌프와, 제1 배관에 설치되고, 제1 용기로부터 제2 용기를 향하여 제1 배관 내를 흐르는 약액을 여과하는 제1 필터와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제2 배관과, 제2 배관에 설치되고, 제2 용기에 저류된 약액을 제1 용기로 흘려보내는 제2 펌프를 구비한다.

公开(公告)号：KR101554050B1

公开(公告)日：2015-09-17

申请号：KR1020100108072

申请日：2010-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마츠네나가 ,  하야시신이치 ,  후지모토아키히로 ,  오오쿠보다카히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: B05C5/0237 ,  B05C5/0225 ,  B05C13/02 ,  G03F7/162

Abstract: 본발명은저비용으로약액의건조를억제할수 있는약액공급노즐을제공하는것을목적으로한다. 본발명의약액공급노즐은, 유로부재의선단부에접속되는노즐본체에차단밸브와, 약액을흡인유로에흡인하는흡인부가설치되어있다. 따라서약액토출후에상기차단밸브의하류측에잔류하는약액을, 차단밸브의상류측으로흡인하여제거하여, 차단밸브에의해노즐본체안의약액유로를차단할수 있다. 이것에의해, 상기약액유로에서의약액의건조및 고화를억제할수 있다. 또한, 약액유로의하류에시너등을흡인하여약액유로를막을필요가없고, 더미디스펜스의횟수도억제할수 있기때문에, 처리비용의상승을억제할수 있다.

公开(公告)号：KR101452608B1

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：KR1020127027167

申请日：2011-03-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로 ,  요시하라고우스케 ,  야마모토유스케 ,  호닉슈테펜

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  B01D35/26

CPC classification number: B05D1/02 ,  B01D29/56 ,  B01D35/02 ,  B05C9/06 ,  B05C11/10 ,  F17D1/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  Y10T137/794

Abstract: 본 발명의 약액 공급 시스템은, 약액을 저류하는 제1 용기 및 제2 용기와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제1 배관에 설치되고, 제1 용기에 저류된 약액을 제2 용기로 흘려보내는 제1 펌프와, 제1 배관에 설치되고, 제1 용기로부터 제2 용기를 향하여 제1 배관 내를 흐르는 약액을 여과하는 제1 필터와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제2 배관과, 제2 배관에 설치되고, 제2 용기에 저류된 약액을 제1 용기로 흘려보내는 제2 펌프를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020100064335A

公开(公告)日：2010-06-14

申请号：KR1020090117044

申请日：2009-11-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/3092 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933

Abstract: PURPOSE: A processing liquid supplying apparatus is provided to improve process efficiency by efficiently removing a gas dissolved in the processing liquid regardless of the kind of the processing liquid. CONSTITUTION: A buffer tank is connected to an atmosphere side. An N2 gas supply source and the buffer tank are connected through a gas supply pipeline. A circular pipeline(8) is comprised of a drain pipeline(7c) and a return pipeline(8a). The drain pipeline is connected to a filter. The return pipeline is branched from the drain pipeline and is connected to the supply pipeline between a chemical solution container and the buffer tank. A variable throttle(9) is installed on the circular pipeline and bubbles a gas dissolved in a resist liquid by reducing the hydraulic pressure of the resist liquid flowing in the circular pipeline.

Abstract translation: 目的：提供一种处理液体供给装置，通过有效地除去溶解在处理液中的气体来提高处理效率，而不管处理液的种类如何。 构成：缓冲罐连接到大气层。 氮气供应源和缓冲罐通过供气管道连接。 圆形管道（8）由排水管道（7c）和返回管道（8a）组成。 排水管道连接到过滤器。 返回管道从排水管道分支，并连接到化学溶液容器和缓冲罐之间的供应管道。 可变节气门（9）安装在圆形管道上，通过减小在圆形管道中流动的抗蚀剂液体的液压，使溶解在抗蚀剂液体中的气体气泡。

公开(公告)号：KR101487364B1

公开(公告)日：2015-01-29

申请号：KR1020090117044

申请日：2009-11-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

Abstract: 본 발명은 처리액의 낭비를 없앨 수 있으며, 폐액 내에 용존(溶存)하는 가스를 효율적으로 제거할 수 있고, 처리액의 종류에 영향을 받는 일 없이 처리의 최적화를 도모할 수 있으며, 처리 효율의 향상을 도모할 수 있도록 하는 것을 과제로 한다.
기체 공급 관로(6a)를 통해 N
2 가스 공급원(71)에 접속되는 약액 용기와, 피처리 기판에 처리액을 공급하는 공급 노즐(70a)을 접속하는 공급 관로(7a, 7b)에 버퍼 탱크(2)와 필터(3)를 개재한다. 버퍼 탱크를 대기측에 연통 가능하게 형성하며, 기체 공급 관로(6b)를 통해 N
2 가스 공급원(71)과 버퍼 탱크를 접속한다. 필터(3)에 접속되는 드레인 관로(7c)와, 드레인 관로로부터 분기되고, 약액 용기와 버퍼 탱크 사이의 공급 관로에 접속되는 리턴 관로(8a)로 이루어지는 순환 관로(8)를 설치하며, 순환 관로에 설치된 가변 스로틀(9)에 의해 순환 관로 내를 흐르는 레지스트액의 액압을 저하심켜 레지스트액 내에 용존하는 기체를 기포화하여 제거한다.

公开(公告)号：KR1020140029555A

公开(公告)日：2014-03-10

申请号：KR1020147004500

申请日：2011-03-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로 ,  요시하라고우스케 ,  야마모토유스케 ,  호닉슈테펜

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B05D1/02 ,  B01D29/56 ,  B01D35/02 ,  B05C9/06 ,  B05C11/10 ,  F17D1/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  Y10T137/794 ,  H01L21/0273

Abstract: 본 발명의 약액 공급 시스템은, 약액을 저류하는 제1 용기 및 제2 용기와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제1 배관에 설치되고, 제1 용기에 저류된 약액을 제2 용기로 흘려보내는 제1 펌프와, 제1 배관에 설치되고, 제1 용기로부터 제2 용기를 향하여 제1 배관 내를 흐르는 약액을 여과하는 제1 필터와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제2 배관과, 제2 배관에 설치되고, 제2 용기에 저류된 약액을 제1 용기로 흘려보내는 제2 펌프를 구비한다.