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公开(公告)号：KR1020150024303A
公开(公告)日：2015-03-06
申请号：KR1020147029205
申请日：2013-06-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L21/02 , H05H1/46 , H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32091 , H01J37/32174 , H05H2001/4682 , H01L21/3065 , H01L21/02252 , H05H1/46
Abstract: 본 발명은 처리 용기 내의 고주파 전극 외의 전기적 부재로부터 급전 라인이나 신호선 등의 선로 상에 들어오는 유해한 고주파 노이즈에 대하여, 충분히 큰 임피던스를 간편하고 안정적으로 부여하여, 플라즈마 프로세스의 재현성·신뢰성을 향상시키는 것을 과제로 한다.
이 필터 유닛[54(IN)]에 있어서는, 코일[104(1), 104(2)]의 내측을 유동 가능하게 관통하는 봉체(114)와, 코일[104(1), 104(2)]의 하단부에 결합 또는 걸어 맞춘 채로 코일축 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 봉체(114)에 부착되는 코일 수취 부재(126)와, 상기 이송 나사 기구(132)에 의해, 코일[104(1), 104(2)]의 길이(s) 또는 권선 간격(d)을 조정하기 위한 코일 길이 조정부(134)가 구성되어 있다.-
公开(公告)号：KR102070471B1
公开(公告)日：2020-01-29
申请号：KR1020147029205
申请日：2013-06-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L21/02 , H05H1/46 , H01J37/32
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公开(公告)号：KR1020060101302A
公开(公告)日：2006-09-22
申请号：KR1020060024138
申请日：2006-03-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67103 , C23C16/46 , H01J37/32724 , H01L21/683
Abstract: 기판의 면 내부 온도를 균일하게 할 수 있는 서셉터를 제공한다. 서셉터(13)는, 기판(W)보다 작은 기판 유지면(20)을 가지고 있다. 기판 유지면(20)은, 외주 링(21)과 복수의 볼록부(22)를 구비하고 있다. 기판 유지면(20)의 중심 영역(R1)에는, 볼록부(22)를 균등하게 배치한다. 기판 유지면(20)의 중간 영역(R2)에는, 볼록부(22)를 중심 영역(R1)보다도 단위 면적당의 개수가 적어지도록 배치한다. 기판 유지면(20)의 외주 영역(R3)에는, 볼록부(22)와 외주 링(21)을 배치한다. 이에 의해, 기판 유지면(20)의 중간 영역(R2)에 있어서의 열 전달율을, 중심 영역(R1)보다도 낮게 하고, 외주 영역(R3)에 있어서의 열 전달율을 중심 영역(R1)보다도 높게 한다.
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公开(公告)号：KR101902349B1
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：KR1020147018738
申请日：2013-02-06
Applicant: 스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/683 , B23Q3/15 , H02N13/00
CPC classification number: H01L21/6833 , B23Q3/15 , H01L21/67109 , H01L21/6831
Abstract: 상면을판 형상시료를재치하는재치면으로함과함께정전흡착용내부전극을내장한정전척부와, 정전척부를냉각하는냉각베이스부를구비하고, 정전척부와냉각베이스부는접착층을통하여접착일체화되며, 정전척부및 냉각베이스부에형성된냉각용가스구멍에, 절연애자와, 절연애자의외주부에동축적으로설치된절연애자로이루어지는 2중관구조의절연애자를, 냉각용가스구멍측의접착층의노출면을덮도록설치하였다.
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公开(公告)号：KR100948984B1
公开(公告)日：2010-03-23
申请号：KR1020070127552
申请日：2007-12-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 기판이 탑재되는 탑재면과 상기 탑재면에 개구하여 해당 탑재면 상에 가스를 공급하는 복수의 가스 토출 구멍과 상기 가스 토출 구멍으로 가스를 공급하기 위한 가스 공급로를 갖는 판형상 부재를 구비하고, 상기 탑재면을 피복하는 세라믹 용사층이 마련된 기판 탑재대에 있어서, 상기 기판 탑재대는 적어도 상기 가스 토출 구멍과 대향하는 부위의 상기 가스 공급로의 내벽이 곡면형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
기판 탑재대, 기판 탑재대의 제조 방법, 기판 처리 장치, 유체 공급 기구-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100913847B1
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：KR1020070127619
申请日：2007-12-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , C23C16/458 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/68757
Abstract: 기판이 탑재되는 탑재면과, 상기 탑재면에 개구하여 해당 탑재면 상에 가스를 공급하는 복수의 가스 토출 구멍과, 상기 가스 토출 구멍으로 가스를 공급하기 위한 가스 공급로를 갖고, 상기 탑재면을 피복하는 세라믹 용사층이 마련된 기판탑재대의 제조 방법에 있어서, 상기 기판탑재대의 제조 방법은 적어도 상기 가스 토출 구멍과 대향하는 부위의 상기 가스 공급로의 내벽에 제거 가능한 피막을 형성하는 공정과, 상기 탑재면에 세라믹 용사층을 형성하는 세라믹 용사 공정과, 상기 피막을 제거하는 피막 제거 공정을 구비한 것을 특징으로 한다.
기판 탑재대의 제조 방법, 세라믹 용사, 용사 잔류물-
公开(公告)号：KR1020140128955A
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：KR1020147018738
申请日：2013-02-06
Applicant: 스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/683 , B23Q3/15 , H02N13/00
CPC classification number: H01L21/6833 , B23Q3/15 , H01L21/67109 , H01L21/6831
Abstract: 상면을 판 형상 시료를 재치하는 재치면으로 함과 함께 정전 흡착용 내부 전극을 내장한 정전 척부와, 정전 척부를 냉각하는 냉각 베이스부를 구비하고, 정전 척부와 냉각 베이스부는 접착층을 통하여 접착 일체화되며, 정전 척부 및 냉각 베이스부에 형성된 냉각용 가스 구멍에, 절연애자와, 절연애자의 외주부에 동축적으로 설치된 절연애자로 이루어지는 2중관 구조의 절연애자를, 냉각용 가스 구멍측의 접착층의 노출면을 덮도록 설치하였다.
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公开(公告)号：KR1020080055646A
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：KR1020070127619
申请日：2007-12-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , C23C16/458 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/68757
Abstract: A method for fabricating a substrate mounting table is provided to avoid contamination caused by spray residue by preventing spray residue from being left in a coolant gas supply path. A removable coating layer is formed on the inner wall of a gas supply path confronting at least a gas discharge hole(511). A ceramic spray layer(10) is formed on the mounting surface of a substrate. The coating layer is eliminated. While compressed gas is discharged from the gas discharge hole in the ceramic spray process, ceramic is sprayed onto the mounting surface.
Abstract translation: 提供了一种用于制造衬底安装台的方法，以通过防止喷雾残留物留在冷却剂气体供应路径中来避免喷雾残留引起的污染。 至少在气体排出孔（511）的气体供给路径的内壁上形成有可移除的涂层。 陶瓷喷涂层（10）形成在基板的安装表面上。 消除涂层。 当在陶瓷喷涂工艺中压缩气体从气体排出孔排出时，陶瓷被喷到安装表面上。
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公开(公告)号：KR1020080055645A
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：KR1020070127552
申请日：2007-12-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/68785 , H01L21/67028 , H01L21/68757
Abstract: A substrate mounting table, a method for manufacturing the same, a substrate processing apparatus, and a fluid supply mechanism are provided to prevent a hole blockage of a fluid flow channel due to a thermal spraying residual by employing a curved surface in an inner wall of the fluid flow channel. A substrate mounting table(5) has a mounting surface on which a substrate is mounted, a plurality of gas discharge holes(23) for supplying gas onto the mounting surface, a plane-shaped member having a gas supply channel(14) for supplying gas to the gas discharge holes. The substrate mounting surface is provided with a ceramic thermal spraying layer for coating the mounting surface. An inner wall of the gas supply channel corresponding to the gas discharge hole is formed in a curved surface. The gas supply channel is shared by the gas discharge holes. The plane-shaped member is configured by joining a first plane-shaped member having the gas discharge holes and a second plane-shaped member having a groove of which bottom is a curved surface shape.
Abstract translation: 提供了一种基板安装台，其制造方法，基板处理装置和流体供给机构，以防止通过在内壁的内壁中的弯曲表面由于热喷涂残留而导致的流体流路的堵塞 流体流动通道。 基板安装台（5）具有安装基板的安装面，用于向安装面供给气体的多个排气孔（23），具有用于供给的气体供给路径（14）的平面状部件 气体到排气孔。 基板安装表面设置有用于涂覆安装表面的陶瓷热喷涂层。 与气体排出孔对应的气体供给通道的内壁形成为曲面。 气体供应通道由气体排放孔共用。 平面状构件通过接合具有气体排出孔的第一平面形构件和具有其底部为曲面形状的凹槽的第二平面形构件构成。
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公开(公告)号：KR100735937B1
公开(公告)日：2007-07-06
申请号：KR1020060024138
申请日：2006-03-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
Abstract: 기판의 면 내부 온도를 균일하게 할 수 있는 서셉터를 제공한다. 서셉터(13)는, 기판(W)보다 작은 기판 유지면(20)을 가지고 있다. 기판 유지면(20)은, 외주 링(21)과 복수의 볼록부(22)를 구비하고 있다. 기판 유지면(20)의 중심 영역(R1)에는, 볼록부(22)를 균등하게 배치한다. 기판 유지면(20)의 중간 영역(R2)에는, 볼록부(22)를 중심 영역(R1)보다도 단위 면적당의 개수가 적어지도록 배치한다. 기판 유지면(20)의 외주 영역(R3)에는, 볼록부(22)와 외주 링(21)을 배치한다. 이에 의해, 기판 유지면(20)의 중간 영역(R2)에 있어서의 열 전달율을, 중심 영역(R1)보다도 낮게 하고, 외주 영역(R3)에 있어서의 열 전달율을 중심 영역(R1)보다도 높게 한다.
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