기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 방법을 실행시키는 프로그램이 기록된 기억 매체
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    发明公开
    기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 방법을 실행시키는 프로그램이 기록된 기억 매체 审中-实审
    基板处理装置,基板处理方法和用于执行基板处理方法的存储介质记录程序

    公开(公告)号:KR1020160103511A

    公开(公告)日:2016-09-01

    申请号:KR1020160016976

    申请日:2016-02-15

    Abstract: 처리실의분위기조정용의가스의사용량의삭감. 기판처리장치는, 처리실(20) 내에분위기조정용의제1 가스예컨대드라이에어를공급하는가스공급부(80)와, 기판(W)을유지하는기판유지부(30)의주위를둘러싸는컵(50) 내의가스를배기하는컵 배기로(53)와, 컵밖의처리실내의가스를배기하는처리실배기로(55)와, 처리실로부터배기된컵 밖의처리실내의가스를처리실로복귀시키는복귀로(59)를갖는다. 처리실로부터배기된컵 밖의가스처리실배기로로부터배기되는제1 상태와, 처리실로부터배기된컵 밖의가스가복귀로를통하여처리실에복귀되는제2 상태를전환하는배기전환기구(60)가마련되어있다.

    Abstract translation: 用于调节处理室气氛的废气量减少了。 衬底处理室包括:气体供应单元(80),其供应第一气体,例如用于调节处理室(20)中的气氛的干燥空气; 在包围保持基板(W)的基板保持单元(30)的杯(50)内排出气体的杯排出路径(53)。 处理室排出路径(55),其将处理室内的气体排出杯外; 以及返回路径(59),其将处理室中的处理室中的气体从处理室排出的杯子返回到处理室。 设置有排出切换机构60,其切换从处理室排出的杯外的气体处理室排出路径排出气体的第一状态,以及使从处理室排出的杯外的气体返回的第二状态, 通过返回路径到处理室。

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