-
公开(公告)号:KR1020140079339A
公开(公告)日:2014-06-26
申请号:KR1020137029481
申请日:2012-10-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B3/18 , B05B15/80 , B05C9/06 , B05C11/1039 , B05C11/1044 , B05D1/02 , B08B3/04 , B60B17/00 , B60B17/0068 , B60B2900/325 , B61H5/00 , G01B11/306 , G01B21/20 , H01L21/02057 , H01L21/6715 , H01L21/02052 , H01L21/02282 , H01L21/67017
Abstract: 기판 처리 장치는, 기판(W)을 수평으로 유지하여 회전시키는 기판 유지부(21)와, 기판에 대하여 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 공급하는 제1 처리액 공급 노즐 및 제2 처리액 공급 노즐과, 상단이 기판보다 상측에 위치하도록 마련되며, 기판에 공급된 후의 처리액을 받기 위한 액받이 컵(40, 42, 44)과, 액받이 컵의 주위에 배치되고, 그 상단이 상기 액받이 컵(40, 42, 44)의 상측에 있는 상승 위치와, 상기 상승 위치보다 하측에 위치하는 하강 위치 사이에서 승강 가능한, 상부에 상부 개구(50n)가 형성된 통형의 제1 통형 외컵(50A)과, 그 외측의 제2 통형 외컵(50B)을 구비하고 있다. 사용되는 처리액에 따라, 사용하는 통형 외컵(50A, 50B)을 선택한다.
Abstract translation: 液体处理装置包括:基板保持部,其将基板保持在水平位置并旋转基板;第一和第二处理液体供给喷嘴,分别设置成将第一和第二处理液供给到基板;适当地设置的液体接收杯 将其上端定位在基板上方并且接收已经供应到基板的第一或第二处理液体,第一管状外杯,其包括上开口并设置在液体接收杯周围,可在提升位置 第一管状外杯被提升,使得其上端位于液体接收杯的上方,并且位于低于提升位置的降低位置,以及设置在第一管状外杯外部的第二管状外杯。 管状外杯根据处理液的种类选择。
-
公开(公告)号:KR1020140053823A
公开(公告)日:2014-05-08
申请号:KR1020137017509
申请日:2012-07-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , G03F7/42 , H01L21/02 , F21Y101/02
CPC classification number: H01L21/02057 , G03F7/42 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67115 , F21Y2101/00 , H01L21/02052
Abstract: 액처리 장치는, 기판(W)을 수평으로 유지하는 기판 유지 부재(22)와, 기판 유지 부재를 회전시키는 회전 기구(25)와, 기판 유지 부재에 유지된 기판에 가열된 약액을 공급하는 약액 노즐(56a)과, 기판 유지 부재에 유지된 기판의 위쪽을 덮는 톱 플레이트(50)와, 톱 플레이트의 위쪽으로부터, 톱 플레이트를 투과시켜 정해진 파장의 광을 기판 유지 부재에 유지된 기판에 조사함으로써 약액 처리 중에 기판을 가열하는 적어도 1개의 LED 램프(62)를 구비하고 있다.
-
公开(公告)号:KR101917889B1
公开(公告)日:2018-11-12
申请号:KR1020130089468
申请日:2013-07-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/683 , G01B11/00
CPC classification number: H01L22/30 , H01L21/67259 , H01L21/68728 , H01L21/68792 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 본발명은, 기판의유지상태를판별하는장치의배치자유도및 유지상태판정의실행시기의자유도를향상시키는것을목적으로한다. 기판처리장치는, 기판유지부재에의해기판이유지되었을때에기판이존재할수 있는영역을향해검출광을조사하는투광기(61, 71)와, 투광기로부터조사된검출광을받는수광기(62, 72)를구비한다. 기판유지부재에유지된기판의주위에위치하도록설치된기판처리장치의구성부재인기판주위부재(20, 30, 31, 34, 38 등)를, 투광기로부터수광기로향하는검출광의광로(64, 74)가통과하고있다. 검출광은, 기판주위부재를투과하고, 기판을투과하지않는파장을갖고있다.
-
公开(公告)号:KR1020170143455A
公开(公告)日:2017-12-29
申请号:KR1020170078122
申请日:2017-06-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/683
CPC classification number: B08B13/00 , B08B3/041 , B08B3/08 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67173
Abstract: 본발명은액 받이컵의컵체의돌출부를얼룩없이세정하는것을과제로한다. 제1 컵체(51)와제2 컵체(52) 중어느한쪽을승강시켜양자를근접상태로한다. 이때, 제1 돌출부(5102)의하면에형성된간극형성부(5106)와제2 돌출부(5202)의상면사이의제1 간극(G1)이, 제1 돌출부의간극형성부가없는부분과제2 돌출부의상면사이의제2 간극(G2)보다작다. 이상태로, 제2 간극에세정액을공급한다. 반경방향외향으로흐르고자하는세정액의움직임이좁은제1 간극에의해제한되기때문에, 제1 돌출부와제2 돌출부사이의공간의전역을세정액으로채울수 있어, 세정대상면을얼룩없이세정할수 있다.
Abstract translation: 本发明克服了清洗杯架的杯体的突出部分没有斑点的问题。 第一杯体51和第二杯体52中的一个升高和降低以使它们靠得很近。 此时,形成在根据第一突起5102间隙形成部(5106)沃赫第二突起5202是衣服侧之间的第一间隙(G1),任务的第一部分的顶表面2周之间的突起,而不形成在突起部的间隙 Ag 2比间隙G2小。 结果,清洁液体被供应到第二间隙。 由于清洗液的运动,以通过一个窄的第一间隙中,第一突出部和它的两个凸起之间chaeulsu用洗涤液的空间的整个区域流动径向向外椅子是有限的,它可以均匀地清洁清洁目标表面上。
-
公开(公告)号:KR101783079B1
公开(公告)日:2017-09-28
申请号:KR1020137017509
申请日:2012-07-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , G03F7/42 , H01L21/02 , F21Y101/02
CPC classification number: H01L21/02057 , G03F7/42 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67115
Abstract: 액처리장치는, 기판(W)을수평으로유지하는기판유지부재(22)와, 기판유지부재를회전시키는회전기구(25)와, 기판유지부재에유지된기판에가열된약액을공급하는약액노즐(56a)과, 기판유지부재에유지된기판의위쪽을덮는톱 플레이트(50)와, 톱플레이트의위쪽으로부터, 톱플레이트를투과시켜정해진파장의광을기판유지부재에유지된기판에조사함으로써약액처리중에기판을가열하는적어도 1개의 LED 램프(62)를구비하고있다.
-
公开(公告)号:KR101751568B1
公开(公告)日:2017-06-27
申请号:KR1020137006440
申请日:2012-08-01
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02041 , H01L21/465 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/68785 , H01L21/68792
Abstract: 본발명의액처리장치는, 기판(W)을수평으로유지하여회전시키는기판유지부(21)와, 기판유지부에유지된기판에대하여처리액을공급하는처리액노즐(82)과, 기판유지부에유지된기판의둘레가장자리의외측에마련되며, 처리액노즐에의해기판에공급된뒤의처리액을받기위한컵(40)과, 기판유지부에유지된기판을위쪽에서덮는상부판(32)과, 상부판을회전시키는상부판회전구동기구와, 상부판의둘레가장자리를둘러싸는환형의액받이공간(132)을갖는액받이부재(130)를구비하고있다.
-
公开(公告)号:KR101678270B1
公开(公告)日:2016-11-21
申请号:KR1020137029481
申请日:2012-10-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B3/18 , B05B15/80 , B05C9/06 , B05C11/1039 , B05C11/1044 , B05D1/02 , B08B3/04 , B60B17/00 , B60B17/0068 , B60B2900/325 , B61H5/00 , G01B11/306 , G01B21/20 , H01L21/02057 , H01L21/6715
Abstract: 기판처리장치는, 기판(W)을수평으로유지하여회전시키는기판유지부(21)와, 기판에대하여제1 처리액및 제2 처리액을각각공급하는제1 처리액공급노즐및 제2 처리액공급노즐과, 상단이기판보다상측에위치하도록마련되며, 기판에공급된후의처리액을받기위한액받이컵(40, 42, 44)과, 액받이컵의주위에배치되고, 그상단이상기액받이컵(40, 42, 44)의상측에있는상승위치와, 상기상승위치보다하측에위치하는하강위치사이에서승강가능한, 상부에상부개구(50n)가형성된통형의제1 통형외컵(50A)과, 그외측의제2 통형외컵(50B)을구비하고있다. 사용되는처리액에따라, 사용하는통형외컵(50A, 50B)을선택한다.
-
公开(公告)号:KR1020140020750A
公开(公告)日:2014-02-19
申请号:KR1020130089468
申请日:2013-07-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/683 , G01B11/00
CPC classification number: H01L22/30 , H01L21/67259 , H01L21/68728 , H01L21/68792 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: The purpose of the present invention is to improve arrangement freedom degree of a device for determining maintenance of a substrate and freedom degree of an execution time of the maintenance determination. A device for treating a substrate comprises light projectors (61, 71) for irradiating detection light toward a region where a substrate may exist when the substrate is maintained by a substrate maintaining member and light receptors (62, 72) for receiving the detection light irradiated from the light projectors. Light paths (64, 74) of the detection light heading from the light projectors to the light receptors pass through substrate peripheral members (20, 30, 31, 34, 38, etc.), which are elements of the device for treating a substrate and are installed to be located in the periphery of the substrate maintained by the substrate maintaining member. The detection light projects the substrate peripheral members and has a wavelength which does not project the substrate.
Abstract translation: 本发明的目的是提高用于确定基板的维护的装置的布置自由度和维护确定的执行时间的自由度。 用于处理基板的装置包括用于当基板由基板保持构件保持时将检测光照射到可存在基板的区域的光投射器(61,71)和用于接收检测光照射的光接收器(62,72) 从光投影机。 从光投射器到光接收器的检测光的光路(64,74)通过作为用于处理基板的装置的元件的基板周边构件(20,30,31,34,38等) 并且被安装成位于由基板保持构件保持的基板的周边。 检测光投影基板周边部件,并且具有不投影基板的波长。
-
公开(公告)号:KR101811066B1
公开(公告)日:2017-12-20
申请号:KR1020120066770
申请日:2012-06-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/02041 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , Y02E60/34 , Y10T137/0318 , Y10T137/598
Abstract: 본발명의액처리장치는, 상판(32)에는, 수평면상에서상기상판(32)을회전시키는상판회전기구가마련되어있다. 컵(40)의주위에설치된통형의컵 외주통(50)은, 그상단이컵(40)의상방에있는상승위치와, 상승위치보다하방에위치하는하강위치의사이에서승강하도록되어있다. 노즐(82a)을지지하는노즐지지아암(82)은, 컵외주통(50)이상승위치에있을때에상기컵 외주통(50)의측면의측면개구(50m)를통해컵 외주통(50) 내로진출한진출위치와컵 외주통(50)으로부터외방으로후퇴한후퇴위치의사이에서수평방향으로이동한다.
-
公开(公告)号:KR101678268B1
公开(公告)日:2016-11-21
申请号:KR1020137029058
申请日:2012-10-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/02076 , H01L21/30604 , H01L21/67051 , H01L21/67075 , H01L21/6708 , H01L21/6719
Abstract: 본발명에따른액처리장치(10)는, 기판을수평으로유지하는기판유지부(21)와, 기판유지부(21)에유지된기판을상측으로부터덮어, 처리공간(30)을형성하는회전가능한천판(32)을구비하고있다. 처리공간(30) 내에있어서는, 약액노즐(82a)에의해기판에대하여약액이공급되고, 치환노즐(82c)에의해분위기치환가스가처리공간(30) 내에공급되도록되어있다. 또한, 치환노즐(82c)은, 처리공간(30) 내에진출한진출위치와처리공간(30)으로부터외측으로후퇴한후퇴위치사이에서수평방향으로이동하는치환노즐지지아암(82)에의해지지되며, 기판의상측에있어서분위기치환가스를상측을향하여토출하도록구성되어있다.
-
-
-
-
-
-
-
-
-