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    액처리 장치 및 액처리 방법
    1.
    发明公开
    액처리 장치 및 액처리 방법 有权
    液体加工设备和液体加工方法

    公开(公告)号：KR1020140079339A

    公开(公告)日：2014-06-26

    申请号：KR1020137029481

    申请日：2012-10-23

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 이토노리히로 ,  아이우라가즈히로

    IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/04

    CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B3/18 ,  B05B15/80 ,  B05C9/06 ,  B05C11/1039 ,  B05C11/1044 ,  B05D1/02 ,  B08B3/04 ,  B60B17/00 ,  B60B17/0068 ,  B60B2900/325 ,  B61H5/00 ,  G01B11/306 ,  G01B21/20 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/67017

    Abstract: 기판 처리 장치는, 기판(W)을 수평으로 유지하여 회전시키는 기판 유지부(21)와, 기판에 대하여 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 공급하는 제1 처리액 공급 노즐 및 제2 처리액 공급 노즐과, 상단이 기판보다 상측에 위치하도록 마련되며, 기판에 공급된 후의 처리액을 받기 위한 액받이 컵(40, 42, 44)과, 액받이 컵의 주위에 배치되고, 그 상단이 상기 액받이 컵(40, 42, 44)의 상측에 있는 상승 위치와, 상기 상승 위치보다 하측에 위치하는 하강 위치 사이에서 승강 가능한, 상부에 상부 개구(50n)가 형성된 통형의 제1 통형 외컵(50A)과, 그 외측의 제2 통형 외컵(50B)을 구비하고 있다. 사용되는 처리액에 따라, 사용하는 통형 외컵(50A, 50B)을 선택한다.

    Abstract translation: 液体处理装置包括：基板保持部，其将基板保持在水平位置并旋转基板;第一和第二处理液体供给喷嘴，分别设置成将第一和第二处理液供给到基板;适当地设置的液体接收杯 将其上端定位在基板上方并且接收已经供应到基板的第一或第二处理液体，第一管状外杯，其包括上开口并设置在液体接收杯周围，可在提升位置 第一管状外杯被提升，使得其上端位于液体接收杯的上方，并且位于低于提升位置的降低位置，以及设置在第一管状外杯外部的第二管状外杯。 管状外杯根据处理液的种类选择。

    기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 세정 방법 및 기억 매체
    4.
    发明公开
    기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 세정 방법 및 기억 매체 审中-实审
    基板处理装置，基板处理装置的清洁方法以及存储介质

    公开(公告)号：KR1020170143455A

    公开(公告)日：2017-12-29

    申请号：KR1020170078122

    申请日：2017-06-20

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 오가타노부히로 ,  이토노리히로 ,  히가시지마지로 ,  하시모토유스케 ,  아이우라가즈히로

    IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/683

    CPC classification number: B08B13/00 ,  B08B3/041 ,  B08B3/08 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67173

    Abstract: 본발명은액 받이컵의컵체의돌출부를얼룩없이세정하는것을과제로한다. 제1 컵체(51)와제2 컵체(52) 중어느한쪽을승강시켜양자를근접상태로한다. 이때, 제1 돌출부(5102)의하면에형성된간극형성부(5106)와제2 돌출부(5202)의상면사이의제1 간극(G1)이, 제1 돌출부의간극형성부가없는부분과제2 돌출부의상면사이의제2 간극(G2)보다작다. 이상태로, 제2 간극에세정액을공급한다. 반경방향외향으로흐르고자하는세정액의움직임이좁은제1 간극에의해제한되기때문에, 제1 돌출부와제2 돌출부사이의공간의전역을세정액으로채울수 있어, 세정대상면을얼룩없이세정할수 있다.

    Abstract translation: 本发明克服了清洗杯架的杯体的突出部分没有斑点的问题。 第一杯体51和第二杯体52中的一个升高和降低以使它们靠得很近。 此时，形成在根据第一突起5102间隙形成部（5106）沃赫第二突起5202是衣服侧之间的第一间隙（G1），任务的第一部分的顶表面2周之间的突起，而不形成在突起部的间隙 Ag 2比间隙G2小。 结果，清洁液体被供应到第二间隙。 由于清洗液的运动，以通过一个窄的第一间隙中，第一突出部和它的两个凸起之间chaeulsu用洗涤液的空间的整个区域流动径向向外椅子是有限的，它可以均匀地清洁清洁目标表面上。

    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
    8.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-实审
    基板处理装置和基板处理方法

    公开(公告)号：KR1020140020750A

    公开(公告)日：2014-02-19

    申请号：KR1020130089468

    申请日：2013-07-29

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 아이우라가즈히로 ,  이토노리히로 ,  하시모토유스케 ,  나가이다카시

    IPC: H01L21/683 ,  G01B11/00

    CPC classification number: H01L22/30 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68792 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

    Abstract: The purpose of the present invention is to improve arrangement freedom degree of a device for determining maintenance of a substrate and freedom degree of an execution time of the maintenance determination. A device for treating a substrate comprises light projectors (61, 71) for irradiating detection light toward a region where a substrate may exist when the substrate is maintained by a substrate maintaining member and light receptors (62, 72) for receiving the detection light irradiated from the light projectors. Light paths (64, 74) of the detection light heading from the light projectors to the light receptors pass through substrate peripheral members (20, 30, 31, 34, 38, etc.), which are elements of the device for treating a substrate and are installed to be located in the periphery of the substrate maintained by the substrate maintaining member. The detection light projects the substrate peripheral members and has a wavelength which does not project the substrate.

    Abstract translation: 本发明的目的是提高用于确定基板的维护的装置的布置自由度和维护确定的执行时间的自由度。 用于处理基板的装置包括用于当基板由基板保持构件保持时将检测光照射到可存在基板的区域的光投射器（61,71）和用于接收检测光照射的光接收器（62,72） 从光投影机。 从光投射器到光接收器的检测光的光路（64,74）通过作为用于处理基板的装置的元件的基板周边构件（20,30,31,34,38等） 并且被安装成位于由基板保持构件保持的基板的周边。 检测光投影基板周边部件，并且具有不投影基板的波长。

    액처리 장치 및 액처리 방법
    10.
    发明授权
    액처리 장치 및 액처리 방법 有权

    公开(公告)号：KR101678268B1

    公开(公告)日：2016-11-21

    申请号：KR1020137029058

    申请日：2012-10-11

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 아이우라가즈히로 ,  이토노리히로

    IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/687

    CPC classification number: H01L21/02076 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6719

    Abstract: 본발명에따른액처리장치(10)는, 기판을수평으로유지하는기판유지부(21)와, 기판유지부(21)에유지된기판을상측으로부터덮어, 처리공간(30)을형성하는회전가능한천판(32)을구비하고있다. 처리공간(30) 내에있어서는, 약액노즐(82a)에의해기판에대하여약액이공급되고, 치환노즐(82c)에의해분위기치환가스가처리공간(30) 내에공급되도록되어있다. 또한, 치환노즐(82c)은, 처리공간(30) 내에진출한진출위치와처리공간(30)으로부터외측으로후퇴한후퇴위치사이에서수평방향으로이동하는치환노즐지지아암(82)에의해지지되며, 기판의상측에있어서분위기치환가스를상측을향하여토출하도록구성되어있다.

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