公开(公告)号：KR1020020035439A

公开(公告)日：2002-05-11

申请号：KR1020010067417

申请日：2001-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도미타히로시 ,  오가타구니에 ,  사카구치기미나리 ,  이와시타야스하루 ,  우에무라료이치 ,  나카쓰루마사히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253

Abstract: PURPOSE: To reduce labor necessary for setting or for re-setting or correcting the number of rotation of a substrate and improve throughput by automating the above works, when coating film is formed by using spin coating method. CONSTITUTION: In a coating unit, a plurality of recipes for a production line and recipes for measuring film thickness where the kind of coating liquid is identical but target film thickness is different are prepared. Among the recipes, recipes with the kind of coating liquid and the target film thickness corresponding to each other are linked by a common spin curve. A recipe for measuring film thickness is performed, and a correction value of the number of rotation is calculated for each film thickness measuring datum. Setting values for the number of rotation of the respective recipes can be corrected collectively, by using the correction value.

Abstract translation: 目的：通过使用旋涂法形成涂膜，减少设定或重新设定或校正基板旋转数量所需的劳动力，并通过自动化以上工作提高生产率。 构成：在涂布单元中，制备多个用于生产线的配方和用于测量涂层液体的种类相同但靶膜厚度不同的膜厚度的配方。 在配方中，具有涂布液的种类和彼此对应的目标膜厚度的配方通过共同的自旋曲线连接。 执行用于测量膜厚度的配方，并且对于每个膜厚测量基准计算旋转次数的校正值。 可以通过使用校正值来集中地校正各配方的旋转次数的设定值。

公开(公告)号：KR100797721B1

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：KR1020010067417

申请日：2001-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도미타히로시 ,  오가타구니에 ,  사카구치기미나리 ,  이와시타야스하루 ,  우에무라료이치 ,  나카쓰루마사히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253

Abstract: 도포 유닛에 있어서 도포액의 종류는 같지만 목표 막두께가 다른 생산라인용 레시피와 막두께 측정용 레시피를 복수 준비하고, 이들 중 도포액의 종류 및 목표 막두께가 대응하는 것에 관하여 공통의 스핀커브에 링크시킨다. 그리고 막두께 측정용 레시피를 실행하여 막두께 측정 데이터마다 회전수의 보정치를 산출한다. 각 레시피의 회전수 설정치는 이 보정치를 사용함으로써 일괄하여 보정할 수 있다.

公开(公告)号：KR101105568B1

公开(公告)日：2012-01-17

申请号：KR1020060041108

申请日：2006-05-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와시타야스하루 ,  시모무라이치로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2022 ,  G03F7/2026 ,  G03F7/2028 ,  H01L21/67005

Abstract: 본 발명은 주변노광장치, 도포현상장치 및 주변노광방법에 관한 것으로서 각각의 입구측에 광원으로부터의 해당 광 빔의 통로내에 배치된 제 1 및 제 2의 광로 형성 부재와 기판을 재치해 수직축 주위에 회전 자유롭게 구성되어 기판의 주변부가 제 1의 광로 형성 부재의 출구측에서의 광 빔의 조사 영역에 위치하는 제 1의 재치대와 기판의 주변부가 제 2의 광로 형성 부재의 출구측에서의 광 빔의 조사 영역에 위치하는 제 2의 재치대와 제 1 및 제 2의 광로 형성 부재로부터의 각각의 광의 조사를 차단하는 차광 수단을 구비하고 있다. 공통의 광원을 이용하여 제 1 및 제 2의 재치대상의 기판에 대해서 예를 들면 동시에 주변 노광을 실시 할 수 있기 때문에 높은 처리 능력을 갖고 또한 대형화를 억제할 수가 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020060116167A

公开(公告)日：2006-11-14

申请号：KR1020060041108

申请日：2006-05-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와시타야스하루 ,  시모무라이치로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2022 ,  G03F7/2026 ,  G03F7/2028 ,  H01L21/67005 ,  H01L21/6715

Abstract: A peripheral exposure apparatus, a coating/developing apparatus and a peripheral exposure method are provided to improve the throughput and to restrain the increase of apparatus size by exposing simultaneously peripheral regions of substrates using an improved arrangement of substrate loading units. A peripheral exposure apparatus includes a first and a second light path forming member(4A,4B) sequentially arranged from a light source(23), a first substrate loading unit, a second substrate loading unit, and a light shielding unit. The first substrate loading unit is installed at a first outlet side of the first light path forming member in order to make a first peripheral region of a first substrate exposed. The second substrate unit is installed at a second outlet side of the second light path forming member in order to mask a second peripheral region of a second substrate exposed. The light shielding unit is used for blocking the irradiation of light from the first and second light path forming members.

Abstract translation: 提供周边曝光装置，涂布/显影装置和周边曝光方法，以通过使用基板装载单元的改进布置同时曝光基板的外围区域来提高生产量并抑制装置尺寸的增加。 周边曝光装置包括从光源（23），第一基板装载单元，第二基板装载单元和遮光单元顺序布置的第一和第二光路形成构件（4A，4B）。 第一基板装载单元安装在第一光路形成构件的第一出口侧，以使第一基板的第一周边区域露出。 第二基板单元安装在第二光路形成构件的第二出口侧，以便掩蔽暴露的第二基板的第二周边区域。 遮光单元用于阻挡来自第一和第二光路形成构件的光的照射。