公开(公告)号：KR101917414B1

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：KR1020150160348

申请日：2015-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와무라유 ,  하야세후미아키 ,  가미니시마사히코 ,  다카하시고스케 ,  사사키히로코 ,  사사키유

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: C23C16/45591 ,  C23C16/45578

Abstract: 유체를공급하기위한노즐이며, 내부에관로가형성되고, 상기관로의길이방향을따라복수의유체토출구멍이형성된유체토출면을갖는관상부와, 상기관로내에상기길이방향을따라연장되어설치되고, 상기관로를, 상기유체토출면을포함하는제1 영역과상기유체토출면을포함하지않는제2 영역으로구획하고, 상기길이방향에있어서상기복수의유체토출구멍보다도적은수의분산구멍이형성된구획판과, 상기제2 영역에연통하는유체도입로를갖는다.

公开(公告)号：KR1020160059968A

公开(公告)日：2016-05-27

申请号：KR1020150160348

申请日：2015-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와무라유 ,  하야세후미아키 ,  가미니시마사히코 ,  다카하시고스케 ,  사사키히로코 ,  사사키유

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: C23C16/45591 ,  C23C16/45578

Abstract: 유체를공급하기위한노즐이며, 내부에관로가형성되고, 상기관로의길이방향을따라복수의유체토출구멍이형성된유체토출면을갖는관상부와, 상기관로내에상기길이방향을따라연장되어설치되고, 상기관로를, 상기유체토출면을포함하는제1 영역과상기유체토출면을포함하지않는제2 영역으로구획하고, 상기길이방향에있어서상기복수의유체토출구멍보다도적은수의분산구멍이형성된구획판과, 상기제2 영역에연통하는유체도입로를갖는다.

Abstract translation: 设有用于供给流体的喷嘴。 喷嘴具有管状部分，其形成在管中，并且具有沿着管的长度方向形成的流体喷射孔的流体喷射表面，沿管道的长度方向延伸的分隔板，将管 进入包括流体喷射表面的第一区域和除了流体喷射表面之外的第二区域，并且具有分散孔。 分散孔的数量小于流体注入孔的数量。 因此，喷嘴可以防止原料气体的自分解并供应。

公开(公告)号：KR101636093B1

公开(公告)日：2016-07-04

申请号：KR1020110059090

申请日：2011-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미즈노츠요시 ,  난바히로미츠 ,  모로즈미유이치로 ,  히시야신고 ,  하라다가츠시게 ,  하야세후미아키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  C23F1/08

CPC classification number: C23F1/08 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: 표면및 이면에티탄함유막이형성된기판의이면으로부터티탄함유막을제거할때에, 기판의이면에잔류하는티탄원소를종래부터짧은시간에제거할수 있는액 처리방법을제공한다. 본발명은처리액에의해기판의이면을처리하는액 처리방법으로, 회전가능하게설치되고기판을지지하는지지부에의해, 표면및 이면에티탄함유막이형성되어있는기판을지지하고, 지지부에지지되어있는기판을, 지지부와함께회전시키고, 회전하는기판의이면에플루오르화수소산을포함하는제1 처리액을공급하고, 공급한제1 처리액에의해기판의이면을처리하는제1 공정(S11)과, 제1 공정(S11) 후에, 회전하는기판의이면에암모니아과수를포함하는제2 처리액을공급하고, 공급한제2 처리액에의해기판의이면을처리하는제2 공정(S12)을포함한다.

公开(公告)号：KR1020120029987A

公开(公告)日：2012-03-27

申请号：KR1020110059090

申请日：2011-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미즈노츠요시 ,  난바히로미츠 ,  모로즈미유이치로 ,  히시야신고 ,  하라다가츠시게 ,  하야세후미아키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  C23F1/08

CPC classification number: C23F1/08 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: PURPOSE: A liquid processing method and apparatus, and a recording medium recording a program for executing the liquid processing method are provided to eliminate a titanium element in a short time by supplying processing liquids having different etching rate. CONSTITUTION: A substrate supported in a supporting part is rotated with a supporting part. First processing liquid including hydrofluoric acid is provided to the rear side of the rotated substrate(S11). The rear side of the substrate is processed by the first processing liquid. Second processing liquid including ammonium hydrogen peroxide is provided to the rear side of the rotated substrate(S12). The rear side of the substrate is processed by the second processing liquid. DeIonized water is supplied to the bottom side of the substrate(S13). The substrate is dried(S14).

Abstract translation: 目的：提供液体处理方法和装置以及记录用于执行液体处理方法的程序的记录介质，以通过提供具有不同蚀刻速率的处理液来在短时间内消除钛元素。 构成：支撑在支撑部上的基板与支撑部一起旋转。 将包含氢氟酸的第一处理液体设置在旋转基板的后侧（S11）。 基板的后侧由第一处理液处理。 将包含过氧化氢铵的第二处理液体设置在旋转基板的后侧（S12）。 基板的后侧由第二处理液处理。 将去离子水供给到基板的底侧（S13）。 将基板干燥（S14）。