公开(公告)号：KR3003098230000S

公开(公告)日：2002-10-30

申请号：KR3020010019389

申请日：2001-07-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Designer： 히다츠요시

公开(公告)号：KR1020150071655A

公开(公告)日：2015-06-26

申请号：KR1020140181418

申请日：2014-12-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시마사노리 ,  히다츠요시 ,  다케모토노보루 ,  야쿠시지히데아키 ,  린치아흥 ,  하라다아키토시

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32834 ,  H01J37/32844 ,  H01J37/32871 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

Abstract: 본발명은, 배기효율을유지하면서, 파티클이처리용기내에진입하는것을방지할수 있는입자역류방지부재를제공하는것을과제로한다. 처리용기와배기장치를연통시키는배기관의내부에배치되는입자역류방지부재로서, 제1 판형부재와, 개구부를가지며, 제1 판형부재에대하여제1 간극을두고배기장치측에배치되는제2 판형부재를가지며, 개구부는, 평면에서볼 때제1 판형부재에의해덮여있는입자역류방지부재가제공된다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够防止颗粒进入处理容器同时保持排气效率的颗粒防回流部件。 作为布置在排气管中以将处理容器连接到排气装置的颗粒防回流构件，设置有包括第一平面构件和第二平面构件的颗粒防回流构件，该第一平面构件和第二平面构件包括开口部并布置在 所述排气装置相对于所述第一平面构件具有第一间隙。 开口部分由平面的第一平面构件覆盖。

公开(公告)号：KR101163825B1

公开(公告)日：2012-07-09

申请号：KR1020090026291

申请日：2009-03-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히다츠요시 ,  야마모토다카시

IPC: H01L21/68 ,  H05B3/18 ,  C23C4/10

Abstract: 도전체층과 이것을 사이에 끼우는 절연체층으로 구성되는 적층 구조를 가지는 정전척의 주위에 형성된 세라믹스 용사막과 기재의 밀착성이 좋고, 또한 핸들링 시에 외부충격력이 작용해도, 용이하게 용사막이 파손하지 않는 정전척을 제공한다. 절연체층 사이에 끼워진 금속층을 포함하는 적층 구조의 정전척으로서, 상기 금속층의 주연의 노출 부분에 형성된 오목부가 절연성 용사막에 의해 피복되어 있다. 이 정전척의 용사막은, 적어도 상기 오목부의 내측에 노출하는 상기 금속층을 피복하고, 또한 상기 오목부보다 돌출하지 않도록 피복되어 있는 것이 바람직하다. 이에 의해, 금속층으로부터의 누전이나, 금속층의 부식을 방지할 수 있는 동시에, 핸들링 시에 용사막에 외부충격력이 작용해도, 용사막의 파손을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020090095515A

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：KR1020090018609

申请日：2009-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히다츠요시 ,  오야부준

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32724

Abstract: An electrode unit, a substrate processing apparatus, and a temperature control method for an electrode unit are provided to control the whole of an electrode layer appropriately by covering the whole electrode layer to be exposed to the outside by a heating and cooling layer. An electrode unit includes a process chamber(17) processing a substrate by plasma. An electrode layer(32) comprises an opposite surface prepared in the opposite side of a side which is exposed within the process chamber. The heating layer(33) covers an opposite surface of an electrode layer, and simultaneously, the cooling layer(34) covers the opposite surface of the electrode layer through the heating layer. The heating element layer(36) in which the heating medium is filled is arranged between the heating layer and the cooling layer.

Abstract translation: 提供电极单元，基板处理装置和电极单元的温度控制方法，通过覆盖通过加热和冷却层暴露于外部的整个电极层来适当地控制整个电极层。 电极单元包括通过等离子体处理衬底的处理室（17）。 电极层（32）包括在暴露在处理室内的一侧的相对侧准备的相对表面。 加热层（33）覆盖电极层的相反表面，同时，冷却层（34）通过加热层覆盖电极层的相对表面。 其中填充有加热介质的加热元件层（36）设置在加热层和冷却层之间。

公开(公告)号：KR101060774B1

公开(公告)日：2011-08-30

申请号：KR1020090018609

申请日：2009-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히다츠요시 ,  오야부준

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32724

Abstract: 본 발명은 전극층의 전역을 적절하게 온도 제어할 수 있는 전극 유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다. 플라즈마 에칭을 기판에 실시하는 처리실(17)을 구비하는 기판 처리 장치(10)는 반도체 웨이퍼(W)를 탑재하고 또한 처리실(17)내에 고주파 전압을 인가하는 서셉터(12)와 대향하도록 배치되어 있는 상부 전극 유닛으로서의 샤워헤드(29)를 구비하고, 해당 샤워헤드(29)는 처리실(17)측으로부터 차례로 배치된, 처리실(17)내에 노출되는 전극층(32), 가열층(33) 및 냉각층(34)을 갖고, 가열층(33)은 전극층(32)을 전면적으로 덮는 동시에, 냉각층(34)은 가열층(33)을 거쳐서 전극층(32)을 전면적으로 덮고, 가열층(33) 및 냉각층(34)의 사이에는 전열 가스가 충전되는 전열층(36)이 배치된다.

公开(公告)号：KR1020090103815A

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：KR1020090026291

申请日：2009-03-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히다츠요시 ,  야마모토다카시

IPC: H01L21/68 ,  H05B3/18 ,  C23C4/10

Abstract: PURPOSE: An electrostatic chuck and manufacturing method thereof are provided to prevent corrosion or leak, from the metal layer or the metal layer. CONSTITUTION: The electrostatic chuck(30) is the laminating structure including the metal layer inserted between the insulator layers. The electrostatic chuck is covered with the insulating property sprayed film. The sprayed film covers the metal layer which exposes to the inner side of the concave part. The sprayed film is coated not to be protruded from the concave part. The metal layer is the conductive layer or the cracking layer. The cross-sectional shape of the concave part is one among the funnel shape, the envelope shape and the dish-shaped.

Abstract translation: 目的：提供一种静电卡盘及其制造方法，以防止金属层或金属层的腐蚀或泄漏。 构成：静电卡盘（30）是包括插入在绝缘体层之间的金属层的层压结构。 静电吸盘被绝缘性喷涂膜覆盖。 喷涂膜覆盖暴露于凹部内侧的金属层。 涂布不从凹部突出的喷涂膜。 金属层是导电层或裂纹层。 凹部的截面形状是漏斗形状，信封形状和盘状之一。