公开(公告)号：KR100230693B1

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019940001584

申请日：1994-01-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 하라다고지 ,  사토다카미 ,  아나이노리유키 ,  노무라마사후미 ,  오모리쓰다에

IPC: H01L21/304

CPC classification number: C23C16/4485 ,  C23C16/4412 ,  Y10S427/101

Abstract: 반도체 웨이퍼의 소수화 처리를 하기 위한 소수화 처리장치는, 액상상태의 HMDS를 저장하는 탱크와, 웨이퍼 처리를 하는 처리실과, 탱크로부터 처리실로 액상상태의 HMDS를 필요한 때에 필요한 양만큼 송출하는 기구를 구비한다. 처리실은 배기관을 통하여 접속된 에젝터에 의하여 감압 상태로 설정가능하게 된다. 처리실 내에는 웨이퍼를 재치하기 위한 재치대가 배치되며, 이것은 히터를 내장한다. 재치대의 주위에는 링이 배치되며 링에는 2군데에 오목형상의 액받이부가 형성된다. HMDS를 공급하는 2개의 배관이 액받이부 바로 위까지 뻗어 있다. HMDS는 액상상태로 처리실에 공급되며 여기에서 기화한다. 처리실에 있어서의 HMDS의 농도는 액상상태의 HMDS의 공급량을 조정함으로써 제어된다.

公开(公告)号：KR1019940018927A

公开(公告)日：1994-08-19

申请号：KR1019940001584

申请日：1994-01-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 하라다고지 ,  사토다카미 ,  아나이노리유키 ,  노무라마사후미 ,  오모리쓰다에

IPC: H01L21/304