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公开(公告)号:KR100230693B1
公开(公告)日:1999-11-15
申请号:KR1019940001584
申请日:1994-01-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: C23C16/4485 , C23C16/4412 , Y10S427/101
Abstract: 반도체 웨이퍼의 소수화 처리를 하기 위한 소수화 처리장치는, 액상상태의 HMDS를 저장하는 탱크와, 웨이퍼 처리를 하는 처리실과, 탱크로부터 처리실로 액상상태의 HMDS를 필요한 때에 필요한 양만큼 송출하는 기구를 구비한다. 처리실은 배기관을 통하여 접속된 에젝터에 의하여 감압 상태로 설정가능하게 된다. 처리실 내에는 웨이퍼를 재치하기 위한 재치대가 배치되며, 이것은 히터를 내장한다. 재치대의 주위에는 링이 배치되며 링에는 2군데에 오목형상의 액받이부가 형성된다. HMDS를 공급하는 2개의 배관이 액받이부 바로 위까지 뻗어 있다. HMDS는 액상상태로 처리실에 공급되며 여기에서 기화한다. 처리실에 있어서의 HMDS의 농도는 액상상태의 HMDS의 공급량을 조정함으로써 제어된다.
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公开(公告)号:KR100175072B1
公开(公告)日:1999-04-01
申请号:KR1019920007937
申请日:1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정장치는, 피처리체를 반출 및 반입하기 위한 개구부를 가지고, 처리액에 의하여 피처리체를 세정하기 위한 세정처리실과, 상기 개구부를 개폐하기 위한 개폐기구와, 상기 개구기구를 세정하기 위한 세정노즐과를 갖추고 있다. 또, 세정처리액이 저유되고 피처리체를 세정처리액에 의하여 세정하는 세정처리 용기를 갖추고 있으며, 이 용기로부터 세정액이 배출되어서 피처리체의 적어도 일부가 노출하였을 때에, 피처리체에 세정액을 공급하는 노즐을 갖추고 있다.
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公开(公告)号:KR1019940018927A
公开(公告)日:1994-08-19
申请号:KR1019940001584
申请日:1994-01-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
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公开(公告)号:KR1019920022412A
公开(公告)日:1992-12-19
申请号:KR1019920007937
申请日:1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 내용 없음.
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公开(公告)号:KR100588110B1
公开(公告)日:2007-04-25
申请号:KR1019980033631
申请日:1998-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.-
公开(公告)号:KR100532218B1
公开(公告)日:2005-11-30
申请号:KR1019990032185
申请日:1999-08-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C11/08 , G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/162 , G03F7/3021 , Y10S430/136
Abstract: 복수의 색채 레지스트를 기판에 도포하고 또 노광후에 현상을 행하기 위한 도포·현상처리장치는 기판을 세정하기 위한 세정처리유니트와, 세정된 기판에 복수의 각 색채(色彩)레지스트를 기판에 토출하는 복수의 레지스트 토출노즐을 갖추는 레지시트 도포처리유니트와, 이 색채 레지스트가 도포된 기판을 노광 후에 현상하기 위한 현상처리유니트를 구비하고 있다. 따라서, 설비의 소형화, 설치면적을 작게 하는 것이 가능하여 제조 비용의 절감이 가능하다.
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公开(公告)号:KR1019990023710A
公开(公告)日:1999-03-25
申请号:KR1019980033631
申请日:1998-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.-
公开(公告)号:KR1019900002412A
公开(公告)日:1990-02-28
申请号:KR1019890007138
申请日:1989-05-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 테루큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: G03F7/16
Abstract: 내용 없음
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公开(公告)号:KR100741153B1
公开(公告)日:2007-07-20
申请号:KR1020000038987
申请日:2000-07-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 본 발명은 기판반송장치에 관한 것으로서, 반송방향 이동체에 대하여 수평회전이 가능한 회전축에 지지되어진 수용박스 내에 기판 전달부재를 설치함으로써, 유리기판이 수용박스 바깥에 부유하는 파티클과 접속하는 일이 거의 없어, 기판의 반송영역을 클린환경으로 만들 필요가 없으므로, 클린환경을 형성하기 위한 비용을 대폭적으로 삭감시킬 수 있는 기술이 제시된다.
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公开(公告)号:KR100706381B1
公开(公告)日:2007-04-10
申请号:KR1020000030315
申请日:2000-06-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 기판의 보유·유지부재가, 대향하는 측벽부의 폭이 기판 장변의 길이에 상당하는 길이를 가지고, 이 측벽부들의 대향방향으로 장변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지할 수 있는 넓은 폭의 제 1의 보유·유지부와, 대향하는 측벽{단차부} 사이의 폭이 기판의 단변방향의 길이에 상당하는 길이를 갖추고, 이 단차부들의 대향방향으로 단변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지부를 갖춘다. 따라서, 반입반출대상인 처리장치가 장변을 쥐는 경우에는, 기판방향 조정수단에 의해, 이 보유·유지부재보다도 상방으로 유리기판을 위치시킨 후, 당해 기판의 장변이 당해 처리장치의 반입반출부를 향하여 마주보도록 회전시켜 하강시킨다. 이에 의해, 제 1의 보유·유지부에 기판이 재치되어, 장변을 쥐는 당해 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다. 마찬가지의 조작에 의해 제 2의 보유·유지부 상에 기판을 재치하면, 단변을 쥐는 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다.
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