처리장치및처리방법
    1.
    发明授权
    처리장치및처리방법 失效
    用于半导体处理的装置和方法

    公开(公告)号:KR100230693B1

    公开(公告)日:1999-11-15

    申请号:KR1019940001584

    申请日:1994-01-28

    CPC classification number: C23C16/4485 C23C16/4412 Y10S427/101

    Abstract: 반도체 웨이퍼의 소수화 처리를 하기 위한 소수화 처리장치는, 액상상태의 HMDS를 저장하는 탱크와, 웨이퍼 처리를 하는 처리실과, 탱크로부터 처리실로 액상상태의 HMDS를 필요한 때에 필요한 양만큼 송출하는 기구를 구비한다. 처리실은 배기관을 통하여 접속된 에젝터에 의하여 감압 상태로 설정가능하게 된다. 처리실 내에는 웨이퍼를 재치하기 위한 재치대가 배치되며, 이것은 히터를 내장한다. 재치대의 주위에는 링이 배치되며 링에는 2군데에 오목형상의 액받이부가 형성된다. HMDS를 공급하는 2개의 배관이 액받이부 바로 위까지 뻗어 있다. HMDS는 액상상태로 처리실에 공급되며 여기에서 기화한다. 처리실에 있어서의 HMDS의 농도는 액상상태의 HMDS의 공급량을 조정함으로써 제어된다.

    도포막형성장치및방법
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:KR100588110B1

    公开(公告)日:2007-04-25

    申请号:KR1019980033631

    申请日:1998-08-19

    Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
    본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
    본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.

    도포막형성장치및방법
    7.
    发明公开
    도포막형성장치및방법 有权
    涂膜形成设备和方法

    公开(公告)号:KR1019990023710A

    公开(公告)日:1999-03-25

    申请号:KR1019980033631

    申请日:1998-08-19

    Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
    본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
    본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.

    기판반송장치
    10.
    发明授权
    기판반송장치 失效
    基板运输装置

    公开(公告)号:KR100706381B1

    公开(公告)日:2007-04-10

    申请号:KR1020000030315

    申请日:2000-06-02

    Abstract: 기판의 보유·유지부재가, 대향하는 측벽부의 폭이 기판 장변의 길이에 상당하는 길이를 가지고, 이 측벽부들의 대향방향으로 장변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지할 수 있는 넓은 폭의 제 1의 보유·유지부와, 대향하는 측벽{단차부} 사이의 폭이 기판의 단변방향의 길이에 상당하는 길이를 갖추고, 이 단차부들의 대향방향으로 단변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지부를 갖춘다. 따라서, 반입반출대상인 처리장치가 장변을 쥐는 경우에는, 기판방향 조정수단에 의해, 이 보유·유지부재보다도 상방으로 유리기판을 위치시킨 후, 당해 기판의 장변이 당해 처리장치의 반입반출부를 향하여 마주보도록 회전시켜 하강시킨다. 이에 의해, 제 1의 보유·유지부에 기판이 재치되어, 장변을 쥐는 당해 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다. 마찬가지의 조작에 의해 제 2의 보유·유지부 상에 기판을 재치하면, 단변을 쥐는 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다.

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