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公开(公告)号：KR1019950001954A
公开(公告)日：1995-01-04
申请号：KR1019940013094
申请日：1994-06-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/324
Abstract: 본 발명은, 재치대상에 재치되는 피처리체를 가열 또는 냉각해서 처리를 하는 처리장치에 관한 것으로, 한쪽끝단에 개구를 가지는 하우징과, 이 하우징내에 설치되어 피처리체를 재치하는 상면과, 하면을 가지는 열도체의 재치대와, 상기 하우징내에 설치되고, 이 재치대가 그 하면과 대면하도록 하여 위에 위치되는 상면을 가지며, 재치대를 통해서 피처리체를 열처리하는 열처리원과, 이 열처리원 상면과, 재치대 하면과의 사이에서 열전도를 하도록 양면을 밀착시키는 수단과, 상기 열처리원 상면에 대해서 재치대 하면을 위치결정함과 동시에, 재치대를 열처리원에 대해서 상기 개구방향으로 이동가능하게 하는 보조수단을 구비하여 피처리체의 처리열 온도분포의 균일화를 도모할 수가 있음과 동시에, 열관의 클리닝이나 교환등의 메인티넌스성 향 상을 도모할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100236410B1
公开(公告)日：1999-12-15
申请号：KR1019940013094
申请日：1994-06-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/324
CPC classification number: F27D99/0001 , H01L21/67103
Abstract: 본 발명은, 재치대상에 재치되는 피처리체를 가열 또는 냉각해서 처리를 하는 처리장치에 관한 것으로, 한쪽끝단에 개구를 가지는 하우징과, 이 하우징 내에 설치되어 피처리체를 재치하는 상면과, 하면을 가지는 열도체의 재치대와, 상기 하우징내에 설치되고, 이 재치대가 그 하면과 대면하도록 하여 위에 위치되는 상면을 가지며, 재치대를 통해서 피처리체를 열처리하는 열처리원과, 이 열처리원 상면과, 재치대 하면과의 사이에서 열 전도를 하도록 양면을 밀착시키는 수단과, 상기 열처리원 상면에 대해서 재치대 하면을 위치결정함과 동시에, 재치대를 열처리원에 대해서 상기 개구방향으로 이동가능하게 하는 보조수단을 구비하여 피처리체의 처리열 온도분포의 균일화를 도모할 수가 있음과 동시에, 열판의 클리닝이나 교환등의 메인티넌스성 � ��상을 도모할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100230693B1
公开(公告)日：1999-11-15
申请号：KR1019940001584
申请日：1994-01-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: C23C16/4485 , C23C16/4412 , Y10S427/101
Abstract: 반도체 웨이퍼의 소수화 처리를 하기 위한 소수화 처리장치는, 액상상태의 HMDS를 저장하는 탱크와, 웨이퍼 처리를 하는 처리실과, 탱크로부터 처리실로 액상상태의 HMDS를 필요한 때에 필요한 양만큼 송출하는 기구를 구비한다. 처리실은 배기관을 통하여 접속된 에젝터에 의하여 감압 상태로 설정가능하게 된다. 처리실 내에는 웨이퍼를 재치하기 위한 재치대가 배치되며, 이것은 히터를 내장한다. 재치대의 주위에는 링이 배치되며 링에는 2군데에 오목형상의 액받이부가 형성된다. HMDS를 공급하는 2개의 배관이 액받이부 바로 위까지 뻗어 있다. HMDS는 액상상태로 처리실에 공급되며 여기에서 기화한다. 처리실에 있어서의 HMDS의 농도는 액상상태의 HMDS의 공급량을 조정함으로써 제어된다.
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公开(公告)号：KR100186043B1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019930009372
申请日：1993-05-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판세정장치는, LCD용 유리기판의 양면을 브러시 세정하기 위한 상하 브러시 부재를 가지는 브러시 세정기구와, 상하 브러시 부재의 각각을 회전시키는 회전기구와, 상하 브러시 부재의 각각에 순수한 물을 공급하는 세정액 공급기구와, 기판을 상하 브러시 부재 상호간에 반송하며, 상하 브러시 부재의 상호간 위치로서 기판을 반송방향으로 왕복 운동시키는 반송기구와, 상기 반송수단의 동작을 제어하는 콘트롤러를 가진다.
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公开(公告)号：KR1019940018927A
公开(公告)日：1994-08-19
申请号：KR1019940001584
申请日：1994-01-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140019792A
公开(公告)日：2014-02-17
申请号：KR1020137026299
申请日：2012-02-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 호리바 어드밴스트 테크노
IPC: G01F1/66 , G01N29/02 , H01L21/027
Abstract: 본 발명은, 처리액용 유량계에 여러 가지의 기능을 갖게 하여 사용하기 쉽게 하는 것이다. 구체적으로 본 발명은, 공급배관(200)을 흐르는 처리액의 유속을 측정하는 것으로서, 상기 공급배관(200)이 흐르는 방향으로 일정거리 이간해서 배치된 한 쌍의 초음파 진동자(2,3)와, 한쪽의 초음파 진동자(2)로부터 발해진 초음파가 다른쪽의 초음파 진동자(3)에 도달하는 시간인 제 1 도달시간(T1) 및 상기 다른쪽의 초음파 진동자(3)으로부터 발해진 초음파가 상기 한쪽의 초음파 진동자(2)에 도달하는 시간인 제 2 도달시간(T2)에 기초하여, 상기 처리액의 유속을 산출하는 유속 산출부(4)와, 산출된 상기 처리액의 유속의 시간 변화량에 기초하여, 그 처리액에 기포가 혼입되어 있는지 아닌지를 판단하는 기포 혼입 판단부(5)를 구비한다.
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公开(公告)号：KR1020150060538A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：KR1020140160072
申请日：2014-11-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G05D11/132 , B01F3/088 , B01F15/0479
Abstract: 본발명은액의혼합비율의정밀도를향상시키는것을목적으로한다. 실시형태에따른기판처리장치는, 혼합조와, 제1 개폐밸브와, 제2 개폐밸브와, 제1 유량계측부와, 제2 유량계측부와, 제어부와, 기판처리유닛을구비한다. 혼합조에서는, 제1 액과제1 액보다다량의제2 액이혼합된다. 제1 개폐밸브는, 제1 액이흐르는제1 유로를개폐한다. 제2 개폐밸브는, 제2 액이흐르는제2 유로를개폐한다. 제1 유량계측부는, 제1 유로를통해흐르는제1 액의유량을계측한다. 제2 유량계측부는, 제2 유로를통해흐르는제2 액의유량을계측한다. 제어부는, 제1 개폐밸브및 제2 개폐밸브의개폐를제어한다. 기판처리유닛은, 제1 액과제2 액의혼합액을기판에대하여공급함으로써기판을처리한다. 또한, 제어부는, 제1 개폐밸브를개방한후, 제1 유량계측부에의해계측된제1 액의유량의적산치가미리정해진목표치에도달한경우에, 제1 개폐밸브를폐쇄하는제1 폐쇄처리를실행하고, 제1 개폐밸브를개방한후부터제1 개폐밸브가완전히폐쇄된후에있어서의제1 액의유량의적산치에기초하여, 혼합조에대한제2 액의공급량의목표치를산출하며, 산출된목표치와제2 유량계측부에의해계측된제2 액의유량의적산치에기초하여, 제2 개폐밸브를폐쇄하는제2 폐쇄처리를실행한다.
Abstract translation: 本发明的目的是提高液体混合速度的精度。 根据本发明的实施例的基板处理装置包括混合罐，第一开闭阀，第二开闭阀，第一流量测量部，第二流量测量部，控制部和基板 处理单元。 第一液体和第二液体，其量大于第一液体的量，在混合罐中彼此混合。 第一打开和关闭阀打开/关闭第一液体流动的第一流动通道。 第二打开和关闭阀打开/关闭第二液体流动的第二流动通道。 第一流量测量部件测量流过第一流动通道的第一液体的量。 第二流量测量部分测量流过第二流动通道的第二液体的量。 控制部控制第一开闭阀和第二开闭阀。 基板处理单元通过将第一液体和第二液体的混合液体供给到基板对基板进行处理。 此外，在第一开闭阀打开之后，当由第一流量测量部测量的第一液体的量的积分值达到预定目标值时，控制单元进行关闭的第一关闭处理 首先打开和关闭阀门。 基于通过打开第一开闭阀直到完全关闭第一开闭阀而获得的第一液体的量的积分值，控制单元计算第二液体的供给量的目标值 到混合罐。 基于由第二流量测量部测量的计算出的目标值和第二液体量的积分值，控制部进行关闭第二开闭阀的第二关闭处理。
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公开(公告)号：KR1020170038678A
公开(公告)日：2017-04-07
申请号：KR1020160122214
申请日：2016-09-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은기판을처리액으로균일하게처리할수 있는기판액 처리장치를제공한다. 본발명에서는, 복수의기판(8)을배열시킨상태로처리액에침지하여처리하는처리조(34)와, 상기처리조(34)의내부에서상기기판(8)의하방에배치되어, 상기기판(8)의배열방향을따라연장시킨관체(74)에상기처리액을토출하기위한토출구(76)를형성한처리액공급노즐(49)을갖는기판액 처리장치(1)에있어서, 상기토출구(76)는, 상기기판(8)의배열방향과직교하는수평방향으로간격을두고제1 측면(78) 및제2 측면(79)을형성하며, 상기제1 측면(78) 또는/및상기제2 측면(79)의외측단가장자리가, 내측단가장자리를상기관체(74)의중심으로부터반경방향으로연장한위치(B1, D1)보다수평방향을향하여외측으로개방한위치(A1, C1)에마련되어있다.
Abstract translation: 本发明提供能够用处理液均匀地处理基板的基板液处理装置。 本发明的特征在于包括：处理槽34，用于将处理液浸渍在配置有多个基板8的状态下并对处理槽34进行处理; 一种具有处理液供给喷嘴（49）的基板液处理装置（1），在沿着基板（8）的排列方向延伸的管体（74）内形成有用于排出处理液的排出口（76） 排出口76在与基板8的排列方向垂直的水平方向上隔开间隔地形成第一侧面78和第二侧面79，第一侧面78和/ 第二侧面79的外缘位于从管主体74的中心向半径方向延伸的位置B1，D1的位置朝向水平方向外侧开口的位置A1，C1 它提供。
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10.发明公开기판 액처리 장치, 기판 액처리 방법, 및 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 审中-实审基板液体处理装置，基板液体处理方法以及具有基板液化处理程序的计算机可读存储介质
公开(公告)号：KR1020160094275A
公开(公告)日：2016-08-09
申请号：KR1020160006297
申请日：2016-01-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/30604 , H01L21/67086 , H01L21/67253
Abstract: 본발명은기판액처리장치에있어서, 농도센서의고장등을방지하고, 농도센서로부터석출되거나한 먼지가기판에부착되는것을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(8)을처리하기위한처리액을저류하는처리액저류부(38)와, 처리액저류부(38)에처리액을공급하는처리액공급부(39)와, 처리액저류부(38)의내부의처리액을순환시키는처리액순환부(40)와, 처리액순환부(40)로부터분기되어처리액을배출시키는처리액배출부(41)와, 처리액배출부(41)에설치되며, 처리액중의농도를계측하는농도센서(61)와, 처리액공급부를제어하는제어부(7)를가지며, 제어부는, 처리액순환부에의해처리액을순환시키고, 순환시킨처리액을미리정해진타이밍에서단속적으로또는미리정해진시간으로연속적으로처리액배출부로부터배출시키며, 처리액공급부로부터새로운처리액을공급하고, 배출시킨처리액에대해미리정해진타이밍에서처리액중의농도를농도센서에의해계측시키는것으로한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种能够防止浓度传感器故障并防止从浓度传感器提取的灰尘附着于基板的基板液体处理装置。 基板液体处理装置包括：处理液体储存部（38），其存储处理液体以处理基板（8）; 将处理液供给到处理液收容部（38）的处理液供给部（39）。 使处理液储存部（38）中的处理液循环的处理液循环部（40）; 处理液体排出部分（41）从处理液循环部分（40）分叉以排出处理液体; 浓度传感器（61），其安装在处理液排出部（41）中，并测量处理液的浓度; 和控制处理液供给部的控制部（7）。 控制部件使处理液体通过处理液循环部循环，在规定的时刻间歇地或连续地从处理液排出部排出循环的处理液，从处理液供给部供给新的处理液， 在规定的时刻通过浓度传感器排出处理液。
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