Abstract:
본 발명의 실시예의 측면에 따라, 오차 신호에 기초하여, 대역폭 제어를 위해, 또는 임의의 빔 배율 제어를 이용하지 않으면서, 대역폭이 아닌 다른 레이저 동작 파라미터의 제어를 위해, 시드 레이저 및 증폭기 레이저에서의 가스 방전 사이의 미분 타이밍을 조정하거나, 또는 오차 신호에 기초하여, 대역폭 제어를 위해, 또는 대역폭 제어가 아닌 것을 위해 빔 배율 제어를 이용하면서, 대역폭이 아닌 다른 레이저 동작 파라미터의 제어를 위해, 시드 레이저 및 증폭기 레이저에서의 가스 방전 사이의 미분 타이밍을 조정하고, 오차 신호에 기초하여, 대역폭 제어를 위해, 또는 오차 신호에 기초한 대역폭 제어를 위해 빔 배율 제어를 이용하면서, 대역폭이 아닌 다른 레이저 동작 파라미터의 제어를 위해, 시드 레이저 및 증폭기 레이저에서의 가스 방전 사� ��의 미분 타이밍을 조정하는 것을 포함하는 방법 및 장치가 개시된다. 레이저 시스템, 대역폭, 캐비티, 시드 레이저 출력, 가스 방전 시드 레이저, 가스 방전 증폭기 레이저, 대역폭 측량 유닛, 대역폭 측정치, 대역폭 세트 포인트, 대역폭 오차 신호 생성기, 격자, 가변 빔 배율 광학 시스템, 가변 배율 라인 협대화 유닛, 미분 타이밍 컨트롤러, 대역폭 컨트롤러, 불감대, 대역폭 오차 신호
Abstract:
According to aspects of an embodiment of the disclosed subject matter, method and apparatus are disclose that ma y comprise adjusting a differential timing between gas discharges in the seed laser and amplifier laser for bandwidth control, based on the error signal, or for control of another laser operating parameter other than bandwidth, without utilizing any beam magnification control, or adjusting a differential timing between gas discharges in the seed laser and amplifier laser for bandwidth control, based on the error signal, or for control of another laser operating parameter other than bandwidth, while utilizing beam magnification control for other than bandwidth control, and adjusting a differential timing between gas discharges in the seed laser and amplifier laser for bandwidth control, based on the error signal, or for control of another laser operating parameter other than bandwidth, while utilizing beam magnification control for bandwidth control based on the error signal.
Abstract:
분산 파장 선택 광학장치에 대해 각각의 펄스를 포함하고 있는 레이저 광 펄스 빔의 입사각에 의해 적어도 부분적으로 결정되는 각각의 펄스에 대해 적어도 하나의 중심 파장을 선택하는 분산 대역폭 선택 광학 장치(도 1의 참조기호 120); 분산 중심 파장 선택 광학장치에 대해 각각의 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 적어도 하나의 입사각( )을 선택하도록 동작하는 튜닝 메커니즘; 상기 분산 중심 파장 선택 광학장치로부터, 각 부분이 적어도 2 개의 상이한 선택된 중심 파장중에 하나를 가지는, 복수의 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않는 부분들을 구비한 레이저 광 펄스를 복귀시키기 위해 레이저 광 펄스의 상이한 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않는 부분에 대한 입사각을 각각 정의하는 복수의 입사각 선택 엘리먼트를 포함하는 튜닝 메커니즘을 포함하는, 협대역 단펄스 듀레이션 가스 방출 레이저 출력 광 펄스 빔 생성 시스템으로서, 선택된 펄스 반복율에서 레이저 출력 광 펄스를 구비하는 빔을 생성하는 시스템에 대역폭 제어를 제공하는 장치 및 방법이 개시된다. 상기 튜닝 메커니즘은, 상기 분산 대역폭 선택 광학장치로부터, 각 펄스의 각각의 시간적으로 분리된 부분이 적어도 2 개의 상이한 선택된 중심 파장중에 하나를 가지는, 각 펄스의 복수의 시간적으로 분리된 부분들을 구비한 레이저 빔을 복귀시키기 위해 펄스의 상이한 시간적으로 분리된 부분에 대한 입사각을 각각 정의하는 시간 입사각( ) 선택 엘리먼트를 포함할 수 있다. 상기 튜닝 메커니즘은, 레이저 광 펄스의 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않은 부분에 대해 각각 입사각을 정의하는 복수의 공간 입사각 선택 엘리먼트; 및 상기 펄스의 각각의 공간적으로 분리되지만 시간적으로 분리되지 않은 부분중 적어도 제 1 시간적으로 분리된 부분에 대한 적어도 제 1 입사각과, 상기 펄스의 각각의 공간적으로 분리된 부분 중에서 제 2의 시간적으로 분리되지만 공간적으로 분리되지 않은 부분에 대한 제 2 입사각을 각각 정의하는 복수의 시간 입사각 선택 엘리먼트를 포함할 수 있다. 협대역 단펄스 듀레이션의 가스 방출 레이저 출력 광 펄스 빔 생성 시스템, 펄스 반복율, 레이저 출력 광 펄스, 분산 파장 선택 광학장치, 펄스, 입사각, 튜닝 메커니즘, 입사각 선택 엘리먼트
Abstract:
An apparatus and method is disclosed which may comprise an EUV drive laser system comprising: a solid state seed laser master oscillator laser; a gas discharge excimer laser gain generator producing a drive laser output light beam. The solid state seed laser may comprise a third harmonic Nd: YLF laser, which may be tunable. The gas discharge excimer gain generator laser may comprise a XeF excimer laser power amplifier or power oscillator. The solid state laser may comprise a tunable laser tuned by changing the temperature of a laser crystal comprising the solid state laser, or by utilizing a wavelength selection element, e.g., a Lyot filter or an etalon.
Abstract:
An apparatus and method for providing bandwidth control in a narrow band short pulse duration gas discharge laser output light pulse beam producing system, producing a beam comprising laser output light pulses at a selected pulse repetition rate, is disclosed which may comprise a dispersive bandwidth selection optic (Fig. 1, character 120) selecting at least one center wavelength for each pulse determined at least in part by the angle (of incidence of the laser light pulse beam containing the respective pulse on the dispersive wavelength selection optic; a tuning mechanism operative to select at least one angle (Deltaalpha L)of incidence of the a laser light pulse beam containing the respective pulse upon the dispersive center wavelength selection optic; the tuning mechanism comprising a plurality of incidence angle selection elements each defining an angle of incidence for a different spatially separated but not temporally separated portion of the laser light pulse to return from the dispersive center wavelength selection optic a laser light pulse comprising a plurality of spatially separated but not temporally separated portions, each portion having one of at least two different selected center wavelengths. The tuning mechanism may comprise a temporal angle (DeltaalphaL) of incidence selection element defining an angle of incidence for different temporally separated portions of the pulse to return from the dispersive bandwidth selection optic a laser beam comprising a plurality of temporally separated portions of each pulse, each temporally separated portion of each pulse having one of at least two different selected center wavelengths. The tuning mechanism may comprise a plurality of spatial incidence angle selection elements each defining an angle of incidence for a spatially separated but not temporally separated portion of the laser light pulse, and a plurality of temporal angle of incidence selection elements each defining at least a first angle of incidence for at least a first temporally separated portion of each spatially separated but not temporally separated portion of the pulse and a second angle of incidence for a second temporally separated but not spatially separated portion of each spatially separated portion of the pulse. ® KIPO & WIPO 2007