公开(公告)号：KR100882910B1

公开(公告)日：2009-02-10

申请号：KR1020070072200

申请日：2007-07-19

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 남명우 ,  김창수 ,  권정현

IPC: H01L21/3063 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6708

Abstract: 본 발명은 식각챔버; 상기 식각챔버 내부 상측에 위치하며, 식각액을 분사하는 다수개의 노즐을 구비하는 배관부; 상기 배관부 하측에 위치하는 마스크기판; 및 상기 마스크기판 하측에 위치하며, 기판을 이송하는 이송수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 식각장치를 제공한다.
상기와 같이 다수개의 노즐을 구비하는 배관부와 기판 사이에 위치하는 마스크기판은 메쉬형태 및 다수개의 홀 또는 슬릿형태의 구조로 되어 있다.
따라서, 습식식각 시 발생할 수 있는 미세거품(Micro bubble)을 방지하여 균일한 식각률을 얻을 수 있다.
또한, 상기 마스크기판의 측면에는 고정부를 구비하는 리프트장치가 위치하여 상기 마스크기판을 상하로 이동시킴으로서 균일한 식각률을 제어할 수도 있다.
식각, 메쉬

Abstract translation: 蚀刻设备技术领域本发明涉及蚀刻设备，其包括：蚀刻室; 位于蚀刻室上方并具有用于喷射蚀刻剂的多个喷嘴的管道单元; 放置在管道部分下面的掩模基底; 以及用于转移衬底的转移装置，转移装置位于掩模衬底下方。

公开(公告)号：KR1020110061287A

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：KR1020090117891

申请日：2009-12-01

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 신의신 ,  남명우 ,  박진한 ,  박재석

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/20 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/94 ,  G01N21/8901 ,  G01N21/9501 ,  G03F7/162 ,  G03F7/7065

Abstract: PURPOSE: A surface inspecting device for sensing foreign materials on the surface of an object, a method for inspecting a surface using the same, and a slit coater including the same are provided to prevent a slit nozzle from becoming damaged or broken due to foreign materials by inspecting foreign materials on the surface of a substrate in real time. CONSTITUTION: A slit lighting unit(10) emits slit light. An optical system(20) divides the slit light into two light and emits the divided light to an object(5). The optical system includes a first splitter(21), a second splitter(22), a reflection mirror(23), and a PZT(Piezo-electronic Transducer) unit(24). An image device(30) photographs interference phase and outputs an image signal. An analyzing unit(40) determines whether to sense foreign materials by analyzing the brightness of the image signal in real time.

Abstract translation: 目的：提供用于感测物体表面的异物的表面检查装置，使用其的表面检查方法和包括该表面的切缝式涂布机，以防止狭缝喷嘴由于异物而损坏或破裂 通过实时检查基板表面的异物。 构成：狭缝照明单元（10）发射狭缝光。 光学系统（20）将狭缝光分成两个光，并将分光发射到物体（5）。 光学系统包括第一分离器（21），第二分离器（22），反射镜（23）和PZT（压电电子传感器）单元（24）。 图像装置（30）拍摄干涉相位并输出图像信号。 分析单元（40）通过实时分析图像信号的亮度来确定是否感测异物。

公开(公告)号：KR100995410B1

公开(公告)日：2010-11-18

申请号：KR1020030084466

申请日：2003-11-26

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 남명우 ,  정병현 ,  강희철 ,  김병진

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판에 공급되는 세정액의 공급 형태를 혹은 세정액에 걸리는 압력의 형태를 일정 시간씩 공급과 중단을 반복하는 펄스 타입으로 하며, 세정액이 공급되는 압력은 20kg중/cm
2 정도의 고압으로 설정하는 세정 장치가 개시된다.
본 발명에 따르면, 세정 공정 중 기판면에 수막이 형성되어 세정 효율을 떨어뜨리는 문제를 없애 세정 효율을 높이고, 세정액을 절약할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050050820A

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：KR1020030084466

申请日：2003-11-26

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 남명우 ,  정병현 ,  강희철 ,  김병진

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판에 공급되는 세정액의 공급 형태를 혹은 세정액에 걸리는 압력의 형태를 일정 시간씩 공급과 중단을 반복하는 펄스 타입으로 하며, 세정액이 공급되는 압력은 20kg중/cm
2 정도의 고압으로 설정하는 세정 방법 및 장치가 개시된다.
본 발명에 따르면, 세정 공정 중 기판면에 수막이 형성되어 세정 효율을 떨어뜨리는 문제를 없애 세정 효율을 높이고, 세정액을 절약할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020090008878A

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：KR1020070072200

申请日：2007-07-19

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 남명우 ,  김창수 ,  권정현

IPC: H01L21/3063 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/3063 ,  H01L21/67063 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/68742

Abstract: An etching apparatus is provided to obtain the uniform etching rate by preventing a micro bubble in a wet etching process. An etching apparatus includes an etch chamber(10), a piping unit(14), a mask substrate(13) and a transfer unit(11). The piping unit is positioned in an upper part inside the etch chamber. The piping unit includes a plurality of nozzle(15) for spraying the etchant. The mask substrate is positioned in the bottom of the piping unit. The transfer unit is positioned in the bottom of the mask substrate and transfers the substrate. The mask substrate is positioned between the piping unit and the substrate. The mask substrate has a mesh type and a plurality of holes or a slit type.

Abstract translation: 提供蚀刻装置以通过在湿法蚀刻工艺中防止微气泡来获得均匀的蚀刻速率。 蚀刻装置包括蚀刻室（10），管道单元（14），掩模基板（13）和转印单元（11）。 管道单元位于蚀刻室内部的上部。 管道单元包括用于喷涂蚀刻剂的多个喷嘴（15）。 掩模基板位于管道单元的底部。 传送单元位于掩模基板的底部并传送基板。 掩模基板位于管道单元和基板之间。 掩模基板具有网状和多个孔或狭缝型。