웨이퍼 가공 장치
    3.
    发明公开
    웨이퍼 가공 장치 无效
    用于处理基板的装置

    公开(公告)号:KR1020100002532A

    公开(公告)日:2010-01-07

    申请号:KR1020080062457

    申请日:2008-06-30

    CPC classification number: H05B6/6408 H05B6/806

    Abstract: PURPOSE: An apparatus for processing a substrate is provided to heat wafers by reflecting microwave to various directions by controlling the production and intensity of microwave. CONSTITUTION: The boat(120) is included inside of a chamber. A plurality of wafers are loaded in the boat. A plurality of microwave generators(150) are connected to a chamber, and microwave is generated respectively and wafer is heated. A plurality of reflectors(130) are loaded in the boat in order to be faced with at least one side of both sides of a wafer. A plurality of reflectors reflects the microwave in order to uniformly offer the microwave to the wafer. Power sources supply the energy for activating microwave generators.

    Abstract translation: 目的:提供一种处理基板的装置,通过控制微波的产生和强度,将各种方向的微波反射加热晶片。 构成:船(120)被包括在舱室内。 多个晶片装载在船上。 多个微波发生器(150)连接到室,分别产生微波,并加热晶片。 多个反射器(130)装载在船中以便面对晶片两侧的至少一侧。 多个反射器反射微波以便均匀地向晶片提供微波。 电源为激活微波发生器提供能量。

    가열 유닛, 그리고 리플로우 장치 및 방법
    4.
    发明授权
    가열 유닛, 그리고 리플로우 장치 및 방법 有权
    加热单元,反射装置和反射方法

    公开(公告)号:KR101387492B1

    公开(公告)日:2014-04-22

    申请号:KR1020070120844

    申请日:2007-11-26

    Abstract: 본 발명은 반도체를 리플로우하는 장치를 제공한다. 리플로우 장치는 로더 유닛, 가열 유닛, 언로더 유닛, 그리고 이동 유닛을 가진다. 로더 유닛은 입력 모듈과 입력 스태커를 가진다. 대상물들은 상하로 적층되도록 매거진에 수납되고, 복수의 매거진들은 입력 스태커에 보관된다. 입력 스태커에서 보관된 매거진은 입력 모듈로 운반되고, 이송 유닛에 의해 가열 유닛으로 유입된다. 가열 유닛 내에서 대상물들에 제공된 솔더 볼들은 유도 가열 방식에 의해 빠르게 리플로우된다. 리플로우 공정이 완료된 대상물은 언로더 유닛의 출력 모듈에 놓인 매거진에 수납된 후 출력 스태커에 보관된다.
    패키지, 리플로우, 반도체 칩, 유도 가열, 매거진, 스태커

    가열 유닛, 그리고 리플로우 장치 및 방법
    5.
    发明公开
    가열 유닛, 그리고 리플로우 장치 및 방법 有权
    反射装置和反射方法

    公开(公告)号:KR1020090054124A

    公开(公告)日:2009-05-29

    申请号:KR1020070120844

    申请日:2007-11-26

    Abstract: 본 발명은 반도체를 리플로우하는 장치를 제공한다. 리플로우 장치는 로더 유닛, 가열 유닛, 언로더 유닛, 그리고 이동 유닛을 가진다. 로더 유닛은 입력 모듈과 입력 스태커를 가진다. 대상물들은 상하로 적층되도록 매거진에 수납되고, 복수의 매거진들은 입력 스태커에 보관된다. 입력 스태커에서 보관된 매거진은 입력 모듈로 운반되고, 이송 유닛에 의해 가열 유닛으로 유입된다. 가열 유닛 내에서 대상물들에 제공된 솔더 볼들은 유도 가열 방식에 의해 빠르게 리플로우된다. 리플로우 공정이 완료된 대상물은 언로더 유닛의 출력 모듈에 놓인 매거진에 수납된 후 출력 스태커에 보관된다.
    패키지, 리플로우, 반도체 칩, 유도 가열, 매거진, 스태커

    정렬 검사 방법 및 정렬 검사 장치
    7.
    发明公开
    정렬 검사 방법 및 정렬 검사 장치 无效
    检查对齐方法和检查对齐方法

    公开(公告)号:KR1020090057654A

    公开(公告)日:2009-06-08

    申请号:KR1020070124328

    申请日:2007-12-03

    Abstract: An alignment inspecting method and an alignment inspecting apparatus are provided to align semiconductor chips welded into the junction location on a substrate. An alignment inspecting method comprises: a step of making the light incident from a first structure to a second structure; a step of reflecting the incident light in a parallel direction of the first direction; and a step of inspecting the alignment of the second structure to the first structure by detecting the reflection light. The light is incident to the second structure along the first direction which is vertical to the first structure. The step of detecting the location of the reflection light comprises a step of detecting the deviation of the central shaft of the second structure to the first direction or the slope of the second structure to the second direction meeting at right angle to the first direction. A reflecting module(310) is at the second structure.

    Abstract translation: 提供对准检查方法和对准检查装置以对准焊接到衬底上的接合位置的半导体芯片。 对准检查方法包括:使从第一结构入射的光到第二结构的步骤; 将入射光沿第一方向的平行方向反射的步骤; 以及通过检测反射光来检查第二结构与第一结构的对准的步骤。 光沿着与第一结构垂直的第一方向入射到第二结构。 检测反射光的位置的步骤包括检测第二结构的中心轴与第一方向或第二结构的斜率相对于与第一方向成直角的第二方向的偏差的步骤。 反射模块(310)处于第二结构。

    반도체 제조 장치
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:KR101831378B1

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:KR1020110049091

    申请日:2011-05-24

    CPC classification number: H01L21/67115 H01L21/67178 H01L21/6719 H05B6/80

    Abstract: 반도체제조장치가제안될수 있다. 상기반도체제조장치는밑면, 측벽, 및덮개를가지는챔버를포함할수 있다. 상기챔버의내부에조사유닛이배치될수 있다. 상기밑면과조사유닛사이에기판안착유닛이배치될수 있다. 상기조사유닛은하면이개방된디스크모양의중공형조사관, 및조사관의중앙을관통하는중앙홀을포함할수 있다.

Patent Agency Ranking