KR20210027102A - Device and sensor and electronic device

    公开(公告)号:KR20210027102A

    公开(公告)日:2021-03-10

    申请号:KR1020200103484A

    申请日:2020-08-18

    Abstract: 제1 전극과 제2 전극, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 위치하는 활성층, 그리고 상기 제1 전극과 상기 활성층 사이에 위치하는 복수의 보조층을 포함하고, 상기 복수의 보조층은 상기 활성층에 가장 가깝게 위치하는 제1 보조층, 그리고 상기 제1 전극에 가장 가깝게 위치하는 제2 보조층을 포함하며, 상기 활성층의 에너지 준위, 상기 제1 보조층의 에너지 준위, 상기 제2 보조층의 에너지 준위 및 상기 제1 전극의 일 함수는 차례로 깊어지거나 차례로 얕아지고, 상기 활성층, 상기 제1 보조층, 상기 제2 보조층 및 상기 제1 전극의 에너지 다이아그램은 하기 관계식 1을 만족하는 소자, 이를 포함하는 센서 및 전자 장치에 관한 것이다.
    [관계식 1]
    |ΔΦ
    1 -ΔΦ
    2 | ≤ 0.1 eV
    상기 관계식 1에서, ΔΦ
    1 및 ΔΦ
    2 는 명세서에서 정의한 바와 같다.

    선형 안테나를 구비한 플라즈마 처리 장치
    2.
    发明公开
    선형 안테나를 구비한 플라즈마 처리 장치 无效
    具有线性天线的等离子体处理装置

    公开(公告)号:KR1020090079696A

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:KR1020080005854

    申请日:2008-01-18

    Abstract: A plasma processing apparatus having linear antennas is provided to improve density uniformity of plasma by changing a thickness of a dielectric for surrounding the linear antenna. A plasma processing apparatus having linear antennas includes a reaction chamber(110), a substrate supporting plate(120), linear antennas(132), an RF power source(138), and a dielectric(142). The substrate supporting plate is installed in a lower side of the inside of the reaction chamber in order to support a substrate to be processed. The linear antennas are used for inducing electric field to generate electric field. The linear antennas are installed in parallel to each other at an upper side of the inside of the reaction chamber. The RF power source is connected to the linear antennas in order to supply RF power to the linear antennas. The dielectric is formed to surround each of the linear antennas. The thickness of the dielectric is gradually reduced from a RF power input terminal of each linear antenna to a grounding terminal(132b).

    Abstract translation: 提供具有线性天线的等离子体处理装置,通过改变用于包围线状天线的电介质的厚度来改善等离子体的密度均匀性。 具有线性天线的等离子体处理装置包括反应室(110),基板支撑板(120),线性天线(132),RF电源(138)和电介质(142)。 基板支撑板安装在反应室内侧的下侧,以便支撑待处理的基板。 线性天线用于感应电场以产生电场。 线性天线在反应室内部的上侧彼此平行地安装。 RF电源连接到线性天线,以便向线性天线提供RF功率。 电介质形成为围绕每个线性天线。 电介质的厚度从每个线性天线的RF功率输入端逐渐减小到接地端子(132b)。

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