公开(公告)号：KR1020150135976A

公开(公告)日：2015-12-04

申请号：KR1020140063293

申请日：2014-05-26

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 배진희 ,  곽택수 ,  이한송 ,  조연진 ,  황병규 ,  김보선 ,  박새미 ,  박은수 ,  서진우 ,  임완희 ,  장준영 ,  한권우

IPC: C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  C09D183/04 ,  B05D1/00 ,  B05D3/00

CPC classification number: C09D183/04 ,  C08G77/12 ,  C08G77/26 ,  C08G77/54 ,  C08G77/60 ,  C09D183/02 ,  C09D183/16 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1275 ,  C23C18/1283 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02326 ,  H01L21/02337 ,  H01L28/90 ,  C09D183/14 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007

Abstract: 수소화폴리실라잔, 수소화폴리실록사잔, 또는이들의조합을포함하는실리카계화합물, 그리고용매를포함하는실리카계막 형성용조성물로서, 입경이 0.2 ㎛내지 1 ㎛인파티클을 10 개/㎖이하로포함하는실리카계막 형성용조성물에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及形成二氧化硅基膜的组合物，其包含：包含氢化聚硅氮烷，氢化聚硅氧烷或其组合的二氧化硅基化合物; 和溶剂，其中用于形成二氧化硅基膜的组合物包含每毫升小于或等于10个颗粒，其中颗粒的直径为0.2-1μm。

公开(公告)号：KR101825546B1

公开(公告)日：2018-02-05

申请号：KR1020140063293

申请日：2014-05-26

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 배진희 ,  곽택수 ,  이한송 ,  조연진 ,  황병규 ,  김보선 ,  박새미 ,  박은수 ,  서진우 ,  임완희 ,  장준영 ,  한권우

IPC: C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  C09D183/04 ,  B05D1/00 ,  B05D3/00

CPC classification number: C09D183/04 ,  C08G77/12 ,  C08G77/26 ,  C08G77/54 ,  C08G77/60 ,  C09D183/02 ,  C09D183/16 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1275 ,  C23C18/1283 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02326 ,  H01L21/02337 ,  H01L28/90

Abstract: 수소화폴리실라잔, 수소화폴리실록사잔, 또는이들의조합을포함하는실리카계화합물, 그리고용매를포함하는실리카계막 형성용조성물로서, 입경이 0.2 ㎛내지 1 ㎛인파티클을 10 개/㎖이하로포함하는실리카계막 형성용조성물에관한것이다.

Abstract translation: 一种用于形成二氧化硅基层的组合物和一种用于制造二氧化硅基层的方法，所述组合物包含含硅化合物，所述含硅化合物包含氢化聚硅氮烷部分，氢化聚硅氧氮烷部分或其组合，以及 溶剂，其中所述组合物中的所述含硅化合物的颗粒的大量粒径为约0.2μm至约1μm，小于或等于约10个/ ml。

公开(公告)号：KR101688012B1

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：KR1020140040689

申请日：2014-04-04

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 박은수 ,  조연진 ,  한권우 ,  곽택수 ,  김보선 ,  김상균 ,  박새미 ,  배진희 ,  서진우 ,  이한송 ,  임완희 ,  장준영

IPC: G03F7/095 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027

Abstract: 하기화학식 1로표현되는반복단위를포함하는유기실란계중합체, 및용매를포함하고, 상기유기실란계중합체내의탄소(C) 원소의질량은상기유기실란계중합체의전체원소의질량에대하여 0.1% 내지 30%인것인레지스트하층막용조성물을제공한다. [화학식 1]상기화학식 1에서, R, R 및 R의정의는명세서에서정의한바와같다.

Abstract translation: 本发明提供一种抗蚀剂底层用组合物，其含有含有以化学式1表示的重复单元的有机硅烷类聚合物和溶剂，其中有机硅烷系聚合物内的碳（C）元素的质量为 相对于硅烷类聚合物的元素的总质量为0.1-30％。 在化学式1中，R 1，R 2和R 3与说明书中所定义相同。

公开(公告)号：KR1020150116122A

公开(公告)日：2015-10-15

申请号：KR1020140040689

申请日：2014-04-04

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 박은수 ,  조연진 ,  한권우 ,  곽택수 ,  김보선 ,  김상균 ,  박새미 ,  배진희 ,  서진우 ,  이한송 ,  임완희 ,  장준영

IPC: G03F7/095 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/095 ,  G03F7/075 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276

Abstract: 하기화학식 1로표현되는반복단위를포함하는유기실란계중합체, 및용매를포함하고, 상기유기실란계중합체내의탄소(C) 원소의질량은상기유기실란계중합체의전체원소의질량에대하여 0.1% 내지 30%인것인레지스트하층막용조성물을제공한다. [화학식 1]상기화학식 1에서, R, R 및 R의정의는명세서에서정의한바와같다.

Abstract translation: 本发明提供一种抗蚀剂底层用组合物，其含有含有以化学式1表示的重复单元的有机硅烷类聚合物和溶剂，其中有机硅烷系聚合物内的碳（C）元素的质量为 相对于硅烷类聚合物的元素的总质量为0.1-30％。 在化学式1中，R 1，R 2和R 3与说明书中所定义相同。