Abstract:
본 발명은 페녹시계 수지 및 폴리에스테르계 열 가소성 수지를 포함하는 반도체 조립용 접착 필름 조성물 및 접착필름에 관한 것이다. 본 발명의 조성물에 의하면 경화 전 인장 모듈러스를 30Kgf/mm2 이상으로 향상시켜 칩 크기로의 절단 공정 이후 접착제간 고착화를 방지하는 것은 물론 점착층과의 픽업성을 유리하게 하고, 또한 다이 어태치 공정 시 발생하는 기포 제거를 용이하게 하여 높은 신뢰성을 확보할 수 있는 반도체 조립용 접착 필름을 제공할 수 있다. 반도체 조립용 접착 필름, 페녹시수지, 에스테르계 열가소성 수지, 에폭시기 함유형 엘라스토머 수지, 에폭시계 수지, 페놀계 혹은 아민형 경화제, 이미다졸계 경화촉매, 실란 커플링제, 무기 충진제
Abstract:
A bonding film composition for a semiconductor assembly is provided to lower tack value, to increase tensile strength by pre-curing UV curable acrylate after drying the adhesive film, and to improve pick-up success rate and processability. A bonding film composition for a semiconductor assembly comprises an elastomer resin containing a hydroxyl group or a carboxyl group, and an epoxy group; a film-forming resin having a glass transition temperature (Tg) of 0~200 °C; an epoxy resin, a phenolic epoxy resin hardening agent; a UV curable polyfunctional acrylate; a photopolymerization initiator; a silane coupling agent; and filler.
Abstract:
An adhesive film composition for assembling a semiconductor, an adhesive film formed by using the composition, and a dicing die bond film containing the adhesive film are provided to improve reliance and the storage stability for a long time. An adhesive film composition for assembling a semiconductor comprises 5-60 wt% of an elastomer resin having a total hydroxyl group, a carboxyl group or an epoxy group; 5-60 wt% of a film forming resin having a glass transition temperature of 0-200 deg.C; 5-40 wt% of an epoxy resin; 5-40 wt% of a phenolic resin represented by the formula 1; 0.01-10 wt% of a curing accelerator; 0.01-10 wt% of a silane coupling agent; and 3-60 wt% of a filler, wherein R1 and R2 are independently a C1-C4 alkyl group or H; a and b are 0-4; and n is an integer of 0-7.
Abstract:
An adhesive film composition for assembling a semiconductor is provided to improve the tensile strength of a film, thereby enhancing the reliance and processability of a semiconductor. An adhesive film composition for assembling a semiconductor comprises 100 parts by weight of an elastomer resin containing a hydroxyl group or a carboxyl group and an epoxy group; 10-60 parts by weight of a film forming resin having a glass transition temperature (Tg) of -10 to 200 deg.C; 10-60 parts by weight of an epoxy-based resin; 5-30 parts by weight of a phenolic curing agent; 0.01-5 parts by weight of a curing catalyst; 0.01-30 parts by weight of a pre-curing additive; 0.01-10 parts by weight of a silane coupling agent; 0.1-60 parts by weight of a filler; and optionally organic solvent.
Abstract:
A radiation curing pressure sensitive adhesive composition and a pressure sensitive adhesive tape comprising the composition are provided to improve initial adhesive strength and to obtain excellent releasing property even after the radiation curing with UV rays of a low energy. A radiation curing pressure sensitive adhesive composition comprises 35-65 wt% of an acrylic binder composition which comprises a copolymer of a cellulose-based compound and an acrylic monomer; 25-60 wt% of an acrylate oligomer compound; 1-20 wt% of a curing agent; and 1-5 wt% of a photoinitiator. Preferably the copolymer comprises 5-20 wt% of a cellulose-based compound and 70-95 wt% of an acrylic monomer, and the cellulose-based compound contains 2-30 wt% of acetyl and has a hydroxyl number of 20-150, a glass transition temperature of 85-130 deg.C and a weight average molecular weight of 1,200-70,000.
Abstract:
본 발명은 앨라스토머, 실란기 함유 필름형성제, 라디칼 중합형 열경화형 개시제, (메타)아크릴레이트계의 올리고머 또는 제 1 모노머, (메타)아크릴레이트계 제 2 모노머, 도전성 입자 및 유기 용매를 포함하는 이방성 도전성 필름용 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 의한 조성물은 실란을 도입함으로써 고온다습한 환경이나 열충격 조건에서도 우수한 필접착력과 낮은 전기접속저항을 유지할 수 있고 실란 커플링제가 조성물에 화학적으로 결합되어 필름 제조 과정 중에 실란 커플링제가 휘발되지 않는 이점을 제공한다. 이방성 도전 필름, 실란기 함유 필름형성제, 라디칼 중합형 열경화형 개시제, 도전성 입자, 용매
Abstract:
본 발명은 경화속도가 아주 빠른 열경화성수지 조성물 및 그 특성을 이용한 IC회로 실장에서 ITO 또는 TCP와 같은 플렉서블 기판(FPC)에 높은 접착력 및 작업성을 향상시킨 이방 도전성 접착용 조성물을 제공한다. 본 발명에 따른 이방 도전성 접착용 조성물은 (1) 노볼락형 페놀수지, (2) 폴리아세탈화 수지, (3) 산성화합물, (4) 열가소성 탄성체 및 (5) 실란커플링제를 포함하여 이루어지는 열경화성수지 조성물(A)에 균일하게 분산된 도전성 입자(B)를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다. 이방 도전성 접착용 조성물, 열가소성 엘라스토머, 폴리아세탈, 노볼락형 페놀수지, 도전성 입자
Abstract:
본 발명에 따른 이형성이 우수한 투명 니트릴계 공중합 조성물은 기초수지가 불포화 니트릴 단량체 20∼40 중량부 및 방향족 비닐 단량체 60∼80 중량부로 이루어지며, 이 기초수지에 상온에서 30∼100 센티스토크의 점도를 갖는 유동 파라핀계의 미네랄 오일 0.01∼1.0 중량부 및 10∼500 센티스토크의 점도와 1.54∼1.58의 굴절률을 갖는 폴리디메틸 실록산을 0.01∼0.3 중량부 첨가하여 분자량이 15만∼ 20만을 가지는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 이형성이 우수한 투명 니트릴계 공중합 조성물은 투명성이 우수하고 균일한 조성의 공중합체를 얻기 위해서 열에 의한 괴상 연속중합 방법에 의해서 제조된다
Abstract:
PURPOSE: Provided is a styrene thermoplastic resin composition with good heat resistance, flowability and chemical resistance. It is also highly impact resistant because it is rubber modified styrene with two kinds of unsaturated nitrile compound-aromatic vinyl copolymer in appropriate blending for the purpose. CONSTITUTION: The composition comprises 60-80wt.% high impact rubber modified polystyrene, 20-40wt.% copolymer of 2 kinds unsaturated nitrile compound-aromatic vinyl compound, namely (a) 5-15wt.% unsaturated nitrile compound selected from acrylonitrile or methacrylonitrile and 85-95wt.% aromatic vinyl compound selected from styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, t-butylstyrene or halostyrene and (b) 20-3-wt.% above nitrile compound and 70-80wt.% above vinyl compound. The composition is characterized in that (a) and (b) are either in a ratio of 1:9 - 9:1 or 5:1 - 7:1.