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公开(公告)号：KR1020060024930A
公开(公告)日：2006-03-20
申请号：KR1020040073803
申请日：2004-09-15
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: G02B6/12 , G02B27/28 , G02B2006/12157 , G02F1/09
Abstract: 본 발명은 자기 광학적 효과를 이용한 다중모드 간섭영역을 갖는 집적화된 광 아이솔레이터 제조방법에 관한 것으로, 특히 다중모드 간섭을 일으키는 1 ×1 단일 다중모드 영역에 자장을 인가하여 유효 굴절율을 변화시킨 광 아이솔레이터를 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 자기 광학적 효과를 이용한 다중모드 간섭영역을 갖는 집적화된 광 아이솔레이터 제조방법은 다중모드 도파로 영역에 빛의 진행방향에 수직이면서 광 도파로 평면에 평행한 방향으로 외부 자장을 가하여 전방으로 진행하는 빛과 후방으로 진행하는 빛이 각각 서로 다른 유효 굴절율(effective refractive index)을 갖도록 하는 자기 광학적 효과를 이용한 다중모드 간섭영역을 갖는 집적화된 광 아이솔레이터 제조방법을 포함한다.
자기 광학적 효과, 다중모드 간섭영역, 집적화된 광 아이솔레이터-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100351197B1
公开(公告)日：2002-09-05
申请号：KR1020000046490
申请日：2000-08-11
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/28
Abstract: 금속이온을 포함하는 플라즈마를 이용한 금속박막 형성방법에 관하여 개시한다. 본 발명은, 금속이온이 포함된 플라즈마에 기판을 노출시키되, 상기 기판에 수∼수십 kV대의 음의 고전압을 인가함으로써 상기 기판 표면에 금속이온주입에 따른 동적 이온선 혼합 효과에 의한 계면 혼합층을 형성시킨 후 금속박막을 증착시키는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 종래와 같이 접착력의 개선을 위한 별도의 전처리 공정을 행하지 않고도 단 한번의 스텝(step)으로 접착력이 개선된 금속박막을 형성시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020020013992A
公开(公告)日：2002-02-25
申请号：KR1020000046490
申请日：2000-08-11
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/28
Abstract: PURPOSE: A method for forming a metal thin film using plasma including a metal ion is provided to improve adhesion of the metal thin film, by making the metal ion implanted into a substrate in an initial state of a deposition process so that an interface composite layer is formed. CONSTITUTION: The substrate is exposed to the plasma including the metal ion, and a negative voltage is applied to the substrate. The metal thin film(102) is deposited after the interface composite layer(100) caused by a dynamic ion mixing effect according to the injection of the metal ion is formed on the substrate.
Abstract translation: 目的：提供使用包含金属离子的等离子体形成金属薄膜的方法，以通过在沉积工艺的初始状态下将金属离子注入到基板中，从而提高金属薄膜的粘合性，使得界面复合层 形成了。 构成：将衬底暴露于包括金属离子的等离子体，并向衬底施加负电压。 根据在基板上形成金属离子的注入，通过动态离子混合效应在界面复合层（100）之后，沉积金属薄膜（102）。
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公开(公告)号：KR1020020049493A
公开(公告)日：2002-06-26
申请号：KR1020000078678
申请日：2000-12-19
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G02B26/02
CPC classification number: G02B5/1857 , G03H2260/14
Abstract: PURPOSE: A method for generating a large area holographic grating and an apparatus thereof are provided, which fabricates a large area grating below an effective area of a lens as using an optical system of small caliber. CONSTITUTION: A light projected by an ultraviolet ray laser(10) of a single wavelength is focused to a pin hole(14) with an object lens(12) and then passes through a spatial lens removing noise in the air, and then the beam extended using a collimating lens(16) and passes through an inverse Gaussian transparent filter(22) and is irradiated to a sample(18) in parallel. The sample is located to have an angle to a path of the light, and a mirror(20) is attached to the sample so that a reflected light has a specific angle with the incident light to control an interval of an interference pattern.
Abstract translation: 目的：提供一种用于生成大面积全息光栅的方法及其装置，其使用小口径光学系统在透镜的有效区域下方制造大面积的光栅。 构成：将由单一波长的紫外线激光器（10）投影的光聚焦到具有物镜（12）的针孔（14），然后通过空间透镜去除空气中的噪声，然后将光束 使用准直透镜（16）延伸并通过反相高斯透明滤光器（22）并且平行地照射到样品（18）。 样品被定位成与光的路径成一角度，并且反射镜（20）附着到样品上，使得反射光与入射光具有特定的角度，以控制干涉图案的间隔。
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公开(公告)号：KR1020020067710A
公开(公告)日：2002-08-24
申请号：KR1020010007963
申请日：2001-02-17
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C23C14/00
CPC classification number: C23C14/325 , C23C14/20
Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for depositing a metallic thin film for shielding an electromagnetic wave are provided to deposit the metallic thin film on a substrate simply, safely and environment friendly by implanting the plasma ions onto the substrate after generating metal plasma ions. CONSTITUTION: The apparatus for depositing a metallic thin film for shielding an electromagnetic wave comprises a plasma generation part(10) in which metal plasma ions are generated between the anode and the cathode; a particle removing filter part(20) removing neutral particles produced during generation of the metal plasma ions and guiding the metal plasma ions; an ion implantation part(30) implanting the metal plasma ions guided from the particle removing filter part(20) onto a substrate of a sample holder; and a vacuum chamber(40) forming an external appearance so that the metal plasma ions are generated under the vacuum state to be implanted onto the substrate, wherein the plasma generation part(10) comprises a trigger power source part(11) evaporating a cathode material between the anode and cathode by impressing a high voltage to a trigger electrode positioned between the anode and cathode; and a pulse power source part(12) generating arc by impressing a pulse type voltage to the anode as the high voltage is being impressed to the trigger, and the particle removing filter part(20) comprises a coil part guiding the metal plasma ions to the sample holder; and a coil power source part forming a magnetic field in the coil part by impressing a pulse type current to the coil part.
Abstract translation: 目的：提供一种用于沉积用于屏蔽电磁波的金属薄膜的装置和方法，用于通过在产生金属等离子体离子之后将等离子体离子注入到衬底上，将金属薄膜简单，安全和环境地沉积在衬底上。 构成：用于沉积用于屏蔽电磁波的金属薄膜的装置包括其中在阳极和阴极之间产生金属等离子体离子的等离子体产生部分（10）; 去除过滤器部件（20），去除在产生金属等离子体离子期间产生的中性粒子并引导金属等离子体离子; 离子注入部分（30）将从颗粒去除过滤器部分（20）引导的金属等离子体离子注入到样品保持器的基底上; 和形成外观的真空室（40），使得在真空状态下产生金属等离子体离子以注入到基板上，其中等离子体产生部分（10）包括将阴极蒸发的触发电源部分（11） 通过向位于阳极和阴极之间的触发电极施加高电压而在阳极和阴极之间施加材料; 以及脉冲电源部分（12），当高电压被施加到触发器时，通过向阳极施加脉冲型电压而产生电弧，并且所述颗粒去除过滤器部分（20）包括将金属等离子体离子引导到 样品架; 以及线圈电源部，其通过向所述线圈部施加脉冲型电流而在所述线圈部中形成磁场。
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公开(公告)号：KR100704546B1
公开(公告)日：2007-04-10
申请号：KR1020040073803
申请日：2004-09-15
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 자기 광학적 효과를 이용한 다중모드 간섭영역을 갖는 집적화된 광 아이솔레이터 제조방법에 관한 것으로, 특히 다중모드 간섭을 일으키는 1 ×1 단일 다중모드 영역에 자장을 인가하여 유효 굴절율을 변화시킨 광 아이솔레이터를 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 자기 광학적 효과를 이용한 다중모드 간섭영역을 갖는 집적화된 광 아이솔레이터 제조방법은 다중모드 도파로 영역에 빛의 진행방향에 수직이면서 광 도파로 평면에 평행한 방향으로 외부 자장을 가하여 전방으로 진행하는 빛과 후방으로 진행하는 빛이 각각 서로 다른 유효 굴절율(effective refractive index)을 갖도록 하는 자기 광학적 효과를 이용한 다중모드 간섭영역을 갖는 집적화된 광 아이솔레이터 제조방법을 포함한다.
자기 광학적 효과, 다중모드 간섭영역, 집적화된 광 아이솔레이터
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