Abstract:
PURPOSE: A thin film depositing method using pulse plasma discharge is provided to be capable of effectively transforming reaction gas into plasma by using a pulse plasma production apparatus. CONSTITUTION: After transforming reaction gas A into the first plasma using a pulse plasma production apparatus, the first thin film is deposited at the upper portion of a wafer by flowing the first plasma into a thin film depositing apparatus. Then, the first plasma is exhausted by using purge gas. After transforming reaction gas B into the second plasma, the second thin film is deposited on the first thin film. Then, the second plasma is exhausted by using the purge gas. The pulse plasma production apparatus is provided with a power supply(21), a slide transformer(22) for decreasing the voltage supplied from the power supply, a high voltage transformer(23) for increasing the voltage supplied from the slide transformer, a load(25) for generating plasma by using the voltage supplied from the high voltage transformer, and a rotating spark gap switch(24) for connecting the high voltage transformer with the load.
Abstract:
PURPOSE: Provided is prodigiosin isolated from culture broth of Serratia marcescens. The prodigiosin inhibits specifically immunogenecity of T cell and is used in immunosuppresive drug. CONSTITUTION: A Prodigiosin isolated from culture broth of Serratia marcescens B-1231 (KCTC 0386BP) is represented by the formula (I). The Prodigiosin is prepared by the following steps of: (a) cultivating Serratia marcescens B-1231 (KCTC 0386BP) in a medium comprised of soluble starch of 1%, glucose of 0.25, ammonium sulfate of 0.1%, potassium phosphate of 0.1%, magnesium sulfate- septuple crystal solution of 0.05%, calcium chloride of 0.1 %, sodium chloride of 0.3% at pH value of 7 and temperature of 28 deg.C for 62 hours; (b) mixing them with adding ethyl acetate in a same amount, thereto for 30 minutes, to obtain organic solvent layer; (c) concentrating the mixture under reduced pressure, to obtain a red material; (d) isolating and purifying an active material therefrom; and (e) purifying it by silicagel thin layer chromatography.
Abstract:
본 발명은 펠리누스속의 균주, 특히 펠리누스 린테우스 유(Phellinus linteus Yoo KCTC 0399BP)로부터 분리한 다당류 물질의 면역 항암치료제로서의 용도에 관한 것이다. 본 발명은 펠리누스 린테우스 유 균주로부터 분리한 다당류 물질이 생체내 면역기능을 매개로 하여 암전이를 억제하므로 암을 비롯한 AIDS 등 면역관련 질환의 예방, 치료 및 기초기전연구를 위한 약물로 사용할 수 있는 뛰어난 효과가 있다.
Abstract:
A fabrication method of ferroelectric capacitors is provided to improve the performance of capacitor by changing material of a substrate electrode. The method comprises the steps of: forming a substrate electrode composed of WN/W, W/Pt, WN/Pt. or WN/W/Pt; and forming a ferroelectric film by depositing BaTiO3 or PbTiO3 contained of Zr, Ln, Mg, Nb, BaTiO3 or PbTiO3 compound using sputtering or chemical vapor deposition at 600-700deg.C for 1-2 hours. Thereby, it is possible to improve the electric and physical characteristics of ferroelectric capacitor using the electrode made of WN/W, W/Pt, WN/Pt. or WN/W/Pt.
Abstract:
본 발명은 LiftLT 변환을 이용하여 영상의 크기를 변화시키는 영상 처리 시스템 및 방법에 관한 것으로, 영상에 대해 DCT(Discrete Cosine Transform)를 수행하여 다수의 DCT 계수를 형성하고, 다수의 DCT 계수를 LiftLT 계수로 변환하는 LiftLT 변환을 수행하고, LiftLT 계수에 대해 크기 감소 및/또는 증가 변환을 수행하며, 크기가 감소 및/또는 증가된 LiftLT 계수를 DCT 계수로 변환하는 영상 처리 시스템 및 방법을 제공한다. LiftLT, DCT, 압축, 영상
Abstract:
본 발명은 펠리누스속의 균주, 특히 펠리누스 린테우스 유( Phellinus linteus Yoo KCTC 0399BP)로부터 분리한 다당류 물질의 면역 항암치료제로서의 용도에 관한 것으로, 본 발명은 펠리누스 린테우스 유 균주로부터 분리한 다당류 물질이 생체내 면역기능을 매개로 하여 암전이를 억제하므로 면역관련 질환의 예방, 치료 및 기초기전연구를 위한 약물로 사용할 수 있는 뛰어난 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 세라시아 마르세센스(Serratia Marcescens)의 배양액에서 분리한 프로디지오신 (Prodigiosin)의 면역억제 물질로서의 신규한 용도에 관한 것으로 조직 및 장기이식 등의 면역억제를 필요로하는 치료분야에서의 면역억제약물로서의 이용 및 이들의 기초기전연구를 위한 면역억제 약물로서의 이용 나아가 프로디지오신의 면역억제효과를 응용한 면역학 기초연구를 위한 면역억제 시료로서의 이용에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 실리콘 반도체 기억소자 및 갈륨비소화합물 반도체 소자의 고유전체 커패시터 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 기판전극으로 텅스텐질화막/텅스텐막을 사용하거나 텅스텐막/백금, 텅스텐질화막/백금, 텅스텐질화막/텅스텐막/백금을 사용하고 그 위에 스퍼터링 또는 화학증착법으로 600~700℃에서 1~2시간 동안 BaTiO 3 , PbTiO 3 및 Zr, Ln, Mg, Nb 등이 첨가된 BaTiO 3 , PbTiO 3 을 증착하여 고유전체박막을 형성하는 과정으로 이루어진다. 본 발명은 종래의 고유전체 캐피시터의 구조에서 기판전극의 재료와 구성을 변화시킴으로서 고유전체 커패시터 물리·전기적 특성을 향상시킨 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 금속, 반도체, 유전체박막등을 증착할 때 램프가열 장치와 회전식 기판을 이용하여 동일 진공반응로 내에서 증착과 열처리를 연속적으로 수행할 수 있도록 한 박막제조방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 반응기의 일측에 설치된 램프가 열장치의 빛을 이용하여 시편의 온도를 증착에 필요한 온도에 맞춘 후 램프가열장치의 반대편에 위치하는 전구체 확산판을 통해 시편측으로 반응물질을 분사시켜 시편의 표면에 박막의 증착이 이루어지도록 한 다음 회전식 기판을 구동하여 시편을 180° 회전시킨 상태에서 램프가열장치의 빛이 박막에 직접 쪼이도록 해서 박막의 열처리를 수행하도록 구성되어 있다. 본 발명은 박막의 증착공정 및 열처리 단계가 단일 진공반응기중에서 연속적으로 수행됨에 의해 증착된 박막의 결정성과 물리적 특성의 향상이 가능하고 증착 및 열처리의 반복수해에 의한 다층구조의 박막증착이 가능하다는 장점이 있다.