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1.发明公开
公开(公告)号：KR1020150083484A
公开(公告)日：2015-07-20
申请号：KR1020140002973
申请日：2014-01-09
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/0453 , C01B32/186 , H01L21/0425 , Y10T428/24802 , Y10T428/24851 , C01B32/188
Abstract: 본발명은 Cu/Ni 다층메탈촉매를이용한고품질단일층그래핀성장방법및 이를활용한그래핀소자에관한것으로, 상기방법은 CVD법으로그래핀을성장(growth)시키는경우니켈하층의두께는고정시키고구리상층의두께를변화시킨 Cu/Ni 다층메탈촉매를이용해고품질의단일층그래핀을제어하면서성장시키는것이다. 상기방법을통해고품질단일층그래핀을얻을수 있으며, 이를활용하여그래핀응용소자의성능을높여산업화에큰 기여를할 수있다.
Abstract translation: 本发明涉及使用Cu / Ni多层金属催化剂生长高品质单层石墨烯的方法，以及使用该方法的石墨烯装置。 根据该方法，当以CVD法生长石墨烯时，使用具有下镍层的固定厚度和上铜层的厚度变化的Cu / Ni多层金属催化剂来生长高 质量单层石墨烯在控制下。 根据该方法，可以获得高质量的单层石墨烯; 通过使用相同的石墨烯来增加石墨烯施加装置的性能; 石墨烯可显着促进工业化。
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公开(公告)号：KR1020080103824A
公开(公告)日：2008-11-28
申请号：KR1020070051050
申请日：2007-05-25
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: H01L21/0275 , B82Y40/00 , G03F7/202 , G03F7/2059
Abstract: A gold pattern formation method using the gold electron-beam resist is provided to form the gold pattern of nano scale using the electron beam writer. A gold pattern formation method using the gold electron-beam resist includes the step for synthesizing the gold electron-beam resist(200); the step for forming the gold electron beam resist film by coating the synthesized gold electron-beam resist on the top of the substrate(220); the step for forming the gold electron beam resist pattern by patterning the gold electron beam resist film using the electron beam writer(260); the step for changing the gold pattern into the gold electron beam resist pattern by applying the thermal treatment to the gold electron beam resist pattern.
Abstract translation: 提供使用金电子束抗蚀剂的金图案形成方法，以使用电子束写入器形成纳米尺度的金图案。 使用金电子束抗蚀剂的金图案形成方法包括合成金电子束抗蚀剂（200）的步骤。 通过在基板（220）的顶部涂覆合成的金电子束抗蚀剂来形成金电子束抗蚀剂膜的步骤; 通过使用电子束写入器（260）图案化金电子束抗蚀剂膜来形成金电子束抗蚀剂图案的步骤; 通过对金电子束抗蚀剂图案进行热处理来将金图案改变为金电子束抗蚀剂图案的步骤。
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公开(公告)号：KR100819062B1
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：KR1020070026774
申请日：2007-03-19
Applicant: 한국전자통신연구원
CPC classification number: C01G19/00 , C01P2002/70 , C01P2002/84 , C01P2004/03 , C01P2006/40 , C23C18/1216 , C23C18/14 , G03F7/0042 , Y10S430/143
Abstract: A method for synthesizing an indium tin oxide electron beam resist and a method for forming an ITO pattern are provided to form a pattern in various forms according to resolution of an electron beam recorder, and solve problems caused during an etching process or lift-off process. A method for synthesizing an indium tin oxide(ITO) electron beam resist includes the steps of: providing indium chloride tetrahydrate and tin chloride dihydrate; and dissolving the indium chloride tetrahydrate and tin chloride dihydrate in 2-ethoxy ethanol to synthesize the ITO electron beam resist. A method for forming an ITO pattern includes the steps of: (200) synthesizing the ITO electron beam resist; (220) coating a substrate with the synthesized ITO electron beam resist to form an ITO electron beam resist film; (240,260) forming an ITO electron beam resist pattern by patterning the ITO electron beam resist film using an electron beam recorder; and (280) heat-treating the ITO electron beam resist pattern to form the ITO pattern. Further, the 2-ethoxy ethanol is used as solvent and stabilizer.
Abstract translation: 提供了一种用于合成铟锡氧化物电子束抗蚀剂的方法和用于形成ITO图案的方法，以根据电子束记录器的分辨率形成各种形式的图案，并且解决在蚀刻处理或剥离过程中引起的问题 。 铟锡氧化物（ITO）电子束抗蚀剂的合成方法包括以下步骤：提供氯化铟四水合物和氯化锡二水合物; 并将氯化铟四水合物和氯化锡二水合物溶解在2-乙氧基乙醇中以合成ITO电子束抗蚀剂。 一种形成ITO图形的方法包括以下步骤：（200）合成ITO电子束抗蚀剂; （220）用合成的ITO电子束抗蚀剂涂覆基板以形成ITO电子束抗蚀膜; （240,260），通过使用电子束记录器对ITO电子束抗蚀剂膜进行图案化而形成ITO电子束抗蚀剂图案; 和（280）对ITO电子束抗蚀剂图案进行热处理以形成ITO图案。 此外，使用2-乙氧基乙醇作为溶剂和稳定剂。
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公开(公告)号：KR100609384B1
公开(公告)日：2006-08-08
申请号：KR1020040011021
申请日：2004-02-19
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G11B5/31
Abstract: 본 발명은 박막 자기 헤드의 제조방법에 관한 것으로, 특히 초미세 자기재생 소자를 제작함에 있어 포토 레지스트의 플로우 공정을 적용하여 하드 마그네트층과 금속다층박막 사이를 분리시킴과 아울러 포토 레지스트를 이용하여 상부전극과 하부전극 사이를 절연시킴으로써, 제조공정을 단순화, 최적화할 수 있을 뿐만 아니라 제조공정의 시간을 효과적으로 단축시킬 수 있는 박막 자기 헤드의 제조방법을 제공한다.
박막 자기 헤드, 하부전극, 포토 레지스트 패턴, 금속다층박막, 하드 마그네트층, 상부전극-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100875930B1
公开(公告)日：2008-12-26
申请号：KR1020070051050
申请日：2007-05-25
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
Abstract: A gold pattern formation method using the gold electron-beam resist is provided to form the gold pattern of nano scale using the electron beam writer. A gold pattern formation method using the gold electron-beam resist includes the step for synthesizing the gold electron-beam resist(200); the step for forming the gold electron beam resist film by coating the synthesized gold electron-beam resist on the top of the substrate(220); the step for forming the gold electron beam resist pattern by patterning the gold electron beam resist film using the electron beam writer(260); the step for changing the gold pattern into the gold electron beam resist pattern by applying the thermal treatment to the gold electron beam resist pattern.
Abstract translation: 提供使用金电子束抗蚀剂的金图案形成方法以使用电子束写入器形成纳米级的金图案。 使用金电子束抗蚀剂的金图案形成方法包括合成金电子束抗蚀剂（200）的步骤; 通过将合成的金电子束抗蚀剂涂覆在衬底（220）的顶部上来形成金电子束抗蚀剂膜的步骤; 通过使用电子束写入器（260）构图金电子束抗蚀剂膜来形成金电子束抗蚀剂图案的步骤; 通过对金电子束抗蚀剂图案进行热处理来将金图案改变为金电子束抗蚀剂图案的步骤。
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公开(公告)号：KR1020060027718A
公开(公告)日：2006-03-28
申请号：KR1020040076633
申请日：2004-09-23
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본 발명은 대물렌즈의 광축 방향으로 액츄에이터를 움직이게 하는 포커싱 코일을 구비하는 포커싱 자기회로부와 디스크의 래디얼 방향으로 액츄에이터를 움직이게 하는 트래킹 코일을 구비하는 트래킹 자기회로부와 상기 포커싱 자기회로, 트래킹 자기회로 및 대물렌즈 홀더를 구비하는 보빈과 상기 보빈의 일부를 베이스에 지지하기 위한 적어도 하나의 서스펜션을 구비하되, 포커싱 자기회로부와 상기 트래킹 자기회로부는 상기 보빈을 중심으로 좌우로 독립하여 분리된 구조를 갖는 광픽업 액츄에이터를 제공한다. 광픽업 액츄에이터는 휴대용 초소형 광 디스크 드라이브의 핵심 부품으로 응용될 수 있다. 휴대용 전자기기에 광 디스크 드라이브가 사용되기 위해서는 적절한 기록 용량을 가지면서 크기가 작고 두께가 얇아야 한다.
광픽업 액츄에이터, 광 디스크, 대물렌즈, 트래킹, 포커싱-
公开(公告)号：KR1020050063636A
公开(公告)日：2005-06-28
申请号：KR1020040011021
申请日：2004-02-19
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G11B5/31
Abstract: 본 발명은 박막 자기 헤드의 제조방법에 관한 것으로, 특히 초미세 자기재생 소자를 제작함에 있어 포토 레지스트의 플로우 공정을 적용하여 하드 마그네트층과 금속다층박막 사이를 분리시킴과 아울러 포토 레지스트를 이용하여 상부전극과 하부전극 사이를 절연시킴으로써, 제조공정을 단순화, 최적화할 수 있을 뿐만 아니라 제조공정의 시간을 효과적으로 단축시킬 수 있는 박막 자기 헤드의 제조방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020140115210A
公开(公告)日：2014-09-30
申请号：KR1020130030014
申请日：2013-03-20
Applicant: 한국전자통신연구원
CPC classification number: G01N33/48792 , B01L3/5027 , B01L7/52 , B01L2200/147 , B01L2300/023 , B01L2300/0645 , B01L2300/0816 , G01N15/0656 , C12Q1/686 , H04W88/00
Abstract: Provided is a system for analyzing DNA, in which DNA analysis can be wirelessly controlled and DNA analysis results can be received in real time on the spot using an application of a mobile device and an ultra-miniaturized DNA analyzing device. According to an embodiment of the present invention, by utilizing signal processing and screen displaying functions of a mobile device, a plurality of miniaturized DNA analyzing devices can be simultaneously controlled to perform DNA analysis, thereby improving DNA analyzing speed and providing DNA analysis results in real time. Moreover, the DNA analyzing device is ultra-miniaturized, so DNA can be instantly analyzed on the spot with low electricity using a small quantity of samples and the DNA analyzing device can be carried.
Abstract translation: 提供了一种用于分析DNA的系统，其中可以无线控制DNA分析并且可以使用移动设备和超小型化DNA分析装置的应用现场实时接收DNA分析结果。 根据本发明的实施例，通过利用移动设备的信号处理和屏幕显示功能，可以同时控制多个小型化DNA分析装置进行DNA分析，从而提高DNA分析速度并提供DNA分析结果 时间。 此外，DNA分析装置超小型化，因此可以使用少量样品在现场立即分析DNA，并且可以携带DNA分析装置。
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