Abstract:
본 발명은 넓은 파장 대역의 광 흡수가 가능하며, 높은 전자-정공 쌍 분리 효율을 가져 높은 광전 변환 효율을 갖는 반도체 기반 태양광 소자 및 그 제조방법을 제공하는 것이며, 상세하게 본 발명에 따른 태양광 소자의 제조방법은 a) p형 또는 n형 반도체 기판 상부에, 상기 반도체 기판과 동일 형의 불순물이 도핑된 매질 내부에 반도체 양자점이 형성된 반도체 양자점 박막을 형성하는 단계; b) 부분 에칭을 통하여 상기 반도체 양자점 박막을 관통하는 기공 어레이를 형성하는 단계; c) 상기 기공 어레이가 형성된 반도체 양자점 박막에 상기 반도체 기판과 상보적 불순물이 도핑된 반도체를 증착하는 단계; d) 상기 상보적 불순물이 도핑된 반도체 상에 투명전도막 및 상부전극을 순차적으로 형성하고, 상기 반도체 기판 하부에 하부전극을 형성하는 단계;를 포함하여 수행되는 특징이 있다.
Abstract:
본 발명에 의한 입자측정장치는, 전자생성 및 집속이 이루어지며, 내부를 진공으로 유지하는 메인 프레임; 상기 메인 프레임과 결합되는 제 1 챔버; 상기 제 1 챔버의 내부 공간에 설치되는 입자 포집유닛; 상기 제 1 챔버에 상기 입자 포집유닛을 바라보도록 설치되어, 상기 입자 포집유닛에 포집된 입자를 광학적으로 측정 가능한 제 1 검출유닛; 상기 제 1 챔버에 상기 입자 포집유닛을 바라보도록 설치되어, 상기 입자 포집유닛에 입자를 주입하는 제 2 검출유닛;을 포함하며, 상기 입자 포집유닛은, 상기 제 1 검출유닛의 스테이지 역할과, 상기 제 2 검출유닛으로부터 주입된 입자의 포집 역할을 동시에 수행하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
PURPOSE: A particle composite property measuring device is provided to enable the correction of the size distribution on a real time by correcting the size of particles grasped by observing images. CONSTITUTION: A particle composite property measuring device includes a main frame (10), a first chamber (30), a particle collection unit (50), a first detection unit (20), and a second detection unit (40). The main frame generates and collects electrons and maintains the vacuum state of the inside. The first chamber is joined to the main frame. The particle collection member is installed inside an internal space (31) of the first chamber. The first detection unit is installed on the first chamber to face the particle collection unit and optically measure the particles collected by the particle collection unit. The second detection unit is installed on the first chamber to face the particle collection unit and injects the particles into the particle collection unit. The particle collection unit performs a function of a stage for the first detection unit and collects the injected articles from the second detection unit.
Abstract:
PURPOSE: A porous film using a patterned substrate and a manufacturing method thereof are provided to adjust concentration of precursor or velocity during a spin coating process, thereby adjusting thickness of the porous film in nano-scale. CONSTITUTION: A manufacturing method of a porous film using a patterned substrate comprises next steps: forming a first nano spear pattern on a substrate(100); forming a second nano-sphere pattern and porosity grooves by etching a nano-sphere patterned substrate; forming lumbar and merlon of pattern on a substrate by eliminating a second nano-sphere pattern; forming a source matter vapor deposition film by spreading source material(210) on the substrate using a source material application device(200); forming a meso porous film(230) on the substrate in which the source matter vapor deposition film is formed by using a spin coating method; and forming a crystallization porous film(240) through a drying and a thermal processes.