Abstract:
본 발명은 전자빔을 방출하는 전자빔 소스; 상기 전자빔 소스쪽에 구비되며, 상기 전자빔을 집속하여 주는 하나이상의 중간 집속렌즈, 및 최종 집속렌즈로서 시료쪽에 구비되며, 시료위에 집속되는 전자빔 스폿을 형성시키는 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군; 상기 전자빔 소스 및 집속렌즈군을 내부에 구비하며, 상기 전자빔 소스로부터 방출된 전자빔이 대물렌즈를 거쳐 시료에 조사되는 통로인 어퍼처를 구비하는 진공챔버; 상기 전자빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기; 및 관찰하려는 시료를 지지하는 시료 스테이지;를 포함하는 주사전자현미경에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 입자빔 질량분석기 및 이를 이용한 입자 측정 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가스 흐름(gas flow)에 의한 입자 빔을 집속하는 입자 집속유닛; 열전자를 가속하여 상기 입자 집속 유닛에 의해 집속된 입자 빔을 이온화시켜 하전 입자 빔을 형성하는 전자총; 상기 하전 입자빔을 운동 에너지 대 전하 비(kinetic energy to charge ratio)에 따라 굴절시키는 디플렉터; 및 굴절된 상기 하전 입자 빔에 의한 전류를 측정하는 감지부;를 포함하고, 상기 디플렉터는 굴절되기 전의 하전입자 빔의 진행 중심축을 기준으로 양측에 각각 적어도 하나이상 형성된 입자 빔 분리 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명의 목적은 이온빔을 이용하여 일차원 또는 이차원 나노 구조물을 굽힘 변형시키되, 나노 구조물의 회전 등과 같은 움직임을 필요로 하지 않으면서 굽힘 방향을 바꿀 수 있도록 하는, 이온빔을 이용한 일차원 또는 이차원 나노 구조물의 무운동 굽힘 방법을 제공함에 있다. 본 발명의 이온빔을 이용한 일차원 또는 이차원 나노 구조물의 무운동 굽힘 방법은, 이온빔(10)을 조사하여 일차원 또는 이차원 형상의 나노 구조물(20)을 구부러뜨리는 굽힘 방법으로서, 상기 이온빔(10)의 에너지에 따라 상기 나노 구조물(20)의 굽힘 방향이 제어되거나, 또는 상기 나노 구조물(20)의 굵기 또는 두께에 따라 상기 나노 구조물(20)의 굽힘 방향이 제어되는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 전자, 이온, 중성입자 등 입자 광축을 따라 집속되는 입자 빔이 입사하는 틈(aperture)을 일면에 구비하고, 그 대향 면에 광이 투과하는 탈착형 시료 홀더를 구비하여, 입자 빔과 광으로 시료를 관측 또는 분석할 수 있는 입자 및 광학 장치용 진공 시료실에 관한 것으로, 전자현미경 또는 집속이온빔 관찰장비의 시료실에 시료가 출입할 경우에도 시료실 내부 진공을 유지하여 관찰시간을 단축하고, 광원이나 광학 경통을 시료실 내부에 삽입하지 않고 외부에서 광학 영상을 획득할 수 있는 시료실 및 그 시료실을 구비한 광-전자 융합현미경을 구현한다.
Abstract:
본 발명은 4개의 전극과 상기 4개의 전극을 고정하기 위한 절연체 홀더를 포함하는 사중극자 질량분석기용 사중극자 질량필터에 관한 것으로, 본 발명에 따른 사중극자 질량필터는 절연체 홀더의 내부면 중 각각의 전극과 접촉하는 부분은 평면으로 이루어지며, 상기 4개의 전극 각각은 상기 절연체 홀더와 접촉하는 부분이 평면으로 이루어짐으로써, 사중극자의 평행도, 직진도 및 조립정밀도가 우수한 사중극자 질량 분석기를 제공할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 하전입자 현미경의 입자빔 제어 장치 및 방법에 관한 것으로, 보 다 상세하게는 하전입자 현미경내 하전입자빔을 제어함으로써, 시료 표면의 정보를 획득하기 위해 정전 방식 또는 자기 방식의 편향기(스캐너)에 의해 왜곡되는 동적 특성을 바로 잡아 원하는 위치에 하전입자빔을 조사 시킴으로써 측정된 시료표면의 이미지가 왜곡되는 것을 방지하고, 고속으로 이미지를 획득 할 수 있도록 하며, 원하는 형태로 시료 표면을 가공할 수 있도록 하는 하전 입자빔 제어 장치 및 이를 이용한 하전입자빔의 제어 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법에 관한 것으로, 보다 구 체적으로는 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일을 생성하여 상기 편향기에 제 공하는 주사파형 발생기; 및 상기 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형을 제어하 는 주사 파형 제어부;를 포함하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호를 생성하는 방법으로서 상기 편향기로부터 기인하는 시료 표면의 왜곡된 영상을 개선할 수 있는 주사 신호의 제어 방법 및 이를 이용한 장치에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 금속팁을 포함하는 입자빔 소스; 상기 입자빔 소스로부터 집속된 입자빔을 수신하고, 이로부터 2차전자를 방출하는 마이크로채널 플레이트; 상기 마이크로채널 플레이트로부터 생성된 2차전자를 수신하고 이를 광신호로 변환하는 형광스크린; 상기 형광스크린으로부터 방출되는 광 데이터를 수집하는 영상수집장치; 및 상기 영상수집장치로부터 얻어지는 데이터를 처리하여 영상화하며, 상기 마이크로채널 플레이트로부터 기인하는 잡음을 제거하기 위해 공간 영역(spatial domain)에서 구현되는 저주파 통과필터(low pass filter)를 포함하여 이루어지는 영상처리장치;를 포함하는, 입자빔의 방출 이미지 획득 장치 및 이를 이용하여 입자빔의 방출 이미지를 획득하는 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 계측의 신뢰성을 증대 또는 극대화할 수 있는 융합계측장치를 개시한다. 그의 장치는 기판 표면을 원자레벨 수준으로 계측하는 원자현미경과, 상기 원자현미경 및 상기 기판을 계측하는 전자현미경과, 상기 전자현미경으로 상기 원자현미경 및 상기 기판을 모니터링 할 때, 원자현미경의 캔틸레버에 가려지는 기판 상의 이차전자의 경로를 왜곡하여 전자현미경의 전자 검출기로 진행시키는 적어도 하나의 전극을 포함한다.
Abstract:
본 발명은 하전입자 빔을 방출하는 하전입자 소스, 상기 하전입자 소스쪽에 구비되며, 전기장 또는 자기장에 의해 상기 하전입자 빔을 집속하여 주는 하나이상의 중간 집속렌즈, 및 최종 집속렌즈로서 시료쪽에 구비되며, 시료위에 집속되는 빔 스폿인 하전입자 빔 프로브를 형성시키는 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군, 상기 하전입자 소스 및 집속렌즈군을 내부에 구비하며, 상기 하전입자 소스로부터 방출된 하전입자 빔이 대물렌즈를 거쳐 시료에 조사되는 통로인 어퍼처를 구비하는 진공챔버, 상기 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기, 및 관찰 또는 가공하려는 시료를 지지하며, 상기 시료를 이동할 수 있는 시료 스테이지를 포함하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치 및 이를 이용하여 시료를 관찰 또는 가공하는 방법에 관한 것이다.