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公开(公告)号：WO2019240482A1
公开(公告)日：2019-12-19
申请号：PCT/KR2019/007046
申请日：2019-06-12
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명에서는 로드락 챔버를 이용하여 장시간 열안정성 평가 시 대기와의 접촉을 방지하고, 테스트를 연속적으로 진행하면서 원하는 시간마다 샘플링이 가능한 고온 보관 장치가 개시된다. 재료가 수용되는 보관 용기; 보관 용기의 내부로부터 외부로 연장되는 액추에이터; 보관 용기의 상부에 배치되며, 보관 용기와 액추에이터를 고정하는 홀더; 보관 용기의 일부를 감싸도록 배치되어 재료를 증발시키는 가열부; 및 홀더와 연결되는 로드락 챔버를 포함하고, 액추에이터는, 구동에 의해 보관 용기의 내부를 왕복 이동하는 로드부를 포함하고, 로드락 챔버는 이송 부재를 포함하여 증발된 재료가 증착될기판을 홀더의 내부로 로딩(loading) 또는 언로딩(un-loading)하는 고온 보관장치가 개시된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101909959B1
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：KR1020160151791
申请日：2016-11-15
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본발명은플라즈마공정설비용코팅기재의부식촉진장치및 이를이용한신뢰성시험방법에관한것이다. 본발명은코팅기재의부식촉진장치및 코팅기재의신뢰성시험방법에관한것으로, 코팅기재를부식시킬수 있는부식촉진부를포함하여, 상기코팅기재를짧은시간내에부식시킬수 있으며, 이에따른오염입자발생량을측정함으로써, 상기코팅기재의부식특성을용이하게측정할수 있는효과가있다.
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公开(公告)号：KR101535747B1
公开(公告)日：2015-07-10
申请号：KR1020140070151
申请日：2014-06-10
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: H01L21/66 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/205
Abstract: 본발명은제1전극및 상기제1전극과이격되게설치되는제2전극을구비하여, 내부에플라즈마를발생하는진공챔버부; 상기제1전극및 제2전극의사이에위치하는코팅부품장착부; 상기진공챔버부와연결설치되어, 상기진공챔버내의오염입자를집속하는입자집속부; 상기입자집속부와연결설치되어상기오염입자의성분을검출하는입자성분검출부; 및상기입자집속부와연결설치되어상기오염입자의오염정도를측정하는입자측정부; 를포함하는반도체코팅설비의오염진단장치에관한것이다. 본발명은반도체코팅설비의오염진단장치를이용하여코팅부품을진단하는반도체코팅설비의오염진단방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种半导体涂层设备的污染诊断装置，包括：真空室单元，用于产生等离子体内部，第一和第二电极设置在分开的位置; 位于第一和第二电极之间的涂层部件安装单元; 粒子聚焦单元，连接到真空室并聚焦在真空室内的污染颗粒上; 粒子分量检测单元，其连接到所述粒子聚焦单元并检测所述污染颗粒的成分; 以及粒子测量单元，其连接到所述粒子聚焦单元并且测量所述污染颗粒的污染程度。 本发明涉及通过使用半导体涂覆设备的污染诊断装置来诊断涂层成分的半导体涂覆设备的污染诊断方法。
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