公开(公告)号：TWI557261B

公开(公告)日：2016-11-11

申请号：TW100113130

申请日：2011-04-15

Applicant: ASM美國公司 ,  ASM AMERICA, INC.

Inventor： 方杜魯利亞 凱勒 ,  FONDURULIA, KYLE ,  席羅 艾瑞克 ,  SHERO, ERIC ,  佛吉斯 摩希茲E ,  VERGHESE, MOHITH E. ,  懷特 卡爾L ,  WHITE, CARL L.

IPC: C23C16/448

公开(公告)号：TWI506721B

公开(公告)日：2015-11-01

申请号：TW098142134

申请日：2009-12-09

Applicant: ASM美國股份有限公司 ,  ASM AMERICA, INC.

Inventor： 懷特 卡爾L ,  WHITE, CARL L. ,  雪洛 艾立克 ,  SHERO, ERIC ,  李德 朱歐 ,  REED, JOE

IPC: H01L21/683

CPC classification number: C23C16/45544 ,  C23C16/4585 ,  H01L21/67011 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68771

公开(公告)号：TW201209216A

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：TW100113130

申请日：2011-04-15

Applicant: ASM美國公司

Inventor： 方杜魯利亞 凱勒 ,  席羅 艾瑞克 ,  佛吉斯 摩希茲E ,  懷特 卡爾L

IPC: C23C

Abstract: 一種用於提供蒸發的先質到一反應室的先質來源容器係被提供。該先質來源容器包含一蓋子，其具有一第一埠口、一第二埠口，以及一第三埠口。該先質來源容器亦包含一底座，其可移除地附接至該蓋子。該底座包含形成於其中的一凹陷區域。該第一埠口、第二埠口和第三埠口的其中之一係為一打嗝埠口，其建構成在來源容器被安裝之後但是在將該來源容器使用於半導體加工之前釋放來源容器之中的頭壓。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于提供蒸发的先质到一反应室的先质来源容器系被提供。该先质来源容器包含一盖子，其具有一第一端口口、一第二端口口，以及一第三端口口。该先质来源容器亦包含一底座，其可移除地附接至该盖子。该底座包含形成于其中的一凹陷区域。该第一端口口、第二端口口和第三端口口的其中之一系为一打嗝端口口，其建构成在来源容器被安装之后但是在将该来源容器使用于半导体加工之前释放来源容器之中的头压。