Abstract in simplified Chinese:一种半导体处理设备,包括:反应室(202、302、404)、可移动的基座(208、308、408、508、808)、移动件(210、310、810)及控制系统(211、811)。反应室(202、302、402)包括:基板(212、312、412、512、812),该基板(212、312、412、512、812)具有一开口(250、350、450、550)。可移动的基座(208、308、408、508、808)设置成保持工件(W)。移动件(210、310、810)设置成朝向基板(212、312、412、512、812)的开口(250、350、450、550)移动被基座(208、308、408、508、808)所保持的工件(W)。控制系统(211、811)设置成在处理位于反应室(202、302、402)的工件(W)的期间,借由非密封的间隙(216、316、416、516、816)将基座(208、308、408、508、808)从基板(212、312、412、512、812)分隔开。清洗气体可经由间隙(216、316、416、516、816)流入反应室(202、302、402)。在处理的期间维持间隙(216、316、416、516、816)的方法包括:在基座(208、308、408、508、808)从基板(212、312、412、512、812)分隔开时,校准衬垫(520、530)的高度与进行电容量量测。