公开(公告)号：KR20180072760A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：KR20187014163

申请日：2016-09-28

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： TEN BERGE PETER ,  MOS EVERHARDUS CORNELIS ,  VAN HAREN RICHARD JOHANNES FRANCISCUS ,  WARDENIER PETER HANZEN ,  JENSEN ERIK ,  KASTRUP BERNARDO ,  KUBIS MICHAEL ,  MULKENS JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS ,  DECKERS DAVID FRANS SIMON ,  HENKE WOLFGANG HELMUT ,  LEE JOUNGCHEL

IPC: G03F1/72 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70625

Abstract: 패터닝시스템의에칭툴에의해처리된이후에패턴의측정및/또는시뮬레이션결과를획득하는단계, 에칭로딩(etch loading) 효과에기인한패터닝오차를상기측정및/또는시뮬레이션결과에기초하여결정하는단계, 및컴퓨터시스템에의하여, 상기패터닝오차에기초하여, 상기패터닝시스템내에서상기에칭툴로부터업스트림에있는패터닝디바이스를수정하기위한및/또는수정장치를조절하기위한수정정보를생성하는단계를포함하고, 상기패터닝디바이스가상기수정정보에따라수정되고및/또는상기수정장치가상기수정정보에따라조절되는경우, 상기패터닝오차는정정가능오차로변환되고및/또는특정범위로감소되는, 방법.