公开(公告)号：KR20180021217A

公开(公告)日：2018-02-28

申请号：KR20187004578

申请日：2011-03-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  LOOPSTRA ERIK ,  VAN DER SCHOOT HARMEN ,  STEVENS LUCAS ,  VAN KAMPEN MAARTEN

IPC: G03F1/62 ,  C01B32/20 ,  G02B5/08 ,  G02B5/20 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

Abstract: 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

公开(公告)号：KR20180031812A

公开(公告)日：2018-03-28

申请号：KR20187007749

申请日：2011-03-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  LOOPSTRA ERIK ,  VAN DER SCHOOT HARMEN ,  STEVENS LUCAS ,  VAN KAMPEN MAARTEN

IPC: G03F1/62 ,  C01B32/20 ,  G02B5/08 ,  G02B5/20 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

Abstract: 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为产生辐射束的辐射源。 该光刻设备还包括被配置为支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置被配置为将辐射束赋予图案以形成图案化的辐射束。 该支撑件提供有包括石墨烯层的薄膜。

公开(公告)号：JP2006339644A

公开(公告)日：2006-12-14

申请号：JP2006149099

申请日：2006-05-30

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： KRUIJT-STEGEMAN YVONNE W ,  KOLESNYCHENKO ALEKSEY YURIEVICH ,  VAN SANTEN HELMAR ,  LOOPSTRA ERIK

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B41F1/34 ,  B41F1/18 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7084 ,  H05K1/0269 ,  H05K3/0008 ,  H05K2201/09918 ,  H05K2203/0108

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imprint lithography unit capable of performing highly precise alignment between continuous layers.
SOLUTION: This imprint lithography unit has a substrate table to hold a substrate, template holder to hold an imprint template, and an alignment sensor. It also has a template alignment mark where in an imprint position alignment mark is formed by imprinting the imprint template or the template or the template holder on the substrate table on the substrate. The imprint template has functional patterns. The template alignment mark and the functional patterns have known space relationships. The alignment sensor determines the position of the imprint alignment mark.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够在连续层之间执行高精度对准的压印光刻单元。 解决方案：该压印光刻单元具有用于保持基板的基板台，用于保持压印模板的模板保持器和对准传感器。 它还具有模板对准标记，其中在压印位置对准标记是通过将压印模板或模板或模板保持器压印在衬底上的衬底台上形成的。 印记模板具有功能模式。 模板对准标记和功能图案具有已知的空间关系。 对准传感器确定压印对准标记的位置。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：WO2014072149A2

公开(公告)日：2014-05-15

申请号：PCT/EP2013071141

申请日：2013-10-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LOOPSTRA ERIK ,  YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  NIKIPELOV ANDREY ,  OSORIO OLIVEROS EDGAR ,  STRUYCKEN ALEXANDER ,  VAN DRIEËNHUIZEN BERT ,  VAN SCHOOT JAN

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: H05G2/006 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067 ,  H01S3/073 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/0815 ,  H01S3/1307 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2383 ,  H05G2/008

Abstract: A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target at a plasma formation location and directing a continuous-wave excitation beam at the plasma formation location such that fuel within the continuously renewing fuel target is excited by the continuous-wave excitation beam to generate a radiation generating plasma.

Abstract translation: 一种为光刻设备产生辐射的方法。 该方法包括在等离子体形成位置处提供连续更新的燃料目标并且在等离子体形成位置处引导连续波激发光束，使得连续更新的燃料靶内的燃料被连续波激发光束激发以产生辐射产生 等离子体。

公开(公告)号：WO2014202585A3

公开(公告)日：2015-08-20

申请号：PCT/EP2014062691

申请日：2014-06-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： NIKIPELOV ANDREY ,  FRIJNS OLAV ,  DE VRIES GOSSE ,  LOOPSTRA ERIK ,  BANINE VADIM ,  DE JAGER PIETER ,  DONKER RILPHO ,  NIENHUYS HAN-KWANG ,  KRUIZINGA BORGERT ,  ENGELEN WOUTER ,  LUITEN OTGER ,  AKKERMANS JOHANNES ,  GRIMMINCK LEONARDUS ,  LITVINENKO VLADIMIR

IPC: H01S3/09 ,  G01J1/04 ,  G02B1/06 ,  G02B5/20 ,  G02B26/02 ,  G03F7/20 ,  G21K1/10 ,  H01S3/00 ,  H05H7/04

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G01J1/0407 ,  G01J1/0418 ,  G01J1/26 ,  G01J1/429 ,  G02B1/06 ,  G02B5/205 ,  G02B26/023 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/10 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0085 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04

Abstract: A method of patterning lithographic substrates, the method comprising using a free electron laser (FEL) to generate EUV radiation and delivering the EUV radiation to a lithographic apparatus (LA) which projects the EUV radiation onto lithographic substrates, wherein the method further comprises reducing fluctuations in the power of EUV radiation delivered to the lithographic substrates by using a feedback-based control loop (CT) to monitor the free electron laser and adjust operation of the free electron laser accordingly.

Abstract translation: 一种图案化平版印刷基板的方法，所述方法包括使用自由电子激光器（FEL）产生EUV辐射并将EUV辐射传送到将EUV辐射投影到平版印刷基板上的光刻设备（LA），其中所述方法还包括减小波动 通过使用基于反馈的控制回路（CT）来监测自由电子激光器并相应地调节自由电子激光器的操作，将EUV辐射的功率传递到光刻基板。

公开(公告)号：WO2011092020A3

公开(公告)日：2011-09-29

申请号：PCT/EP2011000385

申请日：2011-01-28

Applicant: ZEISS CARL SMT GMBH ,  ASML NETHERLANDS BV ,  EHM DIRK HEINRICH ,  VAN KAMPEN MAARTEN ,  SCHMIDT STEFAN-WOLFGANG ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  LOOPSTRA ERIK

Inventor： EHM DIRK HEINRICH ,  VAN KAMPEN MAARTEN ,  SCHMIDT STEFAN-WOLFGANG ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  LOOPSTRA ERIK

IPC: G01J1/04 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G01J1/58 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70958

Abstract: An arrangement for use in a projection exposure tool (100) for microlithography comprises a reflective optical element (10; 110) and a radiation detector (30; 32; 130). The reflective optical element (10; 110) comprises a carrier element (12) guaranteeing the mechanical strength of the optical element (10; 110) and a reflective coating (18) disposed on the carrier element (12) for reflecting a use radiation (20a). The carrier element (12) is made of a material which upon interaction with the use radiation (20a) emits a secondary radiation (24) the wavelength of which differs from the wavelength of the use radiation (20a), and the radiation detector (30; 32; 130) is configured to detect the secondary radiation (24).

Abstract translation: 一种用于微光刻投影曝光工具（100）的装置包括反射光学元件（10; 110）和辐射检测器（30; 32; 130）。 反射光学元件（10; 110）包括保证光学元件（10; 110）的机械强度的载体元件（12）和设置在载体元件（12）上的反射涂层（18），用于反射使用辐射 20A）。 载体元件（12）由与使用辐射（20a）相互作用时发射波长与使用辐射（20a）的波长不同的次级辐射（24）的材料制成，并且辐射检测器（30 ; 32; 130）被配置为检测所述次级辐射（24）。

公开(公告)号：WO2013107684A3

公开(公告)日：2013-12-12

申请号：PCT/EP2013050402

申请日：2013-01-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LOOPSTRA ERIK ,  DONDERS SJOERD ,  ZAAL KOEN ,  CADEE THEODORUS PETRUS MARIA

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/707 ,  H01L21/67778

Abstract: A method of loading a flexible substrate (38), a device manufacturing method, an apparatus for loading a flexible substrate, and a lithography apparatus. According to an embodiment, there is provided a method of loading a flexible substrate onto a support (42) for use in an exposure apparatus, including transferring the substrate progressively from a substrate carrier (40) to the support in a way that a boundary line (45) separating a region of the substrate that is loaded onto the support and a region of the substrate that is not yet loaded onto the support remains substantially straight during the loading process.

Abstract translation: 装载柔性基板（38）的方法，装置制造方法，装载柔性基板的装置和光刻装置。 根据一个实施例，提供了一种将柔性基板装载到用于曝光设备的支撑件（42）上的方法，包括将基板从基板载体（40）逐渐地以基板载体（40）的方式转移到支撑件 （45），分离装载到载体上的基板的区域和尚未加载到载体上的基板的区域在加载过程中保持基本上直线。

公开(公告)号：WO2013029893A2

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：PCT/EP2012064755

申请日：2012-07-27

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  DE JAGER PIETER ,  BLEEKER ARNO ,  DEN BOEF ARIE ,  LOOPSTRA ERIK ,  PANDEY NITESH

Inventor： DE JAGER PIETER ,  BLEEKER ARNO ,  DEN BOEF ARIE ,  LOOPSTRA ERIK ,  PANDEY NITESH

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70675

Abstract: A lithographic system has a lithographic apparatus, an inspection system and a controller. The lithographic apparatus includes a projection system configured to project a radiation beam onto a layer of material on or above a substrate. The inspection system is configured to inspect a pattern formed on the substrate. The pattern is formed on the substrate by application of the radiation beam. The controller is configured to control the lithographic apparatus to form a pattern based on data from an inspection by the inspection system of a previously exposed pattern.

Abstract translation: 光刻系统具有光刻设备，检查系统和控制器。 光刻设备包括投影系统，该投影系统配置成将辐射束投影到基底上或上方的材料层上。 检查系统被配置为检查形成在基板上的图案。 通过施加辐射束在衬底上形成图案。 控制器被配置为基于来自检查系统对先前曝光的图案的检查的数据来控制光刻设备以形成图案。

公开(公告)号：WO2015044182A3

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：PCT/EP2014070335

申请日：2014-09-24

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BANINE VADIM ,  BARTRAIJ PETRUS ,  VAN GORKOM RAMON ,  AMENT LUCAS ,  DE JAGER PIETER ,  DE VRIES GOSSE ,  DONKER RILPHO ,  ENGELEN WOUTER ,  FRIJNS OLAV ,  GRIMMINCK LEONARDUS ,  KATALENIC ANDELKO ,  LOOPSTRA ERIK ,  NIENHUYS HAN-KWANG ,  NIKIPELOV ANDREY ,  RENKENS MICHAEL ,  JANSSEN FRANCISCUS ,  KRUIZINGA BORGERT

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/956 ,  G02B5/18 ,  G02B27/00 ,  G02B27/09 ,  G02B27/10 ,  G02B27/12 ,  G02B27/14 ,  G02B27/42 ,  G03F1/84 ,  G21K1/06 ,  H01S3/09 ,  H05H7/04

CPC classification number: G21K1/067 ,  G01N2021/95676 ,  G02B5/1814 ,  G02B5/1823 ,  G02B27/0025 ,  G02B27/0938 ,  G02B27/10 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/12 ,  G02B27/14 ,  G02B27/142 ,  G02B27/146 ,  G02B27/4272 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70991 ,  G21K2201/065 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04

Abstract: A delivery system for use within a lithographic system. The beam delivery system comprises optical elements arranged to receive a radiation beam from a radiation source and to reflect portions of radiation along one or more directions to form a one or more branch radiation beams for provision to one or more tools.

Abstract translation: 用于光刻系统的传送系统。 光束传送系统包括被配置为从辐射源接收辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射部分的光学元件，以形成用于提供给一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。

公开(公告)号：WO2014114405A3

公开(公告)日：2014-09-25

申请号：PCT/EP2013076310

申请日：2013-12-12

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VAN DE KERKHOF MARCUS ,  VAN OOSTEN ANTON ,  BUTLER HANS ,  LOOPSTRA ERIK ,  VAN DER WIJST MARC ,  ZAAL KOEN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/702 ,  G02B7/182 ,  G02B7/1827 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/709

Abstract: Disclosed is a system configured to project a beam of radiation onto a target portion of a substrate within a lithographic apparatus. The system comprises a mirror (510) having an actuator (500) for positioning the mirror and/or configuring the shape of the mirror, the actuator also providing active damping to the mirror, and a controller (515a, 515b) for generating actuator control signals for control of said actuator(s). A first coordinate system is used for control of said actuator(s) when positioning said mirror and/or configuring the shape of said mirror and a second coordinate system is used for control of said actuator(s) when providing active damping to said mirror.

Abstract translation: 公开了一种被配置为将光束投射到光刻设备内的基板的目标部分上的系统。 该系统包括具有用于定位反射镜的致动器（500）和/或配置反射镜的形状的反射镜（510），致动器还向反射镜提供主动阻尼，以及用于产生致动器控制的控制器（515a，515b） 用于控制所述致动器的信号。 当定位所述反射镜和/或构造所述反射镜的形状时，第一坐标系用于控制所述致动器，并且当向所述反射镜提供主动阻尼时，使用第二坐标系来控制所述致动器。