公开(公告)号：NL2012052A

公开(公告)日：2014-08-04

申请号：NL2012052

申请日：2014-01-07

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： SMEETS DRIES ,  BLEEKER ARNO ,  LEE CHRIS ,  JAGER PIETER ,  MULDER HEINE ,  PELLENS RUDY

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2010176A

公开(公告)日：2013-08-26

申请号：NL2010176

申请日：2013-01-24

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KOEK WOUTER ,  BLEEKER ARNO ,  LOOPSTRA ERIK ,  MULDER HEINE ,  ZWET ERWIN ,  SMEETS DRIES ,  EBELING ROBERT

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：DE102013102670A1

公开(公告)日：2014-10-02

申请号：DE102013102670

申请日：2013-03-15

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  ZEISS CARL SMT GMBH

Inventor： BEKMAN HERMANUS ,  EHM DIRK ,  HUIJBREGSTE JEROEN ,  STORM ARNOLDUS JAN ,  GRABER TINA ,  AMENT IRENE ,  SMEETS DRIES ,  TE SLIGTE EDWIN ,  KUZNETSOV ALEXEY

IPC: G02B1/10 ,  C03C21/00 ,  G02B1/02 ,  G02B5/08 ,  G02B5/10 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

Abstract: Die Erfindung betrifft ein optisches Element (50), umfassend: ein Substrat (52), ein auf das Substrat (52) aufgebrachtes, EUV-Strahlung reflektierendes Mehrlagensystem (51), sowie ein auf das Mehrlagensystem (51) aufgebrachtes Schutzlagensystem (60), das mindestens eine erste und eine zweite Lage (57, 58) aufweist, wobei die erste Lage (57) näher an dem Mehrlagensystem (51) angeordnet ist als die zweite Lage (58). Die erste Lage (57) dient als Diffusionsbarriere für Wasserstoff und weist eine kleinere Löslichkeit für Wasserstoff auf als die zweite Lage (58), die zur Absorption von Wasserstoff dient. Die Erfindung betrifft auch ein optisches System für die EUV-Lithographie, welche mindestens ein solches optisches Element (50) aufweist, sowie ein Verfahren zum Behandeln eines optischen Elements (50), um in mindestens einer Lage (57, 58, 59) des Schutzlagensystems (60) und/oder in mindestens einer Lage (53, 54) des Mehrlagensystems (51) eingelagerten Wasserstoff zu entfernen.