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    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    1.
    发明专利
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 审中-公开
    LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法

    公开(公告)号：JP2008004969A

    公开(公告)日：2008-01-10

    申请号：JP2007247082

    申请日：2007-09-25

    Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

    Inventor： TEUNISSEN FRANCISCUS JOHANNES ,  VAN DER NET ANTONIUS JOHANNES ,  LOCK WILLEM

    IPC: G06F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70933

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic projection apparatus which can reduce the consumption of purge gas. SOLUTION: In a purge system of the lithographic projection apparatus, a flow rate of the purge gas to the system is reduced substantially once a contamination level has fallen below a threshold level. The control is performed on the basis of a detected level of contamination or a timetable. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：提供可以减少吹扫气体的消耗的光刻投影设备。 解决方案：在光刻投影设备的吹扫系统中，一旦污染水平降低到阈值水平以下，则净化气体到系统的流量就会大大降低。 基于检测到的污染水平或时间表执行控制。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

    LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS, PURGE GAS SUPPLY SYSTEM AND GAS PURGING METHOD
    3.
    发明申请
    LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS, PURGE GAS SUPPLY SYSTEM AND GAS PURGING METHOD 审中-公开
    地层投影装置，纯净气供应系统和气体净化方法

    公开(公告)号：WO2005008339A3

    公开(公告)日：2005-09-01

    申请号：PCT/NL2004000519

    申请日：2004-07-20

    Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  MYCROLIS CORP ,  VAN DER NET ANTONIUS JOHANNES ,  SPIEGELMAN JEFFREY ,  VAN BRAGT JOHANNUS JOSEPHUS

    Inventor： VAN DER NET ANTONIUS JOHANNES ,  SPIEGELMAN JEFFREY ,  VAN BRAGT JOHANNUS JOSEPHUS

    IPC: G02B27/00 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70933 ,  G02B27/0006

    Abstract: A lithographic projection apparatus (1) comprising: a support structure for supporting patterning means, the patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired patter. The apparatus has a substrate table (WT) for holding a substrate, a projection system (PL) for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate. The apparatus also has a purge gas supply system (100) for providing a purge gas near a surface of a component of the lithographic projection apparatus. The purge gas supply system comprises a purge gas mixture generator (120). The purge gas mixture generator (120) is arranged for generating a purge gas mixture which comprises at least one purging gas and a moisture. The purge gas mixture generator (120) has a moisturiser device arranged for adding the moisture to the purge gas and a purge gas mixture outlet (130-133) connected to the purge gas mixture generator for supplying the purge gas mixture near the surface.

    Abstract translation: 一种光刻投影装置（1），包括：用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用于根据期望的图案对投影光束进行图案化。 该装置具有用于保持基板的基板台（WT），用于将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统（PL）。 该设备还具有用于在光刻投影设备的部件的表面附近提供吹扫气体的吹扫气体供应系统（100）。 净化气体供应系统包括净化气体混合物发生器（120）。 净化气体混合物发生器（120）布置成产生包括至少一个吹扫气体和水分的净化气体混合物。 净化气体混合物发生器（120）具有一个保湿装置，其设置用于将净化气体的水分加到净化气体混合物出口（130-133），净化气体混合物出口（130-133）连接到净化气体混合物发生器，用于在表面附近提供净化气体混合物。

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