公开(公告)号：KR20180042402A

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：KR20187008543

申请日：2016-08-22

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VAN DER SCHAAR MAURITS ,  ZHANG YOUPING ,  SMILDE HENDRIK JAN HIDDE ,  TSIATMAS ANAGNOSTIS ,  VAN LEEST ADRIAAN JOHAN ,  VERMA ALOK ,  THEEUWES THOMAS ,  CRAMER HUGO AUGUSTINUS JOSEPH ,  HINNEN PAUL CHRISTIAAN

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/47 ,  G01N21/95

CPC classification number: G03F7/70491 ,  G01N21/47 ,  G01N21/9501 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70683

Abstract: 기판은리소그래피프로세스에의해그 위에형성된제 1 및제 2 타겟구조체를포함한다. 각각의타겟구조체는제 1 및제 2 리소그래피단계를사용하여기판상의단일재료층내에형성되는 2-차원주기적구조체를포함하는데, 제 1 타겟구조체내에서, 제 2 리소그래피단계에서형성되는피쳐는제 1 리소그래피단계에서형성되는피쳐에대해서, 제 1 리소그래피단계에서형성되는피쳐의공간주기의절반에가까운제 1 바이어스양만큼변위되고, 제 2 타겟구조체내에서, 제 2 리소그래피단계에서형성되는피쳐는제 1 리소그래피단계에서형성되는피쳐에대해서, 상기공간주기의절반에가깝고제 1 바이어스양과상이한제 2 바이어스양만큼변위된다. 제 1 타겟구조체의각도-분해산란스펙트럼및 제 2 타겟구조체의각도-분해산란스펙트럼이획득되고, 리소그래피프로세스의파라미터의측정이제 1 및제 2 타겟구조체의산란스펙트럼들에서발견되는비대칭을사용하여, 측정으로부터유도된다.

公开(公告)号：NL2008957A

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：NL2008957

申请日：2012-06-07

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： FENG HANYING ,  CAO YU ,  YE JUN ,  ZHANG YOUPING

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027