公开(公告)号：KR20180042402A

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：KR20187008543

申请日：2016-08-22

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VAN DER SCHAAR MAURITS ,  ZHANG YOUPING ,  SMILDE HENDRIK JAN HIDDE ,  TSIATMAS ANAGNOSTIS ,  VAN LEEST ADRIAAN JOHAN ,  VERMA ALOK ,  THEEUWES THOMAS ,  CRAMER HUGO AUGUSTINUS JOSEPH ,  HINNEN PAUL CHRISTIAAN

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/47 ,  G01N21/95

CPC classification number: G03F7/70491 ,  G01N21/47 ,  G01N21/9501 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70683

Abstract: 기판은리소그래피프로세스에의해그 위에형성된제 1 및제 2 타겟구조체를포함한다. 각각의타겟구조체는제 1 및제 2 리소그래피단계를사용하여기판상의단일재료층내에형성되는 2-차원주기적구조체를포함하는데, 제 1 타겟구조체내에서, 제 2 리소그래피단계에서형성되는피쳐는제 1 리소그래피단계에서형성되는피쳐에대해서, 제 1 리소그래피단계에서형성되는피쳐의공간주기의절반에가까운제 1 바이어스양만큼변위되고, 제 2 타겟구조체내에서, 제 2 리소그래피단계에서형성되는피쳐는제 1 리소그래피단계에서형성되는피쳐에대해서, 상기공간주기의절반에가깝고제 1 바이어스양과상이한제 2 바이어스양만큼변위된다. 제 1 타겟구조체의각도-분해산란스펙트럼및 제 2 타겟구조체의각도-분해산란스펙트럼이획득되고, 리소그래피프로세스의파라미터의측정이제 1 및제 2 타겟구조체의산란스펙트럼들에서발견되는비대칭을사용하여, 측정으로부터유도된다.

公开(公告)号：WO2013029957A3

公开(公告)日：2013-04-25

申请号：PCT/EP2012065599

申请日：2012-08-09

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  KISTEMAN AREND ,  KIERS ANTOINE ,  TEL WIM ,  THEEUWES THOMAS

Inventor： KISTEMAN AREND ,  KIERS ANTOINE ,  TEL WIM ,  THEEUWES THOMAS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70625 ,  G03F9/7026

Abstract: Disclosed is a method of, and associated apparatus for, determining focus corrections for a lithographic projection apparatus. The method comprises: exposing a plurality of global correction fields on a test substrate, each comprising a plurality of global correction marks, and each being exposed with a tilted focus offset across it; measuring a focus dependent characteristic for each of the plurality of global correction marks to determine interfield focus variation information; and calculating interfield focus corrections from said interfield focus variation information.

Abstract translation: 公开了一种用于确定光刻投影装置的焦点校正的方法和相关联的装置。 该方法包括：将测试基板上的多个全局校正场曝光，每个全局校正场均包括多个全局校正标记，并且每个全局校正场在其上以倾斜的焦点偏移曝光; 测量所述多个全局校正标记中的每一个的聚焦依赖特性，以确定场间焦点变化信息; 以及从所述场间焦点变化信息计算场间焦点校正。

公开(公告)号：NL2013751A

公开(公告)日：2015-06-22

申请号：NL2013751

申请日：2014-11-07

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： RHE KYU KAB ,  DECKERS DAVID ,  SIMONS HUBERTUS JOHANNES GERTRUDUS ,  THEEUWES THOMAS

IPC: G01N21/47 ,  G03F7/20

公开(公告)号：NL2009305A

公开(公告)日：2013-03-04

申请号：NL2009305

申请日：2012-08-09

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KISTEMAN AREND ,  KIERS ANTOINE ,  TEL WIM ,  THEEUWES THOMAS

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：DE112018000173B4

公开(公告)日：2022-12-15

申请号：DE112018000173

申请日：2018-05-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： HARUTYUNYAN DAVIT ,  JIA FEI ,  STAALS FRANK ,  WANG FUMING ,  LOOIJESTIJN HUGO THOMAS ,  RIJNIERSE CORNELIS JOHANNES ,  PISARENCO MAXIM ,  WERKMAN ROY ,  THEEUWES THOMAS ,  HEMERT TOM VAN ,  BASTANI VAHID ,  WILDENBERG JOCHEM SEBASTIAAN ,  MOS EVERHARDUS CORNELIS ,  WALLERBOS ERIK JOHANNES MARIA

IPC: G03F7/20 ,  G05B13/04 ,  G05B19/418 ,  H01L21/66

Abstract: Ein Verfahren zum Bestimmen eines charakteristischen Beitrags einer Vorrichtung aus einer Vielzahl von Vorrichtungen zu einem Fingerabdruck eines Parameters, wobei der Parameter mit der Verarbeitung eines Substrats assoziiert ist, wobei das Verfahren Folgendes beinhaltet:Erhalten von Parameterdaten und Verwendungsdaten, wobei die Parameterdaten auf Messungen für mehrere Substrate, die von der Vielzahl von Vorrichtungen verarbeitet worden sind, basieren und die Verwendungsdaten angeben, welche der Vorrichtungen aus der Vielzahl von Vorrichtungen bei der Verarbeitung jedes Substrats verwendet wurden;Bestimmen des Beitrags unter Verwendung der Verwendungsdaten und Parameterdaten; undAnalysieren der Variation der Parameterdaten unter Verwendung der Verwendungsdaten, wobei das Bestimmen des Beitrags zu dem Parameter für eine Vorrichtung das Gruppieren der Daten unter Verwendung der analysierten Variation beinhaltet.

公开(公告)号：DE112018000173T5

公开(公告)日：2019-08-22

申请号：DE112018000173

申请日：2018-05-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： HARUTYUNYAN DAVIT ,  JIA FEI ,  STAALS FRANK ,  WANG FUMING ,  LOOIJESTIJN HUGO THOMAS ,  RIJNIERSE CORNELIS JOHANNES ,  PISARENCO MAXIM ,  WERKMAN ROY ,  THEEUWES THOMAS ,  HEMERT TOM VAN ,  BASTANI VAHID ,  WILDENBERG JOCHEM SEBASTIAAN ,  MOS EVERHARDUS CORNELIS ,  WALLERBOS ERIK JOHANNES MARIA

IPC: G03F7/20 ,  G05B13/04 ,  G05B19/418 ,  H01L21/66

Abstract: Ein Verfahren, System und Programm zum Bestimmen des Beitrags eines Fingerabdrucks eines Parameters. Das Verfahren umfasst das Bestimmen eines Beitrags von einer Vorrichtung aus einer Vielzahl von Vorrichtungen zu einem Fingerabdruck eines Parameters. Das Verfahren beinhaltet Folgendes:Erhalten von Parameterdaten und Verwendungsdaten, wobei die Parameterdaten auf Messungen für mehrere Substrate, die von der Vielzahl von Vorrichtungen verarbeitet worden sind, basieren und die Verwendungsdaten angeben, welche der Vorrichtungen aus der Vielzahl der Vorrichtungen bei der Verarbeitung jedes Substrats verwendet wurden; undBestimmen des Beitrags unter Verwendung der Verwendungsdaten und Parameterdaten.