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公开(公告)号:DE112021001020T5
公开(公告)日:2022-12-01
申请号:DE112021001020
申请日:2021-01-26
Applicant: IBM
Inventor: SHEN TIAN , WU HENG , BREW KEVIN , ZHANG JINGYUN
Abstract: Es wird ein Verfahren für verbesserte Linearität einer Phasenwechselspeicherzellen(PCM-Zellen)-Struktur bereitgestellt. Das Verfahren weist Bilden einer unteren Elektrode über einem Substrat, Aufbauen eines PCM-Stapels, der einer Mehrzahl von PCM-Schichten enthält, die jeweils eine andere Kristallisationstemperatur aufweisen, über der unteren Elektrode, und Bilden einer oberen Elektrode über dem PCM-Stapel auf. Die Kristallisationstemperatur variiert in einer aufsteigenden Reihenfolge von der unteren Elektrode zu der oberen Elektrode.
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公开(公告)号:DE112018001828T5
公开(公告)日:2019-12-12
申请号:DE112018001828
申请日:2018-06-01
Applicant: IBM
Inventor: BREW KEVIN , NEWNS DENNIS , KIM SEYOUNG , GERSHON TALIA SIMCHA , TODOROV TEODOR KRASSIMIROV
IPC: H01L27/12
Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer memristiven Struktur für eine symmetrische Modulation zwischen Widerstandszuständen vorgelegt. Das Verfahren beinhaltet ein Bilden einer ersten Elektrode und einer zweiten Elektrode über einem isolierenden Substrat, ein Bilden einer Anode, die sich in Kontakt mit der ersten und der zweiten Elektrode befindet, ein Bilden eines lonenleiters über der Anode, ein Bilden einer Kathode aus dem gleichen Material wie jenem der Anode über dem lonenleiter, ein Bilden einer dritten Elektrode über der Kathode sowie ein Ermöglichen eines bidirektionalen Transports von Ionen zwischen der Anode und der Kathode, so dass eine Widerstandseinstellung der memristiven Struktur resultiert, wobei die Anode und die Kathode aus metastabilen gemischt-leitenden Materialien mit einer von der lonenkonzentration abhängigen Leitfähigkeit gebildet werden.
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公开(公告)号:DE112021001020B4
公开(公告)日:2025-01-30
申请号:DE112021001020
申请日:2021-01-26
Applicant: IBM
Inventor: SHEN TIAN , WU HENG , BREW KEVIN , ZHANG JINGYUN
Abstract: Verfahren für verbesserte Linearität einer Phasenwechselspeicherzellen-Struktur, PCM-Zellen-Struktur, wobei das Verfahren aufweist:Bilden einer unteren Elektrode über einem Substrat;Bilden eines Heizelementes in direktem Kontakt mit einer Oberfläche der unteren Elektrode, wobei eine Breite des Heizelementes kleiner als die untere Elektrode ist;Bilden einer resistiven Verkleidung, wodurch eine planare Oberfläche entlang einer gesamten Oberfläche gebildet wird, so dass die planare Verkleidungsoberfläche sich insgesamt über eine obere Oberfläche des Heizelementes erstreckt;Aufbauen eines PCM-Stapels, der eine Mehrzahl von PCM-Schichten aufweist, die jeweils eine andere Kristallisationstemperatur aufweisen, über der unteren Elektrode, wobei der PCM-Stapel in direktem Kontakt mit einer oberen Oberfläche der resistiven Verkleidung steht; undBilden einer oberen Elektrode über dem PCM-Stapel,wobei die Kristallisationstemperatur in einer aufsteigenden Reihenfolge von der unteren Elektrode zu der oberen Elektrode variiert, undwobei die Mehrzahl von PCM-Schichten vier Schichten aufweist.
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公开(公告)号:DE112021000360T5
公开(公告)日:2022-12-08
申请号:DE112021000360
申请日:2021-02-12
Applicant: IBM
Inventor: PHILIP TIMOTHY MATTHEW , CLEVENGER LAWRENCE , BREW KEVIN
IPC: G11C13/00
Abstract: Es wird eine Phasenwechselspeichereinheit bereitgestellt. Die Phasenwechselspeichereinheit enthält ein Phasenwechselspeichermaterial innerhalb einer elektrisch isolierenden Wand, einen ersten Heizelementanschluss in der elektrisch isolierenden Wand und zwei Leseanschlüsse in der elektrisch isolierenden Wand.
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公开(公告)号:AU2021244850A1
公开(公告)日:2022-09-01
申请号:AU2021244850
申请日:2021-02-12
Applicant: IBM
Inventor: PHILIP TIMOTHY MATTHEW , CLEVENGER LAWRENCE , BREW KEVIN
IPC: G11C13/00
Abstract: A phase change memory device is provided. The phase change memory device includes a phase change memory material within an electrically insulating wall, a first heater terminal in the electrically insulating wall, and two read terminals in the electrically insulating wall.
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公开(公告)号:DE112021005680B4
公开(公告)日:2024-12-24
申请号:DE112021005680
申请日:2021-11-18
Applicant: IBM
Inventor: OK INJO , BAO RUQIANG , SIMON ANDREW HERBERT , BREW KEVIN , SAULNIER NICOLE , SARAF IQBAL RASHID , SANKARAPANDIAN MUTHUMANICKAM , MEHTA SANJAY
Abstract: Struktur (100); aufweisend:ein Heizelement (116), das von einer dielektrischen Schicht (114) umgeben ist;einen Projektions-Liner (124) auf dem Heizelement, wobei der Projektions-Liner eine obere Oberfläche des Heizelements bedeckt;eine Phasenwechselmaterialschicht (126) über dem Projektions-Liner, wobei der Projektions-Liner die Phasenwechselmaterialschicht von der zweiten dielektrischen Schicht (114) und dem Heizelement trennt;eine obere Elektrode (128) über und in elektrischem Kontakt mit der Phasenwechselmaterialschicht; undeinen oberen Elektrodenkontakt (136), der die obere Elektrode (128) und einen oberen Teil der Phasenwechselmaterialschicht umschließt, wobei der obere Elektrodenkontakt durch einen Metall-Liner (134) von der Phasenwechselmaterialschicht und der oberen Elektrode getrennt wird.
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公开(公告)号:AU2021237822B2
公开(公告)日:2024-05-02
申请号:AU2021237822
申请日:2021-02-19
Applicant: IBM
Inventor: SHEN TIAN , XIE RUILONG , BREW KEVIN , WU HENG , ZHANG JINGYUN
IPC: H01L29/00
Abstract: A phase change material switch includes a phase change layer disposed on a metal liner. A gate dielectric layer is disposed on the phase change layer. A metal gate liner is disposed on the gate dielectric layer.
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公开(公告)号:DE112021000643T5
公开(公告)日:2022-11-24
申请号:DE112021000643
申请日:2021-02-19
Applicant: IBM
Inventor: SHEN TIAN , XIE RUILONG , BREW KEVIN , WU HENG , ZHANG JINGYUN
IPC: H01L45/00
Abstract: Ein Phasenwechselmaterialschalter enthält eine Phasenwechselschicht, die auf einem Metall-Liner angeordnet ist. Eine Gate-Dielektrikumschicht ist auf der Phasenwechselschicht angeordnet. Ein Metall-Gate-Liner ist auf der Gate-Dielektrikumschicht angeordnet.
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公开(公告)号:AU2021237822A1
公开(公告)日:2022-08-25
申请号:AU2021237822
申请日:2021-02-19
Applicant: IBM
Inventor: SHEN TIAN , XIE RUILONG , BREW KEVIN , WU HENG , ZHANG JINGYUN
Abstract: A phase change material switch includes a phase change layer disposed on a metal liner. A gate dielectric layer is disposed on the phase change layer. A metal gate liner is disposed on the gate dielectric layer.
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