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公开(公告)号:DE102012220731B4
公开(公告)日:2017-04-13
申请号:DE102012220731
申请日:2012-11-14
Applicant: IBM
Inventor: AFZALI-ARDAKANI ALI , CHANDRA BHUPESH , TULEVSKI GEORGE STOJAN , XIA FENGNIAN
IPC: H01L29/786 , B82Y10/00 , H01L21/28 , H01L21/335 , H01L29/16
Abstract: Verfahren zum Dotieren einer Graphen- oder Kohlenstoff-Nanoröhrchen-Dünnschichttransistor-Feldeffekttransistoreinheit zum Verringern des Kontaktwiderstands mit einer Metallelektrode, aufweisend: selektives Aufbringen eines Dotierstoffs aus Cer(IV)-Salz auf einen Metallkontaktbereich der Graphen- oder Kohlenstoff-Nanoröhrchen-Dünnschichttransistor-Feldeffekttransistoreinheit zum Verringern des Kontaktwiderstands an der Metall-CNT/Graphen-Grenzfläche.
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公开(公告)号:DE102012222032A8
公开(公告)日:2013-08-29
申请号:DE102012222032
申请日:2012-12-03
Applicant: IBM
Inventor: AFZALI-ARDANKANI ALI , CHANDRA BHUPESH , TULEVSKI GEORGE
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公开(公告)号:DE102012222023A1
公开(公告)日:2013-06-20
申请号:DE102012222023
申请日:2012-12-03
Applicant: IBM
Inventor: AFZALI-ARDAKANI ALI , CHANDRA BHUPESH , TULEVSKI GEORGE S
Abstract: Ein Prozess umfasst das Kombinieren eines in einem wässrigen Lösungsmittel gelösten Cer(IV)-Salzes mit einem Kohlenstoffmaterial, das CNTs oder Graphen aufweist, wobei das Cer(IV)-Salz aus einem Cer(IV)-Ammoniumsalz einer Stickoxidsäure, einem Cer(IV)-Ammoniumsalz einer Schwefeloxidsäure, einem Cer(IV)-Salz einer Niederalkyl-Organo-Schwefelsäure oder einem Cer(IV)-Salz einer Niederalkan-Organo-Schwefelsäure gewählt wird. In einer Ausführungsform wird das Cer(IV)-Salz aus Cer(IV)-Ammoniumnitrat, Cer(IV)-Ammoniumsulfat, Cer(IV)-Niederalkylsulfonat oder Cer(IV)-Trifluor-Niederalkansulfonat gewählt. Ein Produkt wird durch diesen Prozess hergestellt. Ein Herstellungsartikel weist dieses Produkt auf einem Substrat auf.
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公开(公告)号:GB2496956B
公开(公告)日:2013-12-11
申请号:GB201219636
申请日:2012-11-01
Applicant: IBM
Inventor: CHANDRA BHUPESH , MAAROUF AHMED , KASRY AMAL , MARTYNA GLENN JOHN , TULEVSKI GEORGE STOJAN , BOL AGEETH ANKE
IPC: H01B1/04 , H01L21/02 , H01L29/10 , H01L29/66 , H01L29/786 , H01L31/0224 , H01L33/42 , H01L51/00 , H01L51/05
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公开(公告)号:GB2498054A
公开(公告)日:2013-07-03
申请号:GB201221175
申请日:2012-11-26
Applicant: IBM
Inventor: CHANDRA BHUPESH , AFZALI-ARDAKANI ALI , TULEVSKI GEORGE STOJAN
IPC: C01B31/02
Abstract: A process is disclosed which comprises combining a Ce (IV) salt with a carbon material comprising carbon nanotubes or graphene wherein the Ce (IV) and is dissolved in a solvent comprising water. The process is conducted for a period of time and at a temperature and solution concentration sufficient to substantially oxidise the carbon material to produce an oxidised material that is substantially non-conducting. After the oxidation, the Ce (IV) is substantially removed from the oxidised material. An article of manufacture comprises the product on a substrate. The oxidised material can be formed as a pattern on the substrate. In another embodiment the substrate comprises an electronic device with the oxidised material patterning non-conductive areas separate from conductive areas of the non-oxidised carbon material, where the conductive areas are operatively associated with the device.
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公开(公告)号:GB2498053A
公开(公告)日:2013-07-03
申请号:GB201221174
申请日:2012-11-26
Applicant: IBM
Inventor: AFZALI-ARAKANI ALI , CHANDRA BHUPESH , TULEVSKI GEORGE STOJAN
IPC: C01B31/02
Abstract: A process for doping carbon materials is disclosed which comprises combining a Ce (IV) salt dissolved in a solvent comprising water with a carbon material comprising CNT or graphene wherein the Ce (IV) salt is selected from a Ce (IV) ammonium salt of a nitrogen oxide acid, Ce (IV) ammonium salt of a sulfur oxide acid, Ce (IV) salt of a lower alkyl organo-sulfur acid, or Ce (IV) salt of a substituted lower alkane organo-sulfur acid. In one embodiment the Ce (IV) salt is selected from Ce (IV) ammonium nitrate, Ce (IV) ammonium sulfate, Ce (IV) lower alkylsulfonate, or Ce (IV) trihalo lower alkanesulfonate.
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公开(公告)号:DE102012220314A1
公开(公告)日:2013-05-23
申请号:DE102012220314
申请日:2012-11-08
Applicant: IBM
Inventor: BOL AGEETH A , CHANDRA BHUPESH , KASRY AMAL , MAAROUF AHMED , MARTYNA GLENN J , TULEVSKI GEORGE S
IPC: H01L21/18 , B82B3/00 , C01B31/04 , C23C16/26 , C30B25/18 , H01L21/28 , H01L21/336 , H01L29/775 , H01L29/78
Abstract: Eine Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht und ein Verfahren zum Ausbilden einer gereinigten Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht. Das Verfahren beinhaltet ein Abscheiden einer Nanoröhren-Dünnschicht über einem Substrat, um eine Schicht einer Nanoröhren-Dünnschicht zu erzeugen, ein Entfernen von Verunreinigungen von einer Oberfläche der Schicht der Nanoröhren-Dünnschicht, die das Substrat nicht berührt, um eine gereinigte Schicht einer Nanoröhren-Dünnschicht zu erzeugen, ein Abscheiden einer Schicht Graphen über der gereinigten Schicht der Nanoröhren-Dünnschicht, um eine Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht zu erzeugen, und ein Entfernen von Verunreinigungen von einer Oberfläche der Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht, um eine gereinigte Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht zu erzeugen, wobei die Hybriddünnschicht eine verbesserte elektrische Leistungsfähigkeit aufweist. Ein weiteres Verfahren beinhaltet ein Abscheiden einer Nanoröhren-Dünnschicht über einer Metallfolie, um eine Schicht einer Nanoröhren-Dünnschicht zu erzeugen, ein Platzieren der Metallfolie mit der abgeschiedenen Nanoröhren-Dünnschicht in einem Ofen für chemische Gasphasenabscheidung, um Graphen auf der Nanoröhren-Dünnschicht aufzuwachsen, um eine Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht auszubilden, und ein Übertragen der Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht über ein Substrat.
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公开(公告)号:DE102012220314B4
公开(公告)日:2014-05-22
申请号:DE102012220314
申请日:2012-11-08
Applicant: IBM
Inventor: BOL AGEETH A , CHANDRA BHUPESH , KASRY AMAL , MAAROUF AHMED , MARTYNA GLENN J , TULEVSKI GEORGE S
IPC: H01L21/18 , B82B3/00 , B82Y30/00 , C01B31/04 , C23C16/26 , C30B25/18 , H01L21/28 , H01L21/336 , H01L29/775 , H01L29/78
Abstract: Verfahren zum Ausbilden einer gereinigten Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht, das aufweist: Abscheiden einer Nanoröhren-Dünnschicht über einem Substrat, um eine Schicht einer Nanoröhren-Dünnschicht zu erzeugen; Entfernen von Verunreinigungen von einer Oberfläche der Schicht der Nanoröhren-Dünnschicht, die das Substrat nicht berührt, um eine gereinigte Schicht einer Nanoröhren-Dünnschicht zu erzeugen; Abscheiden einer Schicht Graphen über der gereinigten Schicht der Nanoröhren-Dünnschicht, um eine Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht zu erzeugen; und Entfernen von Verunreinigungen von einer Oberfläche der Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht, um eine gereinigte Nanoröhren-Graphen-Hybriddünnschicht zu erzeugen, wobei die Hybriddünnschicht eine verbesserte elektrische Leistungsfähigkeit dadurch aufweist, dass der Widerstand der Nanoröhren verringert wird, indem die Kontaktfläche durch die Verwendung von Graphen als Brücke vergrößert wird.
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公开(公告)号:DE112012002564T5
公开(公告)日:2014-02-27
申请号:DE112012002564
申请日:2012-06-05
Applicant: IBM
Inventor: HONG AUGUSTIN J , TULEVSKI GEORGE S , CHANDRA BHUPESH , SADANA DEVENDRA K , KIM JEEHWAN
IPC: H01L31/00
Abstract: Eine photovoltaische Einheit und ein Verfahren beinhalten einen photovoltaischen Stapel mit einer n-dotierten Schicht (112), einer p-dotierten Schicht (108) und einer intrinsischen Schicht (110). Eine transparente Elektrode (104) ist auf dem photovoltaischen Stapel ausgebildet und beinhaltet eine Schicht (105) auf der Grundlage von Kohlenstoff und eine Schicht (107) aus einem Metall mit einer hohen Austrittsarbeit. Die Schicht aus dem Metall mit einer hohen Austrittsarbeit ist an einer Grenzfläche zwischen der Schicht auf der Grundlage von Kohlenstoff und der p-dotierten Schicht derart angeordnet, dass die Schicht aus dem Metall mit einer hohen Austrittsarbeit einen Kontakt mit verringerter Barriere bildet und lichtdurchlässig ist.
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10.
公开(公告)号:GB2497176A
公开(公告)日:2013-06-05
申请号:GB201220382
申请日:2012-11-13
Applicant: IBM
Inventor: AFZALI-ARDAKANI ALI , CHANDRA BHUPESH , TULEVSKI GEORGE STOJAN
Abstract: A composition and method for forming a field effect transistor with a stable n-doped nano-component. The method includes forming a gate dielectric on a gate, forming a channel comprising a nano-component on the gate dielectric, forming a source over a first region of the nano-component, forming a drain over a second region of the nano-component to form a field effect transistor, and exposing a portion of a nano-component of a field effect transistor to dihydrotetraazapentacene (Fig., each of R1, R2, R3, and R4 can be hydrogen, an alkyl group of C1 to C16 carbons, an alkoxy group, an alkylthio group, a trialkylsilane group, a hydroxymethyl group, a carboxylic acid group or a carboxylic ester group) to produce a stable n-doped nano-component. Dihydrotetraazapentacene may be applied in solution with DMSO, DMF or NMP as solvent. The nano-component is preferably a carbon nanotube, a semi-conductor nanotube, semiconductor nanocrystal, a semiconductor nanowire or it comprises elements of groups III, IV, V and VI.
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