公开(公告)号：DE102014106339A1

公开(公告)日：2014-11-13

申请号：DE102014106339

申请日：2014-05-07

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： DENIFL GÜNTER ,  GRILLE THOMAS ,  HEDENIG URSULA ,  HIRSCHLER JOACHIM ,  KAHN MARKUS ,  KÜNLE MATTHIAS ,  MAURER DANIEL ,  MÖNNICH ROLAND ,  SCHÖNHERR HELMUT

IPC: C23C16/26 ,  C23C16/22

Abstract: Kohlenstoffschichten mit reduziertem Wasserstoffgehalt können durch Auswahl entsprechender Verarbeitungsparameter mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung abgeschieden werden. Solche Kohlenstoffschichten können einer Hochtemperaturbearbeitung unterzogen werden, ohne eine übermäßige Schrumpfung zu zeigen.

公开(公告)号：DE102015111891A1

公开(公告)日：2017-01-26

申请号：DE102015111891

申请日：2015-07-22

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： DENIFL GÜNTER ,  MÖNNICH ROLAND ,  EIGLER WERNER ,  KÜCK DANIEL

IPC: H01L21/314 ,  H01L21/22 ,  H01L21/324

Abstract: Ein Verfahren zum Schützen einer Oberfläche (101a) eines Substrats (101) wird offenbart. Das Verfahren umfasst: Bearbeiten des Substrats (101); Ausbilden einer pyrolytischen Kohlenstoffschicht (120) auf mindestens einer Oberfläche (101a) des Substrats (101); und Unterziehen des Substrats (101) einer Wärmebehandlung, insbesondere bei einer Temperatur von über etwa 1300°C, typischerweise über etwa 1400°C.