公开(公告)号：EP2325695A4

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：EP09813111

申请日：2009-09-10

Applicant: JSR CORP

Inventor： EBATA TAKUMA ,  NAKAGAWA HIROKI ,  MATSUDA YASUHIKO ,  KASAHARA KAZUKI ,  HOSHIKO KENJI ,  NAKASHIMA HIROMITSU ,  IKEDA NORIHIKO ,  SAKAI KAORI ,  HARADA SAKI

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: A radiation-sensitive resin composition includes (A) a polymer, (B) a photoacid generator, (C) an acid diffusion controller, and (D) a solvent, the polymer (A) including a repeating unit (a-1) shown by the following general formula (a-1), and the acid diffusion controller (C) including at least one base selected from (C-1) a base shown by the following general formula (C-1) and (C-2) a photodegradable base. wherein R 1 individually represent a hydrogen atom or the like, R represents a monovalent group shown by the above general formula (a'), R 19 represents a chain-like hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or the like, A represents a divalent chain-like hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or the like, m and n are integers from 0 to 3 (m+n=1 to 3), and R 2 and R 3 individually represent a monovalent chain-like hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the like, provided that the two R 2 may bond to form a ring structure.

公开(公告)号：EP2479614A4

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：EP10817289

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR CORP

Inventor： ASANO YUUSUKE ,  SATOU MITSUO ,  NAKASHIMA HIROMITSU ,  KASAHARA KAZUKI ,  OIZUMI YOSHIFUMI ,  HORI MASAFUMI ,  KAWAKAMI TAKANORI ,  MATSUDA YASUHIKO ,  NAKAHARA KAZUO

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: A radiation-sensitive resin composition includes (A) a polymer that includes an acid-labile group, (B) an acid generator that generates an acid upon exposure to radiation, and (C) a polymer that includes a fluorine atom and a functional group shown by the following general formula (x), the polymer (C) having a fluorine atom content higher than that of the polymer (A). €ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ-A-R 1 €ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ(x) wherein R 1 represents an alkali-labile group, and A represents an oxygen atom (excluding an oxygen atom that is bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group), an imino group, -CO-O-*, or -SO 2 -O-* (wherein "*" indicates a bonding hand bonded to R 1 ).

Abstract translation: 一种辐射敏感树脂组合物包括（A）的聚合物没包括在基酸不稳定，（B）以酸产生剂在暴露生成酸在辐射中，以及（C）的聚合物确实包括氟原子和官能团 通过具有氟原子的含量比聚合物（A）的较高的下述通式（X）中，聚合物（C）中所示。 €ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ-AR 1€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ（x）的worin，R 1碱不稳定的基团的darstellt，和氧原子的darstellt（不含 到处于芳环，羰基，或亚砜一组）直接键合到氧原子，以亚氨基，-CO-O- *， - O-或-SO 2 *（worin“*”表示结合手 结合到R 1）。

公开(公告)号：EP2439590A4

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：EP10783419

申请日：2010-06-02

Applicant: JSR CORP

Inventor： MATSUDA YASUHIKO ,  FUJISAWA TOMOHISA ,  HAMA YUKARI ,  KAWAKAMI TAKANORI

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08F20/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

公开(公告)号：EP2325694A4

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：EP09813128

申请日：2009-09-10

Applicant: JSR CORP

Inventor： NISHIMURA YUKIO ,  MATSUDA YASUHIKO ,  NAKAGAWA HIROKI ,  FUJISAWA TOMOHISA ,  HAMA YUKARI ,  KASAHARA KAZUKI

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

公开(公告)号：JP2013040131A

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：JP2011178149

申请日：2011-08-16

Applicant: Jsr Corp ,  Jsr株式会社

Inventor： MATSUDA YASUHIKO ,  SHIMIZU MAKOTO ,  HOSHIKO KENJI ,  ASANO YUSUKE ,  MARUYAMA KEN

IPC: C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C08F20/18 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive acid generator that can provide a photoresist composition excellent in an EL (Exposure Latitude), reducing LWR (Line Width Roughness) of a pattern obtained therefrom and improving lithographic characteristics.SOLUTION: A compound expressed by formula (1) is provided. In formula (1), Rpreferably represents a 1-20C chain hydrocarbon group. Also a photoresist composition is provided, comprising [A] the compound and [B] a polymer having a structural unit (I) including an acid dissociable group.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够提供EL（曝光宽度）优异的光致抗蚀剂组合物的辐射敏感性酸产生器，从而减少由其获得的图案的LWR（线宽粗糙度）并提高光刻特性。 解决方案：提供由式（1）表示的化合物。 在式（1）中，R“优选代表1-20C链烃基。 还提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包含[A]化合物和[B]具有包含酸可离解基团的结构单元（I）的聚合物。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010066503A

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：JP2008232552

申请日：2008-09-10

Applicant: Jsr Corp ,  Jsr株式会社

Inventor： EHATA TAKUMA ,  NAKAGAWA DAIKI ,  MATSUDA YASUHIKO ,  KASAHARA KAZUKI ,  HOSHIKO KENJI

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  C08F220/26 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive resin composition capable of achieving large depth of focus, small LWR and MEEF, excellent characteristic for preventing the occurrence of pattern collapse, and excellent performance for preventing the occurrence of defect in development. SOLUTION: This radiation sensitive resin composition contains a resin (A), a radiation sensitive acid generator (B), an acid diffusion inhibitor (C), and a solvent (D). The resin (A) is a polymer having a repeating unit (a-1) having a cyclic carbonic ester structure on a side chain. The acid diffusion inhibitor (C) is a nitrogen-containing compound having a specific structure. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 解决问题：为了提供能够实现大的聚焦深度，小的LWR和MEEF的辐射敏感性树脂组合物，具有优异的防止图案塌陷的特性，以及优异的防止发展缺陷的性能。 解决方案：该辐射敏感性树脂组合物含有树脂（A），辐射敏感性酸产生剂（B），酸扩散抑制剂（C）和溶剂（D）。 树脂（A）是在侧链具有环状碳酸酯结构的重复单元（a-1）的聚合物。 酸扩散抑制剂（C）是具有特定结构的含氮化合物。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2014199360A

公开(公告)日：2014-10-23

申请号：JP2013075241

申请日：2013-03-29

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr Corp ,  Jsr株式会社

Inventor： ASANO YUSUKE ,  MOCHIDA KENJI ,  MATSUDA YASUHIKO

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/28 ,  C08F20/36 ,  C08F20/38 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: 【課題】EL性能、LWR性能、CDU性能及びトップロス抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。下記式(1)中、R3〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜6の1価の鎖状炭化水素基若しくは炭素数3〜15の1価の脂環式炭化水素基であるか、又はR3〜R7のうちの2つ以上が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数3〜20の脂環構造を表す。【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供EL（曝光宽容度）性能，LWR（线宽粗糙度）性能，CDU（临界尺寸均匀性）性能和顶部损失抑制性能优异的辐射敏感性树脂组合物。解决方案：辐射敏感性 树脂组合物包含[A]具有由下述式（1）表示的结构单元（I）的聚合物和[B]辐射敏感性酸产生剂。 在式（1）中，Rto Reach独立地表示氢原子，碳原子数1〜6的一价直链烃基或碳原子数3〜15的1价脂肪族烃基，或者R〜Rare中相互结合的两个以上的基团 构成具有3〜20个碳原子的脂环结构以及与这些基团键合的碳原子。

公开(公告)号：JP2012215694A

公开(公告)日：2012-11-08

申请号：JP2011080889

申请日：2011-03-31

Applicant: Jsr Corp ,  Jsr株式会社

Inventor： IKEDA MASATOSHI ,  TOMIOKA HIROSHI ,  MATSUDA YASUHIKO ,  SHIMIZU MAKOTO ,  HOSHIKO KENJI

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoresist composition that is superior in lithographic characteristics such as CDU even in the formation of a fine pattern; and a resist pattern forming method.SOLUTION: A photoresist composition comprises [A] an acid-dissociable group-containing polymer including an adamantyl group and an adamantane ring having a structural unit including a γ-butyrolactone ring and [B] an acid generator, in which the content of the structural unit is more than 60 mol%.

Abstract translation: 解决的问题：提供即使在精细图案的形成中也具有优异的光刻特性例如CDU的光致抗蚀剂组合物; 和抗蚀剂图案形成方法。 解决方案：光致抗蚀剂组合物包含[A]含有金刚烷基的含酸解离基团的聚合物和具有包含γ-丁内酯环的结构单元的金刚烷环和[B]酸产生剂，其中含量 的结构单位为60摩尔％以上。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010126696A

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：JP2008305615

申请日：2008-11-28

Applicant: Jsr Corp ,  Jsr株式会社

Inventor： NISHIMURA YUKIO ,  MATSUDA YASUHIKO ,  SAKAI KAORI ,  SUGIURA MAKOTO

IPC: C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist satisfying excellent resolution, small LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent in non-defectiveness, and to provide a polymer usable as a resin component in the radiation-sensitive resin composition. SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition includes a resin (A) and a radiation-sensitive acid generator (B). The resin (A) is a polymer including a specific repeating unit (a-1) derived from a (meth)acrylic ester substituted by an oxyalkylene group having norbornane lactone at a terminal, a specific repeating unit (a-2) derived from a (meth)acrylic ester having a sulfonamide group, and a repeating unit (a-3) having an acid dissociable group. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供可用作满足优异分辨率，小LWR（线宽粗糙度），优异的图案抗塌陷性和优异的非缺陷性的化学放大抗蚀剂的辐射敏感性树脂组合物，并提供聚合物 可用作辐射敏感性树脂组合物中的树脂组分。 解决方案：辐射敏感性树脂组合物包括树脂（A）和辐射敏感性酸产生剂（B）。 树脂（A）是包含由末端具有降冰片烷内酯的氧化烯基取代的（甲基）丙烯酸酯衍生的特定重复单元（a-1）的聚合物，来源于 具有磺酰胺基的（甲基）丙烯酸酯和具有酸解离基团的重复单元（a-3）。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010126581A

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：JP2008300971

申请日：2008-11-26

Applicant: Jsr Corp ,  Jsr株式会社

Inventor： NISHIMURA YUKIO ,  MATSUDA YASUHIKO ,  SAKAI KAORI ,  SUGIURA MAKOTO

IPC: C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin and a radiation-sensitive resin composition satisfying excellent resolution, small LWR (Line Width Roughness), good PEB (Post Exposure Bake) temperature dependency, excellent pattern collapse resistance and low defectiveness, that is, excellent in non-defectiveness. SOLUTION: The resin is a copolymer resin (A) of a (meth)acrylic ester of an alcohol having a heterocycle in which a norbornane ring and a lactone ring are condensed and a (meth)acrylic ester of an alcohol having a cyclopentane ring. The radiation-sensitive resin composition includes the resin and a radiation-sensitive acid generator (B). COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供满足优异分辨率，小LWR（线宽粗糙度），良好的PEB（曝光后烘烤）温度依赖性，优异的图案抗塌陷性和低的耐辐射敏感性树脂组合物 缺陷性，即非缺陷性优异。 解决方案：树脂是具有其中降冰片烷环和内酯环缩合的杂环的醇的（甲基）丙烯酸酯的共聚物树脂（A）和具有下式的醇的（甲基）丙烯酸酯： 环戊烷环。 辐射敏感性树脂组合物包括树脂和辐射敏感性酸产生剂（B）。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT