公开(公告)号：DE102014110208A1

公开(公告)日：2016-01-21

申请号：DE102014110208

申请日：2014-07-21

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： SCHULZ CHRISTIAN ,  SCHUMANN CHRISTIAN ,  GONSCHIOR CORNELL ,  BAUER TOBIAS

IPC: G02B21/02 ,  G02B3/04 ,  G02B21/24

Abstract: Beschrieben ist ein Mikroskop (21, 40, 60) mit mindestens einer in einem Strahlengang angeordneten Korrektionseinheit (10) zum Korrigieren eines veränderlichen sphärischen Abbildungsfehlers. Die Korrektionseinheit (10) umfasst mindestens ein optisches Korrektionselement (12), das in einem konvergenten oder divergenten Bereich (14) des Strahlengangs längs der optischen Achse (O) verschiebbar angeordnet ist. Das optische Korrektionselement (12) hat eine Korrektionsfläche (18), deren von dem konvergenten oder divergenten Bereich (14) des Strahlengangs durchsetzter Teil einen korrektionswirksamen Flächenabschnitt (20) bildet, dessen radiale Ausdehnung quer zur optischen Achse (O) durch Verschieben des Korrektionselementes (12) längs der optischen Achse (O) änderbar ist.

公开(公告)号：DE102013203628B4

公开(公告)日：2020-06-10

申请号：DE102013203628

申请日：2013-03-04

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： BAUER TOBIAS ,  SCHULZ CHRISTIAN

IPC: G02B21/02 ,  G02B21/24

Abstract: Immersionsobjektiv (100) für Mikroskope, wobei das Objektiv eine numerische Apertur von NA > 1,36 besitzt und eine Frontlinsengruppe (101) aufweist, die als erstes objektseitiges optisches Element eine Planparallelplatte (103) und als zweites optisches Element eine Überhalbkugel (102) aufweist, wobei die Planparallelplatte (103) an die plane Seite der Überhalbkugel (102) angesprengt ist.

公开(公告)号：DE102018125997A1

公开(公告)日：2020-04-23

申请号：DE102018125997

申请日：2018-10-19

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： SCHUMANN CHRISTIAN ,  BAUER TOBIAS

IPC: G02B21/00 ,  G01B9/02 ,  G01N21/41

Abstract: Ein Verfahren zur digitalen Korrektion einer optischen Abbildung einer Probe mittels eines Mikroskops (10), wobei das Mikroskop (10) ein die Probe bedeckendes Deckglas (14) hat, wobei durch das Mikroskop (10) der Brechungsindex eines an das Deckglas (14) grenzenden optischen Mediums (20) und/oder die Dicke des Deckglases (14) bestimmt werden, auf Grundlage des Brechungsindex des optischen Mediums (20) und/oder der Dicke des Deckglases (14) ein zu korrigierender Abbildungsfehler in Form einer Pupillenfunktion ermittelt wird, die Abbildung der Probe durch das Mikroskop (10) erfolgt und durch die Abbildung der Probe erfassten Bilddaten auf Grundlage der Pupillenfunktion digital korrigiert werden.

公开(公告)号：DE102012219239A1

公开(公告)日：2014-04-24

申请号：DE102012219239

申请日：2012-10-22

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： SCHUMANN CHRISTIAN ,  KRÜGER RALF ,  BAUER TOBIAS ,  SCHULZ CHRISTIAN

IPC: G02B21/06

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung für ein optisches Gerät, insbesondere ein Mikroskop oder Makroskop, wobei von einer Beleuchtungsquelle emittiertes Licht über einen Beleuchtungsstrahlengang auf ein zu beleuchtendes Objekt, wobei wenigstens eine in dem Beleuchtungsstrahlengang positionierbare transparente oder semitransparente, selbstleuchtende Schicht, welche mit einer Anzahl von einzeln ansteuerbaren Bereichen zur Bereitstellung einer positionsabhängigen Beleuchtungskorrektur ausgebildet ist.

公开(公告)号：DE102012219237A1

公开(公告)日：2014-04-24

申请号：DE102012219237

申请日：2012-10-22

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： SCHUMANN CHRISTIAN ,  MÜLLER-RENTZ ARNOLD ,  BAUER TOBIAS ,  HERMANNS KLAUS

IPC: G02B21/06

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung für ein optisches Gerät, insbesondere ein Mikroskop oder Makroskop, wobei von einer Beleuchtungsquelle emittiertes Licht über einen Beleuchtungsstrahlengang auf ein zu beleuchtendes Objekt gegeben wird, wobei wenigstens eine in dem Beleuchtungsstrahlengang positionierbare transparente oder semitransparente, selbstleuchtende Schicht.

公开(公告)号：DE102011084562A1

公开(公告)日：2013-04-18

申请号：DE102011084562

申请日：2011-10-14

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： KNEBEL WERNER DR ,  BAUER TOBIAS ,  EUTENEUER PETER

IPC: G02B21/00

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Feststellung eines sphärischen Fehlers eines Mikroskop-Abbildungsstrahlengangs (7) bei einer mikroskopischen Abbildung einer Probe (9) mittels eines ein Objektiv (10) aufweisenden Mikroskops (1), wobei ein die Probe (9) tragendes oder bedeckendes Deckglas (2) im Abbildungsstrahlengang angeordnet ist, wobei ein Messstrahl (130) dezentriert außerhalb der optischen Achse (8) des Objektivs (10) durch das Objektiv (10) auf die Probe (9) und der an der Grenzfläche (116) des Deckglases zur Probe (9) reflektierte Messstrahl (132) über das Objektiv (10) auf einen Detektor (128) geleitet wird, der das Intensitätsprofil des reflektierten Messstrahls (132) aufnimmt, und wobei aus diesem Intensitätsprofil das Vorliegen eines sphärischen Fehlers qualitativ und/oder quantitativ bestimmt wird.

公开(公告)号：DE102011084562B4

公开(公告)日：2018-02-15

申请号：DE102011084562

申请日：2011-10-14

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： KNEBEL WERNER DR ,  BAUER TOBIAS ,  EUTENEUER PETER

IPC: G02B21/00

Abstract: Verfahren zur Feststellung eines sphärischen Fehlers eines Mikroskop-Abbildungsstrahlengangs (7) bei einer mikroskopischen Abbildung einer Probe (9) mittels eines ein Objektiv (10) aufweisenden Mikroskops (1), wobei ein die Probe (9) tragendes oder bedeckendes Deckglas (2) im Abbildungsstrahlengang angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass ein Messstrahl (130) dezentriert außerhalb der optischen Achse (8) des Objektivs (10) durch das Objektiv (10) auf die Probe (9) und der an der Grenzfläche (116) des Deckglases (2) zur Probe (9) reflektierte Messstrahl (132) über das Objektiv (10) auf einen Detektor (128) geleitet wird, der ein Intensitätsprofil des an der Grenzfläche (116) zwischen Deckglas (2) und Probe (9) reflektierten Messstrahls (132) aufnimmt, und dass durch Auswertung der Signalform dieses Intensitätsprofils das Vorliegen eines sphärischen Fehlers qualitativ und/oder quantitativ bestimmt wird.

公开(公告)号：DE102016108987A1

公开(公告)日：2017-11-16

申请号：DE102016108987

申请日：2016-05-13

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： SCHUMANN CHRISTIAN ,  GONSCHIOR CORNELL PETER ,  WEISS ALBRECHT ,  BAUER TOBIAS

IPC: G02B21/06 ,  G02B21/00 ,  G02B27/10 ,  G02B27/28

Abstract: Die Erfindung betrifft ein optisches Rastermikroskop (1, 2, 3), das ein Beleuchtungssystem (20) mit einem von einer Lichtquelle (100) ausgehenden Lichtquellenabschnitt (100–103), einem ersten und einem zweiten polarisationsabhängigen Strahlteiler (105a, 105b) und einem ersten und einem zweiten optischen Kanal (21, 22) zwischen dem ersten und dem zweiten Strahlteiler (105a, 105b) umfasst, wobei der Lichtquellenabschnitt (100–103) dazu eingerichtet ist, einen ersten Beleuchtungslichtstrahl (203) mit Licht einer ersten und einer zweiten Hauptpolarisationsrichtung abzustrahlen, der erste Strahlteiler (105a) dazu eingerichtet ist, das Licht der ersten Hauptpolarisationsrichtung zumindest überwiegend in den ersten (21) und das Licht der zweiten Hauptpolarisationsrichtung zumindest überwiegend in den zweiten Kanal (22) zu führen, der zweite Strahlteiler (105b) dazu eingerichtet ist, aus Licht der ersten Hauptpolarisationsrichtung aus dem ersten (21) und aus Licht der zweiten Hauptpolarisationsrichtung aus dem zweiten Kanal (22) einen zweiten Beleuchtungslichtstrahl (204) zu bilden, und die Kanäle (21, 22) dazu eingerichtet sind, das Licht der ersten Hauptpolarisationsrichtung aus dem ersten (21) und das Licht der zweiten Hauptpolarisationsrichtung aus dem zweiten Kanal (22) mit unterschiedlichen Konvergenzwinkeln auszustrahlen. Ein entsprechendes Verfahren ist ebenfalls Gegenstand der Erfindung.

公开(公告)号：DE102014110208B4

公开(公告)日：2022-05-25

申请号：DE102014110208

申请日：2014-07-21

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： SCHULZ CHRISTIAN ,  SCHUMANN CHRISTIAN ,  GONSCHIOR CORNELL ,  BAUER TOBIAS

IPC: G02B21/02 ,  G02B3/04 ,  G02B13/18 ,  G02B21/24 ,  G02B27/42

Abstract: Abtastmikroskop (21) mit einem Abtastmodul (26), einem Hauptstrahlteiler (24) und mindestens einer in einem Strahlengang angeordneten Korrektionseinheit (10) zum Korrigieren eines veränderlichen sphärischen Abbildungsfehlers, wobei die mindestens eine Korrektionseinheit (10) zwischen dem Hauptstrahlteiler (24) und dem Abtastmodul (26) angeordnet ist,die mindestens eine Korrektionseinheit (10) mindestens ein optisches Korrektionselement (12) umfasst, das in einem konvergenten oder divergenten Bereich (14) des Strahlengangs längs der optischen Achse (O) verschiebbar angeordnet ist, unddas optische Korrektionselement eine Korrektionsfläche (18) aufweist, deren von dem konvergenten oder divergenten Bereich (14) des Strahlengangs durchsetzter Teil einen korrektionswirksamen Abschnitt (20) bildet, dessen radiale Ausdehnung quer zur optischen Achse (O) durch Verschieben des Korrektionselementes (12) längs der optischen Achse (O) änderbar ist.

公开(公告)号：DE102018126000A1

公开(公告)日：2020-04-23

申请号：DE102018126000

申请日：2018-10-19

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS

Inventor： HITZLER SEBASTIAN ,  SIEPER JOCHEN ,  SCHUMANN CHRISTIAN ,  BAUER TOBIAS

IPC: G02B21/02 ,  G01B9/02 ,  G01N21/41

Abstract: Ein Objektiv für ein Mikroskop (10), mit einem Korrektionsmittel (14), das zum Korrigieren eines Abbildungsfehlers einstellbar ist, wobei das Objektiv (12) einen nichtflüchtigen Speicherbaustein (32) hat, auf dem wenigstens eine dem zu korrigierenden Abbildungsfehler zugeordnete und für das Objektiv (12) individuelle Stellgröße gespeichert ist, anhand derer das Korrektionsmittel (14) einstellbar ist. Verfahren zum Korrigieren eines Abbildungsfehlers eines Mikroskops (10) mit einem Objektiv (12), bei dem ein in dem Objektiv (12) angeordnetes Korrektionsmittel (14) zum Korrigieren des Abbildungsfehlers eingestellt wird, wobei in dem Objektiv (12) wenigstens eine dem Abbildungsfehler zugeordnete und für das Objektiv (12) individuelle Stellgröße des Korrektionsmittels (14) gespeichert wird, anhand derer das Korrektionsmittel (14) einstellbar ist.